一种背包式人体按摩康复机

    公开(公告)号:CN109464277A

    公开(公告)日:2019-03-15

    申请号:CN201811319941.6

    申请日:2018-11-07

    Abstract: 本发明公开的一种背包式人体按摩康复机,包括壳体及连接于壳体上的背带、设置于所述壳体内的颈肩揉捏机构、背部按揉机构以及腰部敲打机构,所述壳体内设置有相连的控制系统和电机,所述背部按揉机构、颈肩揉捏机构以及腰部敲打机构通过传动部件依次连接,所述电机和所述背部按揉机构通过传动部件相连。本发明的背包式人体按摩康复机只需利用一个驱动部件即可驱动颈肩、背部和腰部的按摩组件工作,其结构简洁、控制方式简单,可以随时随地实现对人体上半身的按摩工作,实现了多功能按摩的作用,而且大大扩展了使用场景。

    一种电火花线切割单晶硅的放电间隙控制系统及控制方法

    公开(公告)号:CN108393548A

    公开(公告)日:2018-08-14

    申请号:CN201810073299.1

    申请日:2018-01-25

    CPC classification number: B23H7/02 B23H7/18 B23H7/20

    Abstract: 本发明公开的电火花线切割单晶硅的放电间隙控制系统,包括电火花线切割机床和脉冲电源,电火花线切割机床的单晶硅工件和切割线分别连接于脉冲电源的正极和负极上,电火花线切割机床的单晶硅工件进给方向依次设置有步进电机和电机驱动器,电机驱动器通过AD转换器依次连接有数据采集器和计算机,电火花线切割机床的放电回路分别串联有采样电阻,且采样电阻与AD转换器连接,使加工过程中电火花放电间隙保持在合理的范围内,避免开路或者短路的产生,提高了单晶硅工件的表面质量,本发明的放电间隙控制方法,对于实现单晶硅半导体的电火花线切割加工,获得良好的晶片加工表面质量和加工效率具有重要的意义。

    一种用于半导体的微弧放电切割装置

    公开(公告)号:CN108417508B

    公开(公告)日:2020-12-18

    申请号:CN201810059535.4

    申请日:2018-01-22

    Abstract: 本发明公开的一种用于半导体的微弧放电切割装置,包括底座,底座上竖直固接有长方体结构的立柱,立柱的一个侧面自上而下依次设置有驱动装置和“几”字形工作台,且“几”字形工作台的台面平行且背对于立柱侧面,立柱的侧面竖直设置有滑动机构,“几”字形工作台活动连接于滑动机构内,“几”字形工作台上固接有超声振动机构,超声振动机构下方固接有切割机构,底座上还设置有装有电解液的容器,且容器位于超声振动机构下方,容器内部设置有三角卡盘,解决了SiC单晶体在切割过程容易出现固‑液界面气泡分布不均匀的问题。

    一种等离子体微弧放电切割装置及切割方法

    公开(公告)号:CN108406017A

    公开(公告)日:2018-08-17

    申请号:CN201810073297.2

    申请日:2018-01-25

    CPC classification number: B23H5/04

    Abstract: 本发明公开的一种等离子体微弧放电切割装置,包括底座,底座上竖直固接有立柱,立柱的一侧面自上而下依次设置有驱动装置和工作台,立柱的侧面上竖直设置有滑动机构,工作台活动连接于滑动机构内,工作台的台面上垂直连接有对刀机构,对刀机构一端侧面固接有绝缘块,绝缘块下表面竖直固接有夹头,夹头下端固接有导电棒,导电棒下表面固定有金刚石磨粒;底座上还设置有工作液容器,且工作液容器位于导电棒下方,工作液容器内部设置有三角卡盘,解决了半导体在等离子体放电过程中沉积物沉积在半导体表面而影响放电的问题,本发明的切割方法达到了半导体良好的表面质量和较高的沉积物去除率。

