由掩埋式电源轨形成的金属-半导体结

    公开(公告)号:CN116266574A

    公开(公告)日:2023-06-20

    申请号:CN202211435843.5

    申请日:2022-11-16

    Abstract: 公开了包括BPR的IC器件,所述BPR与其中所述BPR被部分掩埋的半导体部分形成金属‑半导体结。示例IC器件包括第一层,所述第一层包括半导体结构,例如鳍状物、纳米线或纳米带。IC器件还包括包含导电材料并耦合到半导体结构的层。IC器件还包括支撑结构,所述支撑结构包括BPR和半导体部分。BPR与半导体部分接触并形成金属‑半导体结。金属‑半导体结构成电子的肖特基势垒。IC器件可以包括SCR,所述SCR包括p阱、n阱、p阱和n阱的序列,其中在第一p阱和第二n阱中具有肖特基势垒。肖特基势垒还可以用作保护环以提取注入的电荷载流子。

    使用掩埋式热轨线的背侧散热
    4.
    发明公开

    公开(公告)号:CN116264197A

    公开(公告)日:2023-06-16

    申请号:CN202211404740.2

    申请日:2022-11-10

    Abstract: 公开了包括用于背侧散热的BHR和TSV的IC器件。示例IC器件包括半导体结构。IC器件还包括耦合到半导体结构的导电层。IC器件还包括耦合到导电层的一个或多个BHR。每个BHR通过掩埋在支撑结构中的TSV连接到散热板。散热板在支撑结构的背侧处。BHR、TSV和散热板可以将半导体结构产生的热量传导到支撑结构的背侧。BHR也可以用作向半导体结构输送电力的电力轨线。可以将TSV扩大为具有比BHR大的横截面面积以增强散热。此外,散热板可以超出单元边界以更有效地散发热量。

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