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公开(公告)号：CN1124519C
公开(公告)日：2003-10-15
申请号：CN97196087.9
申请日：1997-06-30
Applicant: 纳幕尔杜邦公司
IPC: G03F1/00
CPC classification number: G03F1/32 , Y10T428/3154 , Y10T428/31612
Abstract: 透射衰减嵌入相移光掩模坯包括至少一种聚合物材料，优选为一种无定形含氟聚合物，或一种掺有氟功能化的有机硅烷的无定形含氟聚合物，和有机硅酸酯，或其组合，此聚合物材料具有：a)在所选择的平版印刷波长在400nm以下时的折射率(n)范围在1.2～2.0，优选在1.26～1.8的范围；和(b)，在所选择的平版印刷波长在400nw以下时的消光系数(k)范围在0.04～0.8，优选在0.06～0.59的范围。
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公开(公告)号：CN101836514A
公开(公告)日：2010-09-15
申请号：CN200880112847.1
申请日：2008-10-23
Applicant: 纳幕尔杜邦公司
CPC classification number: B41M5/38207 , B41M5/392 , H05K3/046 , H05K3/182 , H05K3/185 , H05K2203/0528 , H05K2203/107 , H05K2203/1105
Abstract: 本发明公开了用于制备具有高导电性的金属图案的负像法，所述方法包括提供图案化基板，其通过热成像法随后镀覆以提供金属图案，所述基板包含在底部基板上图案化催化剂层。所提供的金属图案适于电气器件，包括电磁干扰屏蔽装置和触摸板传感器。
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公开(公告)号：CN1368929A
公开(公告)日：2002-09-11
申请号：CN00811426.9
申请日：2000-08-10
Applicant: 纳幕尔杜邦公司
Inventor： I·G·普洛茨克 , S·T·德阿坎格利斯 , T·M·福特 , K·G·夏普
CPC classification number: C08K5/138 , B65D65/38 , C08K5/0091 , C08K5/1345 , C08K5/20 , C08K2201/008 , C08L67/02
Abstract: 通过在形成容器或薄膜的聚合物中加入有效量的一种增阻添加剂,如羟基苯甲酸和羟基萘甲酸的单酯等,降低模塑聚合物容器和薄膜的气体渗透率的聚合物组合物与方法。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN1636135A
公开(公告)日：2005-07-06
申请号：CN02809357.7
申请日：2002-05-01
Applicant: 纳幕尔杜邦公司
IPC: G01M3/20
CPC classification number: G01N1/2226 , G01N15/0826 , G01N2001/2241 , G01N2015/0873
Abstract: 本发明涉及一种同时确定聚合物样品的渗透速率和解吸速率的方法，此方法包括：采用测试样品将第一体积与第二体积密封式地分开，所述样品充满有气体或蒸气的第一同位素；在所述第一体积中引入所述气体或蒸气的第二同位素，所述第二同位素可与所述第一同位素可检测地区分开；在所述第二体积中，将所述气体或蒸气的两种所述同位素的分压调节到与所述第一体积中的所述气体或蒸气的所述第二同位素的分压相比为可忽略的值；以及，可区分地检测所述第二体积中的所述渗入物的各所述扩散同位素的浓度。
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公开(公告)号：CN1191972C
公开(公告)日：2005-03-09
申请号：CN00811426.9
申请日：2000-08-10
Applicant: 纳幕尔杜邦公司
Inventor： I·G·普洛茨克 , S·T·德阿坎格利斯 , T·M·福特 , K·G·夏普
CPC classification number: C08K5/138 , B65D65/38 , C08K5/0091 , C08K5/1345 , C08K5/20 , C08K2201/008 , C08L67/02
Abstract: 本发明涉及一种提高聚合物容器与薄膜，特别是由热塑性聚酯聚合物模塑成型的食品和饮料容器的隔气性的聚合物组合物与方法。更具体地说，本发明是通过在形成容器、片材或薄膜的聚合物中加入有效量的本文所述的增阻添加剂以降低气体通过聚合物模塑容器、片材和薄膜的渗透率的聚合物组合物与方法。
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公开(公告)号：CN101836514B
公开(公告)日：2012-09-05
申请号：CN200880112847.1
申请日：2008-10-23
Applicant: 纳幕尔杜邦公司
CPC classification number: B41M5/38207 , B41M5/392 , H05K3/046 , H05K3/182 , H05K3/185 , H05K2203/0528 , H05K2203/107 , H05K2203/1105
Abstract: 本发明公开了用于制备具有高导电性的金属图案的负像法，所述方法包括提供图案化基板，其通过热成像法随后镀覆以提供金属图案，所述基板包含在底部基板上图案化催化剂层。所提供的金属图案适于电气器件，包括电磁干扰屏蔽装置和触摸板传感器。
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公开(公告)号：CN1224513A
公开(公告)日：1999-07-28
申请号：CN97196087.9
申请日：1997-06-30
Applicant: 纳幕尔杜邦公司
IPC: G03F1/00
CPC classification number: G03F1/32 , Y10T428/3154 , Y10T428/31612
Abstract: 透射衰减嵌入相移光掩模坯包括至少一种聚合物材料,优选为一种无定形含氟聚合物,或一种掺有氟功能化的有机硅烷的无定形含氟聚合物,和有机硅酸酯,或其组合,此聚合物材料具有:a)在所选择的平版印刷波长在400nm以下时的折射率(n)范围在1.2～2.0,优选在1.26～1.8的范围;和(b),在所选择的平版印刷波长在400nw以下时的消光系数(k)范围在0.04～0.8,优选在0.06～0.59的范围。
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公开(公告)号：CN1154709A
公开(公告)日：1997-07-16
申请号：CN95194414.2
申请日：1995-07-18
Applicant: 纳幕尔杜邦公司
Inventor： K·G·夏普
IPC: C08G77/442 , C08J7/04 , C08L83/02
Abstract: 制备具有低表面能和低动摩擦系数的注氟复合材料，方法是将可溶胀聚合物材料与含有溶胀溶剂、有机氟硅烷和胶凝剂的溶液接触。
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