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发明公开
一种抛光垫材料及其制备方法和应用审中-公开

公开(公告)号：CN119871213A

公开(公告)日：2025-04-25

申请号：CN202510118294.6

申请日：2025-01-24

Applicant: 衢州学院

Inventor： 黄棋淘 , 刘婧 , 相红旗 , 余建刚 , 马国才 , 竹佳奇

IPC: B24B37/24 , B24D18/00 , D06N3/14 , D06N3/00

Abstract: 本发明涉及化学机械抛光加工领域，具体涉及一种抛光垫材料及其制备方法和应用。主要是在凝固成型时利用适宜浓度的N,N‑二甲基甲酰胺溶液来促进聚氨酯链的有序排列，浸渍布的适宜含水量可以确保聚氨酯的均匀凝固成型。本发明通过控制浸渍布的含水量和凝固成型时N,N‑二甲基甲酰胺溶液的浓度，使得抛光垫材料可以形成较为稳定均一的微孔结构，以减少软质抛光垫材料抛光后的晶圆硅片的表面缺陷，解决了现有的抛光垫材料研磨后硅片表面缺陷较多的技术问题。

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