提高压印对准过程中莫尔条纹图像质量的数字莫尔条纹方法

    公开(公告)号:CN102096348B

    公开(公告)日:2013-01-02

    申请号:CN201010580993.6

    申请日:2010-12-09

    Abstract: 本发明公开了一种提高压印对准过程中莫尔条纹图像质量的数字莫尔条纹方法,包括(1)标记设计;(2)光栅图像的采集;(3)光栅图像预处理;(4)合成莫尔条纹图像;(5)莫尔条纹信号的预处理。本发明通过采用CCD采集光栅图像,通过计算机合成数字莫尔条纹的方案进行纳米压印对准代替原来直接利用CCD采集莫尔条纹图像进行对准。从莫尔条纹形成角度,解决了传统方法由于工艺层覆盖的不对称性、对准光束在工艺层界面的多次反射,对准过程中莫尔条纹的对比度下降的问题,以及由于光的多次干涉、衍射带来的对准图像误差问题,提高了压印过程中,莫尔条纹对准图像的质量,从而提高了对准中莫尔条纹相位提取的精度,进一步提高了压印对准精度。

    一种压印光刻中凸起光栅对准标记的制作方法

    公开(公告)号:CN102053509B

    公开(公告)日:2012-09-05

    申请号:CN201010581347.1

    申请日:2010-12-09

    Abstract: 本发明公开了一种压印光刻中凸起光栅对准标记的制作方法,包括以下步骤有:1)首先确定获得高对比度莫尔条纹图像对应的折射光栅折射率范围,在该范围内进行光栅材料选择;2)光刻,制作光栅标记掩膜板,并以光栅标记掩膜板为掩护,刻蚀光刻胶层,分别在压印基底和模板上得到光刻胶栅条;3)溅射,在有光刻胶栅线的基板上溅射优化光栅材料;4)剥离,剥离基底上的光刻胶区域得到突起光栅条纹。本发明采用界面光学理论和有限差分计算,优化光栅标记制作材料。该方法从光栅制作材料角度,解决了传统标记由于压印光刻胶的引入带来的莫尔条纹对准图像对比度严重下降的问题,且具有更广的光刻胶适用范围,可以适用于多种常用光刻胶的引入。

    提高压印对准过程中莫尔条纹图像质量的数字莫尔条纹方法

    公开(公告)号:CN102096348A

    公开(公告)日:2011-06-15

    申请号:CN201010580993.6

    申请日:2010-12-09

    Abstract: 本发明公开了一种提高压印对准过程中莫尔条纹图像质量的数字莫尔条纹方法,包括(1)标记设计;(2)光栅图像的采集;(3)光栅图像预处理;(4)合成莫尔条纹图像;(5)莫尔条纹信号的预处理。本发明通过采用CCD采集光栅图像,通过计算机合成数字莫尔条纹的方案进行纳米压印对准代替原来直接利用CCD采集莫尔条纹图像进行对准。从莫尔条纹形成角度,解决了传统方法由于工艺层覆盖的不对称性、对准光束在工艺层界面的多次反射,对准过程中莫尔条纹的对比度下降的问题,以及由于光的多次干涉、衍射带来的对准图像误差问题,提高了压印过程中,莫尔条纹对准图像的质量,从而提高了对准中莫尔条纹相位提取的精度,进一步提高了压印对准精度。

    一种压印光刻中凸起光栅对准标记的制作方法

    公开(公告)号:CN102053509A

    公开(公告)日:2011-05-11

    申请号:CN201010581347.1

    申请日:2010-12-09

    Abstract: 本发明公开了一种压印光刻中凸起光栅对准标记的制作方法,包括以下步骤有:1)首先确定获得高对比度莫尔条纹图像对应的折射光栅折射率范围,在该范围内进行光栅材料选择;2)光刻,制作光栅标记掩膜板,并以光栅标记掩膜板为掩护,刻蚀光刻胶层,分别在压印基底和模板上得到光刻胶栅条;3)溅射,在有光刻胶栅线的基板上溅射优化光栅材料;4)剥离,剥离基底上的光刻胶区域得到突起光栅条纹。本发明采用界面光学理论和有限差分计算,优化光栅标记制作材料。该方法从光栅制作材料角度,解决了传统标记由于压印光刻胶的引入带来的莫尔条纹对准图像对比度严重下降的问题,且具有更广的光刻胶适用范围,可以适用于多种常用光刻胶的引入。

Patent Agency Ranking