电镀液和电镀方法
    4.
    发明公开

    公开(公告)号:CN102953097A

    公开(公告)日:2013-03-06

    申请号:CN201210410063.5

    申请日:2012-08-22

    CPC classification number: C25D3/38 C25D7/00

    Abstract: 电镀液和电镀方法。提供了在导电层的表面上沉积铜镀的含有整平剂的铜电镀液层,该整平剂是一种或多种环状重氮化合物和一种或多种含环氧化物的化合物的反应产物。这种镀液在电解质浓度范围内在基体上沉积出基本上均匀的铜层。还公开了使用这种铜电镀液沉积铜层的方法。提供了一种铜电镀液,所述铜电镀液包括:铜离子源,电解质和整平剂,其中整平剂是一种或多种环状二氮杂化合物和一种或多种含环氧化物的化合物的反应产物;其中至少一种环状二氮杂化合物具有结构式(I)。

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