    带暗箱避光的双通道式探测大气高光谱激光雷达分光系统

    公开(公告)号:CN110031819A

    公开(公告)日:2019-07-19

    申请号:CN201910281153.0

    申请日:2019-04-09

    Abstract: 本发明公开了一种带暗箱避光的双通道式探测大气高光谱激光雷达分光系统,包括避光箱部分、暗箱部分、气溶胶探测装置分光机构,避光箱部分的结构是,包括由前面板、后面板、左面板、右面板和上面板组成的箱体,前面板、后面板、左面板及右面板上端凸台分别卡进上面板对应边的凹槽一内;前面板、后面板、左面板、右面板下端外沿紧挨设置有各自的角铝,每个角铝向下与光学平台固定并挤紧各自所挨的面板;前面板、后面板、左面板、右面板对接的四个转角处分别安装有一个拐角连接架一,四个拐角连接架一下端各自与光学平台连接;后面板开有一个光纤穿孔一和两个APD数据线穿孔一。本发明的系统,可实现多种激光雷达探测装置的完全避光。

    一种用于半导体的微弧放电切割装置

    公开(公告)号:CN108417508A

    公开(公告)日:2018-08-17

    申请号:CN201810059535.4

    申请日:2018-01-22

    Abstract: 本发明公开的一种用于半导体的微弧放电切割装置,包括底座,底座上竖直固接有长方体结构的立柱,立柱的一个侧面自上而下依次设置有驱动装置和“几”字形工作台,且“几”字形工作台的台面平行且背对于立柱侧面,立柱的侧面竖直设置有滑动机构,“几”字形工作台活动连接于滑动机构内,“几”字形工作台上固接有超声振动机构,超声振动机构下方固接有切割机构,底座上还设置有装有电解液的容器,且容器位于超声振动机构下方,容器内部设置有三角卡盘,解决了SiC单晶体在切割过程容易出现固-液界面气泡分布不均匀的问题。

    带暗箱避光的双通道式探测大气高光谱激光雷达分光系统

    公开(公告)号:CN110031819B

    公开(公告)日:2023-02-03

    申请号:CN201910281153.0

    申请日:2019-04-09

    Abstract: 本发明公开了一种带暗箱避光的双通道式探测大气高光谱激光雷达分光系统,包括避光箱部分、暗箱部分、气溶胶探测装置分光机构,避光箱部分的结构是,包括由前面板、后面板、左面板、右面板和上面板组成的箱体,前面板、后面板、左面板及右面板上端凸台分别卡进上面板对应边的凹槽一内;前面板、后面板、左面板、右面板下端外沿紧挨设置有各自的角铝,每个角铝向下与光学平台固定并挤紧各自所挨的面板;前面板、后面板、左面板、右面板对接的四个转角处分别安装有一个拐角连接架一,四个拐角连接架一下端各自与光学平台连接;后面板开有一个光纤穿孔一和两个APD数据线穿孔一。本发明的系统,可实现多种激光雷达探测装置的完全避光。

    一种利用单波长激光雷达探测气溶胶质量浓度廓线的方法

    公开(公告)号:CN112269189B

    公开(公告)日:2023-06-30

    申请号:CN202010996953.3

    申请日:2020-09-21

    Abstract: 本发明提供了一种利用单波长激光雷达探测气溶胶质量浓度廓线的方法,具体步骤包括:1)利用单波长激光雷达反演获得单波长下的消光系数廓线在大气垂直高度z上的分布,对反演的消光系数廓线的盲区进行校正;2)利用氮气和水汽分子的拉曼散射信号反演获得大气相对湿度廓线;3)利用宽粒径谱仪与能见度仪联合探测方法分别反演相同时刻下的质量浓度与波段大气颗粒物的消光系数,归纳出地面质量浓度与消光系数的参数化方程;4)对不同高度处所对应不同相对湿度范围内的PM质量浓度选用相应的参数化模型进行反演,进而得到质量浓度廓线。本发明既可解决现有算法中精度较低的问题,还可解决现有算法中反演的PM质量浓度廓线结果误差较大的问题。

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