公开(公告)号：CN1721569B

公开(公告)日：2011-06-15

申请号：CN200510054431.7

申请日：2005-03-10

Applicant: 肖特股份公司

Inventor： 托马斯·库伯尔 ,  迪特·维坦伯格 ,  克里斯多夫·穆勒 ,  鲁茨·佐格

IPC: C23C14/04 ,  C23C14/24 ,  C23C14/34 ,  C23C16/04 ,  C23C16/513 ,  B05D1/32 ,  B05D5/06 ,  G03F7/20 ,  G03F7/26 ,  G02B1/10 ,  B05D1/02 ,  B05C5/00

CPC classification number: G02B1/10 ,  B41J3/4073 ,  C03C17/005 ,  C03C2218/34 ,  C23C14/042 ,  C23C16/042 ,  G02B5/201 ,  G02B5/285 ,  H01J9/20 ,  H01K3/005 ,  Y10T428/24628

Abstract: 本发明涉及一种在弯曲表面上具有形成图案的光学涂层的基底的生产方法，其中：覆盖弯曲表面子区域的掩模涂敷到弯曲表面，光学涂层使用真空沉积方法来涂敷，以及掩模被去除。可以特别地由该方法产生的涂层基底具有提供有至少一个形成图案的光学涂层的弯曲表面，使得光学涂层提供在该表面的至少一个子区域上而在至少一个相邻子区域上缺少。

公开(公告)号：CN1721569A

公开(公告)日：2006-01-18

申请号：CN200510054431.7

申请日：2005-03-10

Applicant: 肖特股份公司

Inventor： 托马斯·库伯尔 ,  迪特·维坦伯格 ,  克里斯多夫·穆勒 ,  鲁茨·佐格

IPC: C23C14/04 ,  C23C14/24 ,  C23C14/34 ,  C23C16/04 ,  C23C16/513 ,  B05D1/32 ,  B05D5/06 ,  G03F7/20 ,  G03F7/26 ,  G02B1/10 ,  B05D1/02 ,  B05C5/00

CPC classification number: G02B1/10 ,  B41J3/4073 ,  C03C17/005 ,  C03C2218/34 ,  C23C14/042 ,  C23C16/042 ,  G02B5/201 ,  G02B5/285 ,  H01J9/20 ,  H01K3/005 ,  Y10T428/24628

Abstract: 本发明涉及一种在弯曲表面上具有形成图案的光学涂层的基底的生产方法，其中：覆盖弯曲表面子区域的掩模涂敷到弯曲表面，光学涂层使用真空沉积方法来涂敷，以及掩模被去除。可以特别地由该方法产生的涂层基底具有提供有至少一个形成图案的光学涂层的弯曲表面，使得光学涂层提供在该表面的至少一个子区域上而在至少一个相邻子区域上缺少。