公开(公告)号：CN1304528A

公开(公告)日：2001-07-18

申请号：CN00800805.1

申请日：2000-04-25

Applicant: 索尼株式会社

Inventor： 武田実 ,  古木基裕

IPC: G11B7/24 ,  G11B7/26

CPC classification number: G11B7/261 ,  G11B7/007 ,  G11B7/24 ,  G11B7/24085 ,  G11B7/243 ,  G11B7/2534 ,  G11B7/2542 ,  G11B7/258 ,  G11B7/2585 ,  G11B7/259 ,  G11B7/2595 ,  G11B7/26 ,  G11B7/263

Abstract: 一种能达到15GB或更高的高密度记录的光盘及其制造方法,它具有:根据记录信号形成了凹坑列的光盘基片3、在该光盘基片3的已形成了凹坑列2的面上形成的反射膜4;以及在该反射膜4上形成的透光层5,该记录的读出即再生是从表面的透光层5侧照射波长350nm～420nm的短波长激光,读出以凹坑列形式记录的信号。并且,在该光盘上,从该再生激光所照射的透光层侧看,凹坑列包括长和宽为80nm～250nm的凹坑在内,反射膜的厚度设定为20nm以下,例如8nm以上。

公开(公告)号：CN1174396C

公开(公告)日：2004-11-03

申请号：CN00122461.1

申请日：2000-07-31

Applicant: 索尼株式会社

Inventor： 武田実 ,  古木基裕 ,  今西慎悟

IPC: G11B7/22 ,  G11B7/125 ,  G11B7/135

CPC classification number: G11B7/1387 ,  G03B27/72 ,  G11B7/0937 ,  G11B7/122 ,  G11B7/127 ,  G11B7/261

Abstract: 揭示了一种曝光设备和曝光方法。例如，把准备用于制备光盘的主盘装到曝光装置上，以便对记录密度基本上提高的光盘的主盘进行曝光。由SHG发射的波长为300nm或更短的曝光激光束经调制器的调制，用数值孔径为1.0或更大的物镜利用近场效应加到主盘。

公开(公告)号：CN1282956A

公开(公告)日：2001-02-07

申请号：CN00122461.1

申请日：2000-07-31

Applicant: 索尼株式会社

Inventor： 武田実 ,  古木基裕 ,  今西慎悟

IPC: G11B7/12 ,  G11B7/125 ,  G11B7/135

CPC classification number: G11B7/1387 ,  G03B27/72 ,  G11B7/0937 ,  G11B7/122 ,  G11B7/127 ,  G11B7/261

Abstract: 揭示了一种曝光设备和曝光方法。例如,把准备用于制备光盘的光盘原版装到曝光装置上,以便对记录密度基本上提高的光盘的光盘原版进行曝光。由SHG发射的波长为300nm或更短的曝光激光束经调制器的调制,用数值孔径为1.0或更大的物镜利用近场效应加到光盘原版。