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公开(公告)号：CN111834260A
公开(公告)日：2020-10-27
申请号：CN202010703983.0
申请日：2015-05-29
Abstract: 本申请涉及用于处理基板的装置。该装置包括：器皿，提供处理空间；基板支撑单元，设置在器皿中以支撑基板；喷射构件，在基板上喷射处理溶液以清洗基板；及提升单元，根据处理溶液的种类改变器皿的垂直位置，以允许处理溶液流入预定一个收集瓶，器皿具有内侧面，在内侧面上形成有至少一个纹理图案；器皿包括多个收集瓶，收集瓶具有在垂直方向上位于不同水平高度的入口，至少一个纹理图案设置在收集瓶中每一个的内侧面上、被设置成具有线性形状、包括多个纹理图案，其中一些纹理图案被设置成彼此具有相同的深度或者具有至少两种不同的深度；至少一个纹理图案包括多个纹理图案，其中一些纹理图案被设置成以至少两种不同的距离彼此间隔开。
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公开(公告)号：CN103456664B
公开(公告)日：2019-03-01
申请号：CN201310215171.1
申请日：2013-05-31
Applicant: 细美事有限公司
Abstract: 本发明提供了一种用于干燥基板的装置和方法。该装置包括壳体、基板支撑件、流体供给件、以及排放件。壳体设有在其中执行干燥处理的空间。基板支撑件设置在壳体中以支撑基板。流体供给件包括用于将超临界状态的处理流体供给到壳体的供给管线。排放件包括用于将处理流体从壳体排放出的排放管线。这里，供给管线包括设置为以第一供给流速将处理流体供给到壳体的第一供给管线，以及设置为以第二供给流速将处理流体供给到壳体的第二供给管线。
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公开(公告)号：CN103456665B
公开(公告)日：2017-07-18
申请号：CN201310215172.6
申请日：2013-05-31
Applicant: 细美事有限公司
CPC classification number: H01L21/02101 , B08B7/0021 , F26B21/12 , F26B21/14 , H01L21/67017 , H01L21/67034 , H01L21/67051
Abstract: 本发明提供一种利用超临界流体的基板处理装置。所述基板处理装置包括：壳体；支撑构件，所述支撑构件设置在所述壳体内以支撑基板；超临界流体供应单元，所述超临界流体供应单元中存储有超临界流体；供应管，所述供应管用于将所述超临界流体供应单元连接到所述壳体；由所述供应管分支出来的排气管，以排放所述供应管中残留的超临界流体；用于调节从所述超临界流体供应单元供应到所述壳体内的超临界流体流量的供应阀设置在所述供应管中；用于打开或关闭所述排气管的开关阀设置在所述排气管中。
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公开(公告)号：CN105280524A
公开(公告)日：2016-01-27
申请号：CN201510290660.2
申请日：2015-05-29
IPC: H01L21/67
CPC classification number: B08B13/00 , H01L21/67017
Abstract: 本发明公开了一种用于处理基板的装置。用于处理基板的装置可以包括：器皿，被配置为在其中提供处理空间；基板支撑单元，设置在器皿中以支撑基板；以及喷射构件，被配置为在加载在基板支撑单元上的基板上喷射处理溶液。器皿可具有内侧面，在该内侧面上形成有至少一个纹理图案。
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公开(公告)号：CN114695171A
公开(公告)日：2022-07-01
申请号：CN202110879710.6
申请日：2021-08-02
Applicant: 细美事有限公司
Abstract: 基板处理装置可具有包括对基板执行所需工程的至少一个工程腔室的处理模块及将所述基板从外部移送到所述处理模块的转位模块。所述至少一个工程腔室可包括上部被放置基板的支撑单元及配置在所述基板的底面下方的后喷嘴单元。所述后喷嘴单元可包括裙座、向所述基板的底面上供应清洗液的至少一个后喷嘴及向所述基板的底面上供应气体的气体喷嘴。所述裙座可包括本体及形成于所述本体内且向所述基板的底面供应气体的多个第一流道及多个第二流道。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN107342249B
