公开(公告)号：CN1706925A

公开(公告)日：2005-12-14

申请号：CN200510075587.3

申请日：2005-06-06

Applicant: 索尼株式会社 ,  株式会社东芝 ,  关东化学株式会社

Inventor： 村松真文 ,  浅田和己 ,  萩野友纪乃 ,  奥山敦 ,  中岛崇人 ,  高濑和彦 ,  鱼住宜弘 ,  松村刚 ,  大和田拓央 ,  石川典夫

IPC: C11D3/24 ,  H01L21/302 ,  G03F7/42

CPC classification number: C11D11/0047 ,  C11D3/042 ,  C11D3/046 ,  C11D3/2075 ,  C11D3/2082 ,  C11D3/2086 ,  C11D3/245 ,  C11D7/08 ,  C11D7/10 ,  C11D7/265 ,  C11D7/32 ,  C23G1/24 ,  H01L21/02063 ,  H01L21/76811

Abstract: 本发明提供一种不使蚀刻形状变化而可以除去在绝缘膜的干蚀刻时在蚀刻壁面产生的残渣(特别是聚合物残渣)的洗涤液组合物。该洗涤液组合物用于绝缘膜的图案蚀刻的后处理洗涤，含有至少一种氟化合物、乙醛酸、至少一种有机酸盐及水。氟化合物使用氟化铵。有机酸盐使用草酸铵、酒石酸铵、柠檬酸铵、以及乙酸铵中的至少一种。

公开(公告)号：CN1575057A

公开(公告)日：2005-02-02

申请号：CN200410055016.9

申请日：2004-05-31

Applicant: 索尼株式会社

Inventor： 横山诚一 ,  大和田拓央 ,  石川典夫

IPC: H05B33/10 ,  H05B33/26 ,  H05B33/22 ,  H05B33/12 ,  G09F9/35 ,  H01L23/48

CPC classification number: G02F1/13439 ,  G02F1/133553 ,  H01L27/1214 ,  H01L27/3211 ,  H01L27/322 ,  H01L27/3244 ,  H01L51/5218 ,  H01L51/5228 ,  H01L51/5234 ,  H01L51/5243 ,  H01L51/5246 ,  H01L51/5253 ,  H01L51/5265 ,  H01L51/56 ,  H01L2251/5315

Abstract: 本发明提供一种制造叠层结构的方法，其能够通过防止侧面蚀刻构图成所需形状。将由ITO等制成的粘接层、由银或含银合金制成的反射层、由ITO等制成的阻挡层依次层叠在基材上，其间具有作为基底层的平面化层，之后，在阻挡层上形成掩模，并利用该掩模同时蚀刻粘接层、反射层和阻挡层，以形成叠层结构。作为蚀刻气体的实例，优选包含甲烷(CH4)的气体。该叠层结构用作阳极，并在叠层结构上依次层叠绝缘膜、包括发光层的有机层和作为阴极的公共电极，以便形成有机发光器件。该叠层结构可以用作液晶显示器的反射电极、反射膜或配线。

公开(公告)号：CN1846173B

公开(公告)日：2011-01-19

申请号：CN200480024889.1

申请日：2004-08-27

Applicant: 索尼株式会社 ,  关东化学株式会社

Inventor： 大和田拓央 ,  石川典夫 ,  横山诚一

IPC: G03F7/42 ,  H01L21/30 ,  H05B33/26 ,  G02F1/1343

CPC classification number: G03F7/425

Abstract: 本发明提供一种可以适用于含有银和/或银合金的基板的光致抗蚀剂剥离液组合物，其中含有从下述的式(I)所表示的化合物、下述的式(II)所表示的化合物、下述的式(III)所表示的化合物、邻苯二酚、对苯二酚、连苯三酚、没食子酸、没食子酸酯之中选择的一种、两种或更多种、以及一种、两种或更多种极性有机溶剂，式(I)NH2-A-Y-B-Z(上式中，A、B分别相互独立地为直链状或支链状的碳原子数为1～5的亚烷基，Y为NH或O的任一个，Z为NH2、OH、NH-D-NH2，其中，D为直链状或支链状的碳原子数为1～5的亚烷基)；式(II)NH2-A-N(-B-OH)2(上式中，A、B与式(I)的相同)；式(III)(上式中，R为H、碳原子数为1～5的烷基、碳原子数为1～5的羟基烷基或碳原子数为1～5的氨基烷基)。

