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公开(公告)号:CN108698908B
公开(公告)日:2021-10-22
申请号:CN201780010996.6
申请日:2017-02-13
Applicant: 贺利氏石英玻璃有限两合公司
Abstract: 一种已知的合成制造的含孔石英玻璃的漫射体材料具有至少99.9%SiO2的化学纯度、不超过1%的方石英含量以及在2.0到2.18g/cm3范围内的密度。从此开始,为了指示在以下方面获得改善之漫射体材料:在宽波长范围内具有朗伯行为的漫反射性、高材料均质性和抗UV辐射性,根据本发明提出石英玻璃的羟基含量在至少200wt.ppm的范围内且至少80%的孔隙具有小于20μm的最大孔隙尺寸。
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公开(公告)号:CN108698908A
公开(公告)日:2018-10-23
申请号:CN201780010996.6
申请日:2017-02-13
Applicant: 贺利氏石英玻璃有限两合公司
CPC classification number: C03C3/06 , C03B19/066 , C03B19/12 , C03B19/14 , C03B2201/07 , C03B2201/21 , C03B2201/23 , C03C11/00 , C03C2201/21 , C03C2201/23 , C03C2201/80 , C03C2203/54
Abstract: 一种已知的合成制造的含孔石英玻璃的漫射体材料具有至少99.9%SiO2的化学纯度、不超过1%的方石英含量以及在2.0到2.18g/cm3范围内的密度。从此开始,为了指示在以下方面获得改善之漫射体材料:在宽波长范围内具有朗伯行为的漫反射性、高材料均质性和抗UV辐射性,根据本发明提出石英玻璃的羟基含量在至少200wt.ppm的范围内且至少80%的孔隙具有小于20μm的最大孔隙尺寸。
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