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公开(公告)号：CN119736598A
公开(公告)日：2025-04-01
申请号：CN202411882842.4
申请日：2024-12-19
Applicant: 苏州国微纳半导体设备有限公司
Abstract: 本发明涉及半导体镀膜设备技术领域，且公开了一种具有防堵塞功能的排气管路半导体镀膜设备，包括半导体镀膜机，所述半导体镀膜机的内部设有若干个排气管，所述排气管用于半导体镀膜机气体进出，所述排气管的两侧分别设有连接壳和衔接座，所述连接壳的内部开设有空腔，所述连接壳的一侧设有设有辅助结构，所述辅助结构上设置有监测结构，本发明提供的具有防堵塞功能的排气管路半导体镀膜设备具有辅助结构和监测结构，二者可以相互配合对设备管道的结晶进行监测和处理，辅助结构主要用于当管道内结晶凝结较厚时，将管道的一段拆卸打开后可以通过移动环对管道内部凝结的结晶进行清理，清洁效率高速度快，提高维修效率。
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公开(公告)号：CN119793117A
公开(公告)日：2025-04-11
申请号：CN202411993309.5
申请日：2024-12-31
Applicant: 苏州国微纳半导体设备有限公司
Abstract: 本发明涉及半导体镀膜设备排气过滤领域，且公开了一种具有高效过滤的半导体镀膜用真空排气设备，包括排气设备和主管，所述主管的底部设有有副管，所述副管的形状为U形，所述副管的内部设有加热结构和冷却结构，所述加热结构与冷却结构相互联动，本发明提供的具有高效过滤的半导体镀膜用真空排气设备高效过滤的半导体镀膜用真空排气设备设有副管，副管的内部设有加热结构和制冷结构，加热和制冷结合在一起后当排出的有杂质气体进入副管内后先进行加热再冷却，引导气体杂质在冷却区域沉积过滤，同时先加热再冷却可以出现极大的温度反差，提升杂质沉积过滤效率，制冷结构内设有清理环，在杂质沉积在副管的表面时，清理环可以进行附着杂质清理。
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