半导体激光器及其制备方法

    公开(公告)号:CN119297725A

    公开(公告)日:2025-01-10

    申请号:CN202411823655.9

    申请日:2024-12-12

    Abstract: 本申请公开了半导体激光器及其制备方法,其中半导体激光器包括:巴条子模块,每个巴条子模块包括从下至上依次设置的P面次热沉、P面复合层、巴条芯片、N面复合层和N面次热沉,其中,P面复合层从下至上依次设置第一增补层、第一焊料层和第二增补层,N面复合层从下至上依次设置第三增补层、第二焊料层和第四增补层,第一增补层包括第一增补区,第四增补层包括第四增补区,第一增补区和第四增补区在水平方向上形状互补。本申请公开的半导体激光器及其制备方法,有效改善巴条芯片smile效应,提高半导体激光器性能,有助于光束准直、整形及合束,延长器件寿命,提高半导体激光器的可靠性;结构简单,无需额外工序,成本可控。

    一种超高真空解理镀膜装置及其工作方法

    公开(公告)号:CN114498289B

    公开(公告)日:2022-07-01

    申请号:CN202210336910.1

    申请日:2022-04-01

    Abstract: 一种超高真空解理镀膜装置及其工作方法,超高真空解理镀膜装置包括:解理腔体;解理平台;半导体发光器件载具;半导体发光器件载具包括:第一承载平台,第一承载平台中具有在第一方向上相对设置的第一定位槽、以及第二方向上相对设置的第二定位槽;分别位于第一定位槽中的第一定位销;分别位于第二定位槽中的第二定位销;第一定位销适于沿着第一定位槽在第一方向上移动;第二定位销适于沿着第二定位槽在第二方向上移动;第一定位销和第二定位销适于对从解理平台掉落至第一承载平台的若干垂直堆叠的半导体发光器件进行限位。超高真空解理镀膜装置的工作效率高且可长时间维持较高的真空环境。

    一种半导体封装结构及封装方法

    公开(公告)号:CN118040459A

    公开(公告)日:2024-05-14

    申请号:CN202410444560.X

    申请日:2024-04-15

    Abstract: 本发明提供一种半导体封装结构及封装方法,半导体封装结构包括:若干个堆叠结构,每个所述堆叠结构包括:巴条、第一导电散热隔件和第二导电散热隔件、以及电绝缘散热片,电绝缘散热片位于所述第一导电散热隔件和所述巴条的底部、以及部分第二导电散热隔件的底部,第二导电散热隔件的宽度小于第一导电散热隔件的宽度,第一导电散热隔件的高度大于巴条的高度且大于第二导电散热隔件的高度,电绝缘散热片与第一导电散热隔件的底面焊接连接且与巴条和第二导电散热隔件均间隔;第二导电散热隔件位于相邻的堆叠结构中的第一导电散热隔件之间;以及热沉,热沉与电绝缘散热片背离第一导电散热隔件的一侧表面焊接连接。提高了半导体封装结构的可靠性。

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