表面处理方法及设备
    4.
    发明公开

    公开(公告)号:CN1275790A

    公开(公告)日:2000-12-06

    申请号:CN99117781.9

    申请日:1999-08-13

    CPC classification number: H01J37/32706 C23C14/48 H01J37/32412

    Abstract: 本发明涉及一种通过产生包含注入到要处理的工件中的所需离子的等离子体来进行表面处理的方法,即使要处理的物体是绝缘体也能实施该表面处理方法。还涉及通过向绝缘体注入离子来改善绝缘体表面的表面处理设备,其中包括产生包含注入离子的等离子体的等离子体发生装置,和向绝缘体施加脉冲型电压的电压施加装置。其中,电压施加装置施加包括正脉冲型电压和负脉冲型电压的脉冲型电压。

    反射偏振片与彩色液晶显示装置

    公开(公告)号:CN1776505A

    公开(公告)日:2006-05-24

    申请号:CN200510125061.1

    申请日:2005-11-18

    CPC classification number: G02F1/133536 G02B5/3041 G02F1/133603

    Abstract: 本发明是在不使用高双折射聚合物的情况下形成的一种反射偏振片。本发明提供这样一种反射偏振片,通过利用双折射特性偏振/分离入射光,它可以使偏振方向平行于入射光的第一偏振面的第一线性偏振分量透射过去,并反射偏振方向平行于与第一偏振面相垂直的第二偏振面的第二线性偏振分量。该反射偏振片包括一种电介质多层膜,该电介质多层膜是通过多次交替堆叠高折射率层和低折射率层而形成的,其中高折射率层是通过使用具有双折射特性的电介质材料而形成的,而低折射率层在形成过程中所使用的是这样一种电介质材料,该电介质材料的折射率基本上与具有双折射特性的电介质材料所具有的折射率之一相同。

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