公开(公告)号：CN100529039C

公开(公告)日：2009-08-19

申请号：CN200510075587.3

申请日：2005-06-06

Applicant: 索尼株式会社 ,  株式会社东芝 ,  关东化学株式会社

Inventor： 村松真文 ,  浅田和己 ,  萩野友纪乃 ,  奥山敦 ,  中岛崇人 ,  高濑和彦 ,  鱼住宜弘 ,  松村刚 ,  大和田拓央 ,  石川典夫

IPC: C11D3/24 ,  H01L21/302 ,  G03F7/42

CPC classification number: C11D11/0047 ,  C11D3/042 ,  C11D3/046 ,  C11D3/2075 ,  C11D3/2082 ,  C11D3/2086 ,  C11D3/245 ,  C11D7/08 ,  C11D7/10 ,  C11D7/265 ,  C11D7/32 ,  C23G1/24 ,  H01L21/02063 ,  H01L21/76811

Abstract: 本发明提供一种不使蚀刻形状变化而可以除去在绝缘膜的干蚀刻时在蚀刻壁面产生的残渣(特别是聚合物残渣)的洗涤液组合物。该洗涤液组合物用于绝缘膜的图案蚀刻的后处理洗涤，含有至少一种氟化合物、乙醛酸、至少一种有机酸盐及水。氟化合物使用氟化铵。有机酸盐使用草酸铵、酒石酸铵、柠檬酸铵、以及乙酸铵中的至少一种。

公开(公告)号：CN100405633C

公开(公告)日：2008-07-23

申请号：CN200410055016.9

申请日：2004-05-31

Applicant: 索尼株式会社

Inventor： 横山诚一 ,  大和田拓央 ,  石川典夫

IPC: H01L51/56 ,  H01L51/52 ,  G09F9/35 ,  H01L23/48

CPC classification number: G02F1/13439 ,  G02F1/133553 ,  H01L27/1214 ,  H01L27/3211 ,  H01L27/322 ,  H01L27/3244 ,  H01L51/5218 ,  H01L51/5228 ,  H01L51/5234 ,  H01L51/5243 ,  H01L51/5246 ,  H01L51/5253 ,  H01L51/5265 ,  H01L51/56 ,  H01L2251/5315

Abstract: 本发明提供一种制造叠层结构的方法，其能够通过防止侧面蚀刻构图成所需形状。将由ITO等制成的粘接层、由银或含银合金制成的反射层、由ITO等制成的阻挡层依次层叠在基材上，其间具有作为基底层的平面化层，之后，在阻挡层上形成掩模，并利用该掩模同时蚀刻粘接层、反射层和阻挡层，以形成叠层结构。作为蚀刻气体的实例，优选包含甲烷(CH4)的气体。该叠层结构用作阳极，并在叠层结构上依次层叠绝缘膜、包括发光层的有机层和作为阴极的公共电极，以便形成有机发光器件。该叠层结构可以用作液晶显示器的反射电极、反射膜或配线。

公开(公告)号：CN1846173A

公开(公告)日：2006-10-11

申请号：CN200480024889.1

申请日：2004-08-27

Applicant: 索尼株式会社 ,  关东化学株式会社

Inventor： 大和田拓央 ,  石川典夫 ,  横山诚一

IPC: G03F7/42 ,  H01L21/30 ,  H05B33/26 ,  G02F1/1343

CPC classification number: G03F7/425

Abstract: 本发明提供一种可以适用于含有银和/或银合金的基板的光致抗蚀剂剥离液组合物，其中含有从下述的式(I)所表示的化合物、下述的式(II)所表示的化合物、下述的式(III)所表示的化合物、邻苯二酚、对苯二酚、连苯三酚、没食子酸、没食子酸酯之中选择的一种、两种或更多种、以及一种、两种或更多种极性有机溶剂，式(I)中，A、B分别相互独立地为直链状或支链状的碳原子数为1～5的亚烷基，Y为NH或O的任一个，Z为NH2、OH、NH－D－NH2，其中，D为直链状或支链状的碳原子数为1～5的亚烷基；式(II)中，A、B与式(I)的相同；式(III)中，R为H、碳原子数为1～5的烷基、碳原子数为1～5的羟基烷基或碳原子数为1～5的氨基烷基。