公开(公告)号：CN101414125B

公开(公告)日：2012-02-22

申请号：CN200810166460.6

申请日：2003-10-30

Applicant: 迈普尔平版印刷IP有限公司

Inventor： 马尔科·扬-哈科·威兰 ,  波特·扬·卡姆弗彼科 ,  亚历山大·哈德瑞克·文森特·范费恩 ,  彼得·克瑞特

IPC: G03F7/20 ,  H01J37/317

CPC classification number: H01J3/02 ,  B82Y10/00 ,  B82Y40/00 ,  H01J37/06 ,  H01J37/3177 ,  H01J2237/0435 ,  H01J2237/06308 ,  H01J2237/06375 ,  H01J2237/3045

Abstract: 本发明涉及一种用于将图案转移到目标的表面上的电子束曝光设备，包括：用于产生多个电子小射束(5a、5b)的小射束发生器；用于接收所述多个电子小射束的调制阵列，包括用于调制电子小射束的强度的多个调制器；控制器，可操作地连接于所述调制阵列，用于单独地控制所述调制器；调节器，可操作地连接于每个调制器，用于单独地调节每个调制器的控制信号；包括静电透镜的阵列(7)的聚焦电子光学系统，其中每个透镜将由所述调制阵列传输的相应的单个小射束聚焦于小于300nm的横截面，以及用于以使得图案将被转移到其上的其曝光表面处于聚焦电子光学系统的第一焦平面中的方式固定所述目标的目标固定器。

公开(公告)号：CN101414536A

公开(公告)日：2009-04-22

申请号：CN200810166463.X

申请日：2003-10-30

Applicant: 迈普尔平版印刷IP有限公司

Inventor： 马尔科·扬-哈科·威兰 ,  波特·扬·卡姆弗彼科 ,  亚历山大·哈德瑞克·文森特·范费恩 ,  彼得·克瑞特

IPC: H01J37/317 ,  G03F7/20

CPC classification number: H01J3/02 ,  B82Y10/00 ,  B82Y40/00 ,  H01J37/06 ,  H01J37/3177 ,  H01J2237/0435 ,  H01J2237/06308 ,  H01J2237/06375 ,  H01J2237/3045

Abstract: 本发明涉及一种用于将图案转移到目标的表面上的电子束曝光设备，包括：用于产生多个电子小射束(5a、5b)的小射束发生器；用于接收所述多个电子小射束的调制阵列，包括用于调制电子小射束的强度的多个调制器；控制器，可操作地连接于所述调制阵列，用于单独地控制所述调制器；调节器，可操作地连接于每个调制器，用于单独地调节每个调制器的控制信号；包括静电透镜的阵列(7)的聚焦电子光学系统，其中每个透镜将由所述调制阵列传输的相应的单个小射束聚焦于小于300nm的横截面，以及用于以使得图案将被转移到其上的其曝光表面处于聚焦电子光学系统的第一焦平面中的方式固定所述目标的目标固定器。

公开(公告)号：CN101414127A

公开(公告)日：2009-04-22

申请号：CN200810166462.5

申请日：2003-10-30

Applicant: 迈普尔平版印刷IP有限公司

Inventor： 马尔科·扬-哈科·威兰 ,  波特·扬·卡姆弗彼科 ,  亚历山大·哈德瑞克·文森特·范费恩 ,  彼得·克瑞特

IPC: G03F7/20 ,  H01J37/317 ,  H01J37/04

CPC classification number: H01J3/02 ,  B82Y10/00 ,  B82Y40/00 ,  H01J37/06 ,  H01J37/3177 ,  H01J2237/0435 ,  H01J2237/06308 ,  H01J2237/06375 ,  H01J2237/3045

Abstract: 本发明涉及一种用于将图案转移到目标的表面上的电子束曝光设备，包括：用于产生多个电子小射束(5a、5b)的小射束发生器；用于接收所述多个电子小射束的调制阵列，包括用于调制电子小射束的强度的多个调制器；控制器，可操作地连接于所述调制阵列，用于单独地控制所述调制器；调节器，可操作地连接于每个调制器，用于单独地调节每个调制器的控制信号；包括静电透镜的阵列(7)的聚焦电子光学系统，其中每个透镜将由所述调制阵列传输的相应的单个小射束聚焦于小于300nm的横截面，以及用于以使得图案将被转移到其上的其曝光表面处于聚焦电子光学系统的第一焦平面中的方式固定所述目标的目标固定器。

公开(公告)号：CN101414125A

公开(公告)日：2009-04-22

申请号：CN200810166460.6

申请日：2003-10-30

Applicant: 迈普尔平版印刷IP有限公司

Inventor： 马尔科·扬-哈科·威兰 ,  波特·扬·卡姆弗彼科 ,  亚历山大·哈德瑞克·文森特·范费恩 ,  彼得·克瑞特

IPC: G03F7/20 ,  H01J37/317

CPC classification number: H01J3/02 ,  B82Y10/00 ,  B82Y40/00 ,  H01J37/06 ,  H01J37/3177 ,  H01J2237/0435 ,  H01J2237/06308 ,  H01J2237/06375 ,  H01J2237/3045

Abstract: 本发明涉及一种用于将图案转移到目标的表面上的电子束曝光设备，包括：用于产生多个电子小射束(5a、5b)的小射束发生器；用于接收所述多个电子小射束的调制阵列，包括用于调制电子小射束的强度的多个调制器；控制器，可操作地连接于所述调制阵列，用于单独地控制所述调制器；调节器，可操作地连接于每个调制器，用于单独地调节每个调制器的控制信号；包括静电透镜的阵列(7)的聚焦电子光学系统，其中每个透镜将由所述调制阵列传输的相应的单个小射束聚焦于小于300nm的横截面，以及用于以使得图案将被转移到其上的其曝光表面处于聚焦电子光学系统的第一焦平面中的方式固定所述目标的目标固定器。

