公开(公告)号：CN103797644A

公开(公告)日：2014-05-14

申请号：CN201180073363.2

申请日：2011-09-08

Applicant: 英特尔公司

Inventor： R.索维 ,  I.雷发伊里

IPC: H01Q21/08 ,  H01Q1/38

CPC classification number: H01Q21/061 ,  H01Q1/2266 ,  H01Q15/08 ,  H01Q19/062 ,  H01Q21/064 ,  H01Q21/065 ,  H01Q21/067

Abstract: 天线结构包括电介质材料，其中天线阵列单元放置于任一侧。电介质材料的任一侧上的单元与相对的单元重叠或者交错。电介质材料还可包括在不同方向辐射的共处天线阵列或阵列单元。天线阵列单元可使用共形屏蔽来形成，其中应用并且有选择地去除共形屏蔽以创建天线结构。包括天线结构的装置能够包括作为整形透镜的壳体，以增加天线孔径大小并且增强天线性能。

公开(公告)号：CN103797644B

公开(公告)日：2016-11-30

申请号：CN201180073363.2

申请日：2011-09-08

Applicant: 英特尔公司

Inventor： R.索维 ,  I.雷发伊里

IPC: H01Q21/08 ,  H01Q1/38

Abstract: 天线结构包括电介质材料，其中天线阵列单元放置于任一侧。电介质材料的任一侧上的单元与相对的单元重叠或者交错。电介质材料还可包括在不同方向辐射的共处天线阵列或阵列单元。天线阵列单元可使用共形屏蔽来形成，其中应用并且有选择地去除共形屏蔽以创建天线结构。包括天线结构的装置能够包括作为整形透镜的壳体，以增加天线孔径大小并且增强天线性能。

公开(公告)号：CN106935983A

公开(公告)日：2017-07-07

申请号：CN201610927185.X

申请日：2011-09-08

Applicant: 英特尔公司

Inventor： R.索维 ,  I.雷发伊里

IPC: H01Q21/00 ,  H04B1/40

CPC classification number: H01Q21/061 ,  H01Q1/2266 ,  H01Q15/08 ,  H01Q19/062 ,  H01Q21/064 ,  H01Q21/065 ,  H01Q21/067 ,  H01Q21/00 ,  H04B1/40

Abstract: 天线结构包括电介质材料，其中天线阵列单元放置于任一侧。电介质材料的任一侧上的单元与相对的单元重叠或者交错。电介质材料还可包括在不同方向辐射的共处天线阵列或阵列单元。天线阵列单元可使用共形屏蔽来形成，其中应用并且有选择地去除共形屏蔽以创建天线结构。包括天线结构的装置能够包括作为整形透镜的壳体，以增加天线孔径大小并且增强天线性能。