公开(公告)号：CN111633563B

公开(公告)日：2021-09-14

申请号：CN202010540873.7

申请日：2020-06-15

Applicant: 衢州学院 ,  嘉兴星微纳米科技有限公司

Inventor： 尹涛 ,  赵盼盼 ,  尹永仁 ,  冯凯萍 ,  张天雷

IPC: B24B57/02 ,  C09G1/02 ,  H01L21/306

Abstract: 本发明涉及抛光领域，公开了一种抛光介质制备装置和方法、机械化学抛光设备和方法。其中，所述一种抛光介质制备装置包括用于储存抛光液的储液罐、用于向所述储液罐内释放预定压力气体的气压泵、第一管道和第二管道；所述第一管道的一端与所述气压泵的出气口连接，另一端从所述储液罐的进液口延伸至所述储液罐的底部；所述第二管道从所述储液罐的底部延伸至所述储液罐外；所述第一管道延伸至所述储液罐的底部的一端设置有螺旋增压结构，所述螺旋增压结构用于促进从所述第一管道释放的气体与所述储液罐内的抛光液充分混合，以形成抛光介质。通过上述技术上方案，能够制备满足高效率抛光和高品质抛光的抛光介质。

公开(公告)号：CN111633563A

公开(公告)日：2020-09-08

申请号：CN202010540873.7

申请日：2020-06-15

Applicant: 衢州学院 ,  嘉兴星微纳米科技有限公司

Inventor： 尹涛 ,  赵盼盼 ,  尹永仁 ,  冯凯萍 ,  张天雷

IPC: B24B57/02 ,  C09G1/02 ,  H01L21/306

Abstract: 本发明涉及抛光领域，公开了一种抛光介质制备装置和方法、机械化学抛光设备和方法。其中，所述一种抛光介质制备装置包括用于储存抛光液的储液罐、用于向所述储液罐内释放预定压力气体的气压泵、第一管道和第二管道；所述第一管道的一端与所述气压泵的出气口连接，另一端从所述储液罐的进液口延伸至所述储液罐的底部；所述第二管道从所述储液罐的底部延伸至所述储液罐外；所述第一管道延伸至所述储液罐的底部的一端设置有螺旋增压结构，所述螺旋增压结构用于促进从所述第一管道释放的气体与所述储液罐内的抛光液充分混合，以形成抛光介质。通过上述技术上方案，能够制备满足高效率抛光和高品质抛光的抛光介质。

公开(公告)号：CN116657232A

公开(公告)日：2023-08-29

申请号：CN202310801892.4

申请日：2023-06-30

Applicant: 衢州学院

Inventor： 尹涛 ,  赵盼盼 ,  冯凯萍 ,  石栋 ,  赵天晨 ,  郁炜 ,  商宏烨 ,  袁康程 ,  高昊冉

IPC: C25F3/30 ,  C25F7/00

Abstract: 本发明涉及半导体研磨加工技术领域，具体地涉及一种碳化硅晶圆电化学研磨盘，研磨盘的研磨面上开设若干间隔设置的反应槽，反应槽内设置放电电极，放电电极通电在研磨晶圆时对晶圆表面进行放电。通过设置于研磨盘中的电极间放电，释放出高能离子与瞬间高温，产生大量等离子体、氢基、羟基、自由基等。利用放电生成的高氧化性物质加速碳化硅表面的氧化，在碳化硅基板表面产生化学反应，生成氧化层。然后再用研磨面配合研磨液内的磨料去除氧化层。

公开(公告)号：CN213321037U

公开(公告)日：2021-06-01

申请号：CN202022144344.3

申请日：2020-09-25

Applicant: 衢州学院 ,  嘉兴星微纳米科技有限公司

Inventor： 尹涛 ,  赵盼盼 ,  李林 ,  张天雷

IPC: B29B7/10 ,  B29B7/22

Abstract: 本实用新型涉及混合搅拌技术领域，公开了一种混炼装置，包括：搅拌腔(102)；箱盖(103)，设置在所述搅拌腔(102)上，用于打开和关闭所述搅拌腔(102)转盘(106)，设置在所述搅拌腔(102)内；搅拌棒(104)，与所述转盘(106)连接且能够随着所述转盘(106)一同旋转；电机(101)，设置在所述搅拌腔(102)外，用于驱动所述转盘(106)转动。通过上述技术方案，在将两种不同的材料加入所述搅拌腔(102)中，转盘(106)在驱动电机(101)的带动下进行旋转，搅拌棒(104)对混合材料进行搅动，在相对旋转过程中反复拉伸、折叠，实现均匀混合，制备高品质的复合材料。

公开(公告)号：CN212553248U

公开(公告)日：2021-02-19

申请号：CN202021103179.0

申请日：2020-06-15

Applicant: 衢州学院 ,  嘉兴星微纳米科技有限公司

Inventor： 尹涛 ,  赵盼盼 ,  尹永仁 ,  冯凯萍 ,  张天雷

IPC: B24B29/02 ,  B24B57/02 ,  B01F3/04 ,  B01F5/00 ,  H01L21/306 ,  H01L21/67

Abstract: 本实用新型涉及抛光领域，公开了一种抛光介质制备装置和机械化学抛光设备。其中，所述一种抛光介质制备装置包括用于储存抛光液的储液罐、用于向所述储液罐内释放预定压力气体的气压泵、第一管道和第二管道；所述第一管道的一端与所述气压泵的出气口连接，另一端从所述储液罐的进液口延伸至所述储液罐的底部；所述第二管道从所述储液罐的底部延伸至所述储液罐外；所述第一管道延伸至所述储液罐的底部的一端设置有螺旋增压结构，所述螺旋增压结构用于促进从所述第一管道释放的气体与所述储液罐内的抛光液充分混合，以形成抛光介质。通过上述技术方案，能够有效提高半导体材料的机械化学抛光效率和加工后的材料表面的精度。