用于离子注入系统的具有唇缘的离子源内衬

    公开(公告)号:CN108140523A

    公开(公告)日:2018-06-08

    申请号:CN201680059372.9

    申请日:2016-11-04

    CPC classification number: H01J37/08 H01J27/022 H01J37/3171 H01J2237/31705

    Abstract: 本发明公开一种离子源内衬(204),包括具有暴露表面的衬板。所述衬板包括通孔以及环绕该通孔且自暴露表面向外延伸的唇缘(234)并且可选地包括凹部,该凹部具有自暴露表面凹陷且环绕通孔的第二表面。本发明进一步公开一种电弧腔室(202),包括:所述离子源内衬以及具有轴部(218)和头部(250)的电极(208),例如推斥极(248),其中,该电极穿过所述通孔并界定衬板与轴部之间的环状间隙;以及离子源,该离子源包括电弧腔室,其中,该电弧腔室具有主体,该主体界定内部区域(212),其中所述暴露表面暴露于所述电弧腔室内生成的电浆,以及其中,电极与主体电性隔离。唇缘(234)大体上防止微粒污染物(248’)进入环状间隙(206)。

    用于离子注入系统的具有唇缘的离子源内衬

    公开(公告)号:CN108140523B

    公开(公告)日:2021-04-09

    申请号:CN201680059372.9

    申请日:2016-11-04

    Abstract: 本发明公开一种离子源内衬(204),包括具有暴露表面的衬板。所述衬板包括通孔以及环绕该通孔且自暴露表面向外延伸的唇缘(234)并且可选地包括凹部,该凹部具有自暴露表面凹陷且环绕通孔的第二表面。本发明进一步公开一种电弧腔室(202),包括:所述离子源内衬以及具有轴部(218)和头部(250)的电极(208),例如推斥极(248),其中,该电极穿过所述通孔并界定衬板与轴部之间的环状间隙;以及离子源,该离子源包括电弧腔室,其中,该电弧腔室具有主体,该主体界定内部区域(212),其中所述暴露表面暴露于所述电弧腔室内生成的电浆,以及其中,电极与主体电性隔离。唇缘(234)大体上防止微粒污染物(248’)进入环状间隙(206)。

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