公开(公告)日：2020-11-06
申请号：CN201710302224.1
申请日：2017-05-02
Applicant: 细美事有限公司
IPC: H01L21/67
Abstract: 提供了一种基板处理装置。该基板处理装置包括：壳体，所述壳体在其中具有处理空间;旋转头，所述旋转头用于支撑和旋转所述处理空间中的基板；以及化学品供应单元，所述化学品供应单元具有喷射喷嘴，所述喷射喷嘴用于将化学品供应到由所述旋转头支撑的所述基板上，其中，所述喷射喷嘴包括喷嘴主体，且其中所述喷嘴主体包括内部空间和微孔，所述内部空间用于接收化学品，所述微孔与所述内部空间连接，用于向下排放所述化学品。
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公开(公告)号：CN111816592A
公开(公告)日：2020-10-23
申请号：CN202010725079.X
申请日：2018-10-12
Applicant: 细美事有限公司
IPC: H01L21/67 , H01L21/687 , H01L21/02 , H01L21/306 , H01L21/311
Abstract: 提供了一种基板处理装置和基板处理方法。该基板处理装置包括支承构件、处理液喷嘴和控制器，支承构件用于支承基板，处理液喷嘴用于供应处理液至定位在支承构件上的基板，控制器用于控制处理液喷嘴使得在低流量供应段和高流量供应段中将供应至基板的处理液不同地排出，高流量供应段中的每小时平均排出量多于低流量供应段中的每小时平均排出量。
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公开(公告)号：CN109659256A
公开(公告)日：2019-04-19
申请号：CN201811191785.X
申请日：2018-10-12
Applicant: 细美事有限公司
Abstract: 提供了一种基板处理装置和基板处理方法。该基板处理装置包括支承构件、处理液喷嘴和控制器，支承构件用于支承基板，处理液喷嘴用于供应处理液至定位在支承构件上的基板，控制器用于控制处理液喷嘴使得在低流量供应段和高流量供应段中将供应至基板的处理液不同地排出，高流量供应段中的每小时平均排出量多于低流量供应段中的每小时平均排出量。
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公开(公告)号：CN107342249A
公开(公告)日：2017-11-10
申请号：CN201710302224.1
申请日：2017-05-02
Applicant: 细美事有限公司
IPC: H01L21/67
Abstract: 提供了一种基板处理装置。该基板处理装置包括：壳体，所述壳体在其中具有处理空间;旋转头，所述旋转头用于支撑和旋转所述处理空间中的基板；以及化学品供应单元，所述化学品供应单元具有喷射喷嘴，所述喷射喷嘴用于将化学品供应到由所述旋转头支撑的所述基板上，其中，所述喷射喷嘴包括喷嘴主体，且其中所述喷嘴主体包括内部空间和微孔，所述内部空间用于接收化学品，所述微孔与所述内部空间连接，用于向下排放所述化学品。
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公开(公告)号：CN103456664A
公开(公告)日：2013-12-18
申请号：CN201310215171.1
申请日：2013-05-31
Applicant: 细美事有限公司
CPC classification number: F26B21/12 , F26B5/005 , H01L21/67017 , H01L21/67034
Abstract: 本发明提供了一种用于干燥基板的装置和方法。该装置包括壳体、基板支撑件、流体供给件、以及排放件。壳体设有在其中执行干燥处理的空间。基板支撑件设置在壳体中以支撑基板。流体供给件包括用于将超临界状态的处理流体供给到壳体的供给管线。排放件包括用于将处理流体从壳体排放出的排放管线。这里，供给管线包括设置为以第一供给流速将处理流体供给到壳体的第一供给管线，以及设置为以第二供给流速将处理流体供给到壳体的第二供给管线。
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