公开(公告)号：CN101167154B

公开(公告)日：2010-10-13

申请号：CN200680003793.6

申请日：2006-01-31

Applicant: 艾克塞利斯技术公司

Inventor： K·贝克 ,  W·贝尔 ,  K·佩特利

IPC: H01J37/317 ,  H01J27/02 ,  H01J37/08

CPC classification number: H01J37/08 ,  H01J27/08 ,  H01J37/3171

Abstract: 提供了一种离子注入器，其包括源、工件支撑、和将离子从源传送到离子注入弧光室的传输系统，其中离子注入弧光室包括工件支撑。离子源具有弧光室，用于将引导至弧光室内的源材料离子化，弧光室限定有出口孔洞，以将离子引导至传输系统，弧光室包括弧光室凸缘，其与弧光室相连，并包括第一表面，第一表面限定了从源接受气体的气体入口，还限定了通向弧光室内的气体出口。弧光室支撑包括支撑凸缘，凸缘具有顺应表面，此顺应表面在气体入口区域与弧光室凸缘的第一表面密封接合，弧光室支撑还包括与气体入口对准的贯穿通道。气体供应管线将气体从气体源通过支撑凸缘的贯穿通道，引导至弧光室凸缘的气体入口内。

公开(公告)号：CN101167154A

公开(公告)日：2008-04-23

申请号：CN200680003793.6

申请日：2006-01-31

Applicant: 艾克塞利斯技术公司

Inventor： K·贝克 ,  W·贝尔 ,  K·佩特利

IPC: H01J37/317 ,  H01J27/02 ,  H01J37/08

CPC classification number: H01J37/08 ,  H01J27/08 ,  H01J37/3171

Abstract: 提供了一种离子注入器，其包括源、工件支撑、和将离子从源传送到离子注入弧光室的传输系统，其中离子注入弧光室包括工件支撑。离子源具有弧光室，用于将引导至弧光室内的源材料离子化，弧光室限定有出口孔洞，以将离子引导至传输系统，弧光室包括弧光室凸缘，其与弧光室相连，并包括第一表面，第一表面限定了从源接受气体的气体入口，还限定了通向弧光室内的气体出口。弧光室支撑包括支撑凸缘，凸缘具有顺应表面，此顺应表面在气体入口区域与弧光室凸缘的第一表面密封接合，弧光室支撑还包括与气体入口对准的贯穿通道。气体供应管线将气体从气体源通过支撑凸缘的贯穿通道，引导至弧光室凸缘的气体入口内。