一种具有二阶温度补偿的高电源抑制比的带隙基准电路

    公开(公告)号:CN119576065A

    公开(公告)日:2025-03-07

    申请号:CN202411663030.0

    申请日:2024-11-20

    Abstract: 本发明公开了半导体电路技术领域的一种具有二阶温度补偿的高电源抑制比的带隙基准电路,包括启动电路用于在电路启动时提供一个偏置电流,避免电路工作在运算放大器电路输入端的正负反馈支路电流都为0的这一个稳定工作点;运算放大器电路用于钳位,利用其虚短特性令运算放大器两个输入端的电压近似相等;二阶温度补偿电路用于补偿双极型晶体管的基级‑发射极电压中线性与非线项,降低带隙基准电路的温漂;基准电压输出电路用于输出基准电压,提供稳定精确的参考电压源,同时参与进启动电路产生的启动电流控制中去。本发明创新高效,能够提供稳定的温漂小的基准电压,同时还让其具有较大的电压输入范围和高的电源抑制比以及可靠的启动电路。

    一种二维半导体纳米晶体管的设计与仿真方法

    公开(公告)号:CN119129219A

    公开(公告)日:2024-12-13

    申请号:CN202411173210.0

    申请日:2024-08-26

    Abstract: 本发明公开了一种二维半导体纳米晶体管的设计与仿真方法,属于二维材料的设计与应用技术领域,包括以下步骤:S1:材料选择;S2:表面处理;S3:金属接触设计;S4:器件结构优化;S5:仿真工具和方法;本发明通过优化金属‑半导体界面,降低了接触电阻;通过采用新型界面工程策略,实现了可控的能带对齐;提出了简化的制造工艺,降低了成本;提高了器件的电学性能,如开态电流和开关比;降低了接触电阻,提高了载流子迁移率;提供了一种低成本、高效率的制造工艺。

    一种极低功耗的电子录音器
    3.
    发明公开

    公开(公告)号:CN119007767A

    公开(公告)日:2024-11-22

    申请号:CN202411003552.8

    申请日:2024-07-25

    Abstract: 本发明属于电子录音器技术领域,公开了一种极低功耗的电子录音器,包括设于电子录音器内部的录音器电路结构,录音器电路结构包括采集模块、数字处理模块、存储模块和电源模块,采集模块对输入的声波进行采集,并将其转化为电信号后传输至数字处理模块;数字处理模块基于TFET的逻辑电路,将接受到的电信号进行处理,形成连续的模拟信号后传输到存储模块;存储模块是基于FeRAM的电容性质的存储结构,对接受到的模拟信号进行存储;电源模块用于采集模块、数字处理模块和存储模块的稳定供电;本发明采用基于TFET的逻辑电路对采集的声音信号进行处理,以及铪基铁电存储器对声音信号进行模拟存储,该电子录音器的总功耗低,续航能力、寿命长。

    基于STM32的多场景轮式攀爬机器人

    公开(公告)号:CN117775134A

    公开(公告)日:2024-03-29

    申请号:CN202310877649.0

    申请日:2023-07-18

    Abstract: 本发明公开了攀爬机器人技术领域的基于STM32的多场景轮式攀爬机器人,包括机器人和控制机器人的控制系统,机器人包括支撑件和机器人组件,支撑件包括第一副支撑件、主支撑板和第二副支撑件;且主支撑板与第一副支撑件和第二副支撑件连接处均设有用于转动角度的第一驱动舵机;机器人组件包括第一驱动部、第二驱动部和第三驱动部;且第一驱动部与第一副支撑件连接处和第三驱动部与第二副支撑件的连接处均设有用于转动角度的第二驱动舵机;第一驱动部、第二驱动部和第三驱动部均包括驱动电机,驱动电机的输出轴连接有爬行轮胎。本发明结构简单,通过驱动不同驱动舵机和驱动电机能够实现本机器人适用于多种场景的移动。

    一种纳米尺度空气沟道器件结构及其制备工艺

    公开(公告)号:CN118571925A

    公开(公告)日:2024-08-30

    申请号:CN202410706357.5

    申请日:2024-06-03

    Abstract: 本发明公开了一种纳米尺度空气沟道器件结构及其制备工艺,涉及半导体技术领域,其结构包括衬底、第一介质层、第一硅层、第二介质层、空气沟道、第二硅层,其制备工艺步骤包括:S1:在硅衬底淀积第一介质层;S2:淀积第一硅层,进行掺杂操作1,调节第一硅层的功函数;S3:淀积第二介质层;S4:采用图形化工艺刻蚀形成凹槽;S5:通过外延技术在凹槽中外延形成锗硅;S6:淀积第二硅层,进行掺杂操作2,调节第二硅层的功函数;S7:通过湿法刻蚀技术,刻蚀步骤S5外延生长的锗硅,形成空气沟道。本发明通过预先淀积锗硅的方法,后续直接湿法刻蚀锗硅,以精确控制沟道宽度,制备稳定宽度的器件,且刻蚀的沟道在内部,后续工艺中生长材料不会污染沟道。

    一种具有动态负载补偿的LDO电路
    10.
    发明公开

    公开(公告)号:CN119597089A

    公开(公告)日:2025-03-11

    申请号:CN202411759521.5

    申请日:2024-12-03

    Abstract: 本发明公开了一种具有动态负载补偿的LDO电路,涉及电源管理技术领域,其技术方案要点是:包括误差放大器、功率管M1、反馈电路以及动态负载补偿电路;功率管M1为P型场效应晶体管;反馈电路检测输出电压,并把输出电压反馈到误差放大器;动态负载补偿电路连接功率管M1的漏极,用于感应输出电压VOUT的变化,并根据输出电压VOUT的变化调节功率管M1的漏极输出的驱动电流I0。本发明通过动态负载补偿电路对功率管的输出电流进行动态调整,进而调整输出电压,并通过瞬态响应仿真时动态负载补偿电路能够有效的减少电流负载在瞬态变化时输出电压恢复响应的时间,从而能使LDO电路稳定高效的运行。

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