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公开(公告)号:CN118213433A
公开(公告)日:2024-06-18
申请号:CN202211615852.2
申请日:2022-12-15
Applicant: 苏州苏大维格科技集团股份有限公司
IPC: H01L31/18 , H01L31/0224 , H01L31/04
Abstract: 本发明涉及一种激光转印模具和装置、光伏电池电极及其制作方法和应用。上述激光转印模具用于制作光伏电池电极,激光转印模具包括:转印衬底,转印衬底的一侧表面具有若干用于填充导电材料的凹槽;以及光学器件,位于转印衬底具有凹槽的另一侧,光学器件具有柱透镜阵列,柱透镜阵列的透镜面朝向或者背向转印衬底,柱透镜阵列在转印衬底方向上的聚焦范围覆盖凹槽。与传统的激光转印模具相比,应用本发明上述技术方案的激光转印模具制作光伏电池电极时,柱透镜阵列能够对激光束进行聚焦,大部分能量被凹槽内的导电材料吸收,因此能够提高能量转换效率,在同等激光功率条件下可以同时实现多条光伏电池电极的制作,从而提高生产效率,有利于广泛应用。
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公开(公告)号:CN118091973A
公开(公告)日:2024-05-28
申请号:CN202211488045.9
申请日:2022-11-25
Applicant: 苏州苏大维格科技集团股份有限公司 , 苏州大学 , 南京大学
IPC: G02B30/33 , G02B30/30 , G02F1/13357
Abstract: 本发明公开了一种显示模块、背光模组及显示装置,所述显示模块包括主波导,外部光源由主波导进入波导层,通过光束耦合单元扇出多路次级波导,每路次级波导对应一行像素,从像素波导输出的光线经准直透镜和光束转化结构后输出高准直度光束;背光模组包括像素显示模块和两层电润湿棱镜阵列,准直消相干的光线经两层电润湿棱镜阵列,实现xy方向上的角度偏转;显示装置包括背光模组以及设置在背光模组光线出射端的上下偏振片、上下TFT玻璃基板、液晶层、滤色片层和显示相位板,光线经显示相位板形成左右眼视察,产生真实的3D效果,通过电压控制,不仅可以提高3D显示的分辨率和观察视场,同时能够实现2D观察模式和3D观察模式的自由切换。
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公开(公告)号:CN118330993A
公开(公告)日:2024-07-12
申请号:CN202310034683.1
申请日:2023-01-10
Applicant: 苏州苏大维格科技集团股份有限公司 , 苏州大学
IPC: G03F7/20
Abstract: 本申请提供一种多光学头并行的快速光刻系统及方法。所述系统包括:掩模版、基片及多个光学头,每个光学头包括光刻照明模组和掩模投影光学模组,光刻照明模组、掩模版、掩模投影光学模组及基片沿光路依次设置,掩模投影光学模组为反向成像模组,投影光斑为掩模版的照明光斑的放大、倒立的实像。整个系统通过多光学头并列放置的空间布局和光学投影成像尺寸的匹配,各个光学头可以并行扫描曝光,解决单个光学头视场有限的问题,原理上幅面不受限制,且本发明光路实施可行性高,可利用若干小尺寸掩模版拼接光刻实现大尺寸完整图形,易于加工实现,且降低生产应用成本。
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公开(公告)号:CN219007400U
公开(公告)日:2023-05-12
申请号:CN202223375493.6
申请日:2022-12-15
Applicant: 苏州苏大维格科技集团股份有限公司
IPC: B41J2/47 , B41J3/407 , B41M5/00 , H01L31/18 , H01L31/0224
Abstract: 本实用新型涉及一种激光转印模具和激光转印装置。上述激光转印模具用于制作光伏电池电极,激光转印模具包括:转印衬底,转印衬底的一侧表面具有若干用于填充导电材料的凹槽;以及光学器件,位于转印衬底具有凹槽的另一侧,光学器件具有柱透镜阵列,柱透镜阵列的透镜面朝向或者背向转印衬底,柱透镜阵列在转印衬底方向上的聚焦范围覆盖凹槽。与传统的激光转印模具相比,应用本实用新型上述技术方案的激光转印模具制作光伏电池电极时,柱透镜阵列能够对激光束进行聚焦,大部分能量被凹槽内的导电材料吸收,因此能够提高能量转换效率,在同等激光功率条件下可以同时实现多条光伏电池电极的制作,从而提高生产效率,有利于广泛应用。
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公开(公告)号:CN220569067U
公开(公告)日:2024-03-08
申请号:CN202322284953.2
申请日:2023-08-24
Applicant: 苏州苏大维格科技集团股份有限公司 , 苏州大学
IPC: G03F7/20
Abstract: 本申请提供一种并行照明的接近式光刻系统。所述系统包括:件台、多个照明模组和多个投影模组;照明模组和投影模组一一对应。照明模组、投影模组、掩模版及基片沿光路依次设置,掩模版接近式的放置于基片的上方,控制模块与多个照明模组、多个投影模组和工件台电连接。通过采用多个照明模组和投影模组,以及掩模版接近式的放置于基片的上方,利用光源束腰形状与图形直边衍射的补偿效益,本申请的光刻系统的准直度比采用大面积光源的系统的准直度很好,可以消除或减少线宽的展宽,形成均匀曝光。光源的成像景深一般可大于100微米,掩模版接近式放置于基片上,无需进行图形的镜像翻转放大等处理,既有利于批量化,又能提升的图形的品质。
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