公开(公告)号：CN119433443A

公开(公告)日：2025-02-14

申请号：CN202411628288.7

申请日：2024-11-14

Applicant: 苏州亦高光电有限责任公司

Inventor： 李俊华 ,  向印 ,  郭靖 ,  张东东 ,  余全富 ,  艾其波 ,  范斌宏 ,  尤俊衡

IPC: C23C14/10 ,  C23C14/06 ,  C23C14/34 ,  G02B1/115 ,  G02B1/14 ,  G02B1/18 ,  C23C14/26

Abstract: 本发明公开了一种功能薄膜的制造方法，其包含：步骤1，基板清洗：选取基板材料，对表面进行处理，再进行清洗、干燥，覆膜后备用；步骤2，镀增透膜层：在基板上镀设SiO2膜，以及Si3N4膜和SiON膜交替重复组成的增透膜层；步骤3，镀SiO2结合层：在增透膜层表面镀SiO2结合层；步骤4，镀超硬膜层：在SiO2结合层表面镀Si3N4膜和CNx膜交替组成的超硬膜层；步骤5，再镀SiO2结合层：在超硬膜层表面再镀一次SiO2结合层；步骤6，镀防指纹膜层：在薄膜表面蒸镀防指纹膜层。本发明的方法，通过在增透膜和防指纹膜中间，引入一层超硬复合膜层，使薄膜兼具高透过率、低反射和抗指纹的同时，还具有高硬度。

公开(公告)号：CN119433442A

公开(公告)日：2025-02-14

申请号：CN202411628287.2

申请日：2024-11-14

Applicant: 苏州亦高光电有限责任公司

Inventor： 李俊华 ,  尤俊衡

IPC: C23C14/10 ,  C23C14/06 ,  C23C14/34 ,  G02B1/115 ,  G02B1/14 ,  G02B1/18

Abstract: 本发明公开了一种用于电子设备的功能薄膜，该功能薄膜的最内层为增透膜层，再向外依次覆盖超硬膜层和防指纹膜层；增透膜层和超硬膜层之间还镀有一层SiO2膜，超硬膜层和防指纹膜层之间也镀有一层SiO2膜。增透膜层从内向外依次由SiO2膜、Si3N4膜和SiON膜交替重复镀设而成。超硬膜层是从内向外依次由Si3N4膜和CNx膜交替组合镀设而成的2层以上的膜层。增透膜层与超硬层之间镀设SiO2膜作为第一结合层，超硬膜层与防指纹膜层之间镀设SiO2膜作为第二结合层。本发明的功能薄膜，通过在增透膜和防指纹膜中间，引入一层超硬复合膜层，使薄膜兼具高透过率、低反射和抗指纹的同时，还具有高硬度。