公开(公告)号：CN102588845A

公开(公告)日：2012-07-18

申请号：CN201210058173.X

申请日：2012-03-07

Applicant: 苏州大学

Inventor： 张伟 ,  彭长四 ,  顾小勇 ,  刘维萍 ,  王艳艳 ,  张锋 ,  元磊

IPC: F21S8/00 ,  F21V8/00 ,  G02F1/13357

Abstract: 本发明公开了一种背光照明装置，包括：点光源、矩形状的导光条和平板状的导光薄膜。导光条包括第一入光面和第一出光面，所述线偏振光从第一入光面射入并通过第一出光面射出线偏振平行光；导光薄膜包括第二入光面和第二出光面，所述线偏振平行光从第二入光面射入并通过第二出光面射出线偏振平行光。本发明还公开了一种液晶显示装置。本发明的背光照明装置的光能利用率高，改善了导光均匀性，且所获得的液晶显示装置轻薄。

公开(公告)号：CN102879431B

公开(公告)日：2014-07-16

申请号：CN201210390063.3

申请日：2012-10-15

Applicant: 苏州大学

Inventor： 王艳艳 ,  彭长四 ,  陈林森 ,  顾小勇 ,  刘维萍

IPC: G01N27/00

Abstract: 一种基于还原氧化石墨烯的气体传感器及其制备方法，超声制备氧化石墨烯分散液，采用苯胺对氧化石墨进行还原，并将所得到的还原氧化石墨烯有机溶剂分散液滴加到电极表面，从而得到还原氧化石墨烯气体传感器。本发明所制备的还原氧化石墨烯气体传感器对氨气分子具有优异的灵敏度，此制备方法工艺简单，适合于气体传感器的大量制备。

公开(公告)号：CN102588845B

公开(公告)日：2014-07-16

申请号：CN201210058173.X

申请日：2012-03-07

Applicant: 苏州大学

Inventor： 张伟 ,  彭长四 ,  顾小勇 ,  刘维萍 ,  王艳艳 ,  张锋 ,  元磊

IPC: G02F1/13357

Abstract: 本发明公开了一种背光照明装置，包括：点光源、矩形状的导光条和平板状的导光薄膜。导光条包括第一入光面和第一出光面，所述线偏振光从第一入光面射入并通过第一出光面射出线偏振平行光；导光薄膜包括第二入光面和第二出光面，所述线偏振平行光从第二入光面射入并通过第二出光面射出线偏振平行光。本发明还公开了一种液晶显示装置。本发明的背光照明装置的光能利用率高，改善了导光均匀性，且所获得的液晶显示装置轻薄。

公开(公告)号：CN102236267B

公开(公告)日：2014-05-28

申请号：CN201110178877.6

申请日：2011-06-29

Applicant: 苏州大学

Inventor： 彭长四 ,  董晓轩 ,  张伟 ,  顾小勇 ,  周云 ,  刘维萍

IPC: G03F7/20 ,  G02B7/00

Abstract: 本发明公开一种激光干涉光刻系统，包括：至少两个镜组；所述镜组包括：分光镜、第一全反镜和第二全反镜；所述镜组的分光镜均位于入射光的主光轴上；不同镜组位于所述主光轴的不同位置；入射光经过所述镜组的分光镜后，产生反射光和透射光；所述反射光经过本镜组的第一全反镜和第二全反镜的反射后，照射在待光刻样品的干涉点；所述透射光成为与本镜组相邻的镜组的入射光。采用本发明所公开的激光干涉光刻系统，干涉光线的入射面可以围绕入射光线的主光轴，进行任意角度的调节，大大增加了干涉光束入射面之间角度的调节范围，能够满足干涉图样的多样性。

公开(公告)号：CN102879431A

公开(公告)日：2013-01-16

申请号：CN201210390063.3

申请日：2012-10-15

Applicant: 苏州大学

Inventor： 王艳艳 ,  彭长四 ,  陈林森 ,  顾小勇 ,  刘维萍

IPC: G01N27/00

Abstract: 一种基于还原氧化石墨烯的气体传感器及其制备方法，超声制备氧化石墨烯分散液，采用苯胺对氧化石墨进行还原，并将所得到的还原氧化石墨烯有机溶剂分散液滴加到电极表面，从而得到还原氧化石墨烯气体传感器。本发明所制备的还原氧化石墨烯气体传感器对氨气分子具有优异的灵敏度，此制备方法工艺简单，适合于气体传感器的大量制备。

公开(公告)号：CN102236267A

公开(公告)日：2011-11-09

申请号：CN201110178877.6

申请日：2011-06-29

Applicant: 苏州大学

Inventor： 彭长四 ,  董晓轩 ,  张伟 ,  顾小勇 ,  周云 ,  刘维萍

IPC: G03F7/20 ,  G02B7/00

Abstract: 本发明公开一种激光干涉光刻系统，包括：至少两个镜组；所述镜组包括：分光镜、第一全反镜和第二全反镜；所述镜组的分光镜均位于入射光的主光轴上；不同镜组位于所述主光轴的不同位置；入射光经过所述镜组的分光镜后，产生反射光和透射光；所述反射光经过本镜组的第一全反镜和第二全反镜的反射后，照射在待光刻样品的干涉点；所述透射光成为与本镜组相邻的镜组的入射光。采用本发明所公开的激光干涉光刻系统，干涉光线的入射面可以围绕入射光线的主光轴，进行任意角度的调节，大大增加了干涉光束入射面之间角度的调节范围，能够满足干涉图样的多样性。