公开(公告)号：CN1708826A

公开(公告)日：2005-12-14

申请号：CN200380102559.5

申请日：2003-10-30

Applicant: 迈普尔平版印刷IP有限公司

Inventor： 马尔科·扬-哈科·威兰 ,  波特·扬·卡姆弗彼科 ,  亚历山大·哈德瑞克·文森特·范费恩 ,  彼得·克瑞特

IPC: H01J37/302 ,  H01J37/317 ,  H01J37/304 ,  G03F7/20

CPC classification number: H01J3/02 ,  B82Y10/00 ,  B82Y40/00 ,  H01J37/06 ,  H01J37/3177 ,  H01J2237/0435 ,  H01J2237/06308 ,  H01J2237/06375 ,  H01J2237/3045

Abstract: 本发明涉及一种用于将图案转移到目标的表面上的电子束曝光设备，包括：用于产生多个电子小射束(5a、5b)的小射束发生器；用于接收所述多个电子小射束的调制阵列，包括用于调制电子小射束的强度的多个调制器；控制器，可操作地连接于所述调制阵列，用于单独地控制所述调制器；调节器，可操作地连接于每个调制器，用于单独地调节每个调制器的控制信号；包括静电透镜的阵列(7)的聚焦电子光学系统，其中每个透镜将由所述调制阵列传输的相应的单个小射束聚焦于小于300nm的横截面，以及用于以使得图案将被转移到其上的其曝光表面处于聚焦电子光学系统的第一焦平面中的方式固定所述目标的目标固定器。

公开(公告)号：CN101414129B

公开(公告)日：2012-11-28

申请号：CN200810166465.9

申请日：2003-10-30

Applicant: 迈普尔平版印刷IP有限公司

Inventor： 马尔科·扬-哈科·威兰 ,  波特·扬·卡姆弗彼科 ,  亚历山大·哈德瑞克·文森特·范费恩 ,  彼得·克瑞特

IPC: G03F7/20 ,  H01J37/317

CPC classification number: H01J3/02 ,  B82Y10/00 ,  B82Y40/00 ,  H01J37/06 ,  H01J37/3177 ,  H01J2237/0435 ,  H01J2237/06308 ,  H01J2237/06375 ,  H01J2237/3045

Abstract: 本发明涉及一种用于将图案转移到目标的表面上的电子束曝光设备，包括：用于产生多个电子小射束(5a、5b)的小射束发生器；用于接收所述多个电子小射束的调制阵列，包括用于调制电子小射束的强度的多个调制器；控制器，可操作地连接于所述调制阵列，用于单独地控制所述调制器；调节器，可操作地连接于每个调制器，用于单独地调节每个调制器的控制信号；包括静电透镜的阵列(7)的聚焦电子光学系统，其中每个透镜将由所述调制阵列传输的相应的单个小射束聚焦于小于300nm的横截面，以及用于以使得图案将被转移到其上的其曝光表面处于聚焦电子光学系统的第一焦平面中的方式固定所述目标的目标固定器。

公开(公告)号：CN101414126B

公开(公告)日：2012-02-15

申请号：CN200810166461.0

申请日：2003-10-30

Applicant: 迈普尔平版印刷IP有限公司

Inventor： 马尔科·扬-哈科·威兰 ,  波特·扬·卡姆弗彼科 ,  亚历山大·哈德瑞克·文森特·范费恩 ,  彼得·克瑞特

IPC: G03F7/20 ,  H01J37/317

CPC classification number: H01J3/02 ,  B82Y10/00 ,  B82Y40/00 ,  H01J37/06 ,  H01J37/3177 ,  H01J2237/0435 ,  H01J2237/06308 ,  H01J2237/06375 ,  H01J2237/3045

Abstract: 本发明涉及一种用于将图案转移到目标的表面上的电子束曝光设备，包括：用于产生多个电子小射束(5a、5b)的小射束发生器；用于接收所述多个电子小射束的调制阵列，包括用于调制电子小射束的强度的多个调制器；控制器，可操作地连接于所述调制阵列，用于单独地控制所述调制器；调节器，可操作地连接于每个调制器，用于单独地调节每个调制器的控制信号；包括静电透镜的阵列(7)的聚焦电子光学系统，其中每个透镜将由所述调制阵列传输的相应的单个小射束聚焦于小于300nm的横截面，以及用于以使得图案将被转移到其上的其曝光表面处于聚焦电子光学系统的第一焦平面中的方式固定所述目标的目标固定器。

公开(公告)号：CN101414535A

公开(公告)日：2009-04-22

申请号：CN200810166458.9

申请日：2003-10-30

Applicant: 迈普尔平版印刷IP有限公司

Inventor： 马尔科·扬-哈科·威兰 ,  波特·扬·卡姆弗彼科 ,  亚历山大·哈德瑞克·文森特·范费恩 ,  彼得·克瑞特

IPC: H01J37/317 ,  G03F7/20

CPC classification number: H01J3/02 ,  B82Y10/00 ,  B82Y40/00 ,  H01J37/06 ,  H01J37/3177 ,  H01J2237/0435 ,  H01J2237/06308 ,  H01J2237/06375 ,  H01J2237/3045

Abstract: 本发明涉及一种用于将图案转移到目标的表面上的电子束曝光设备，包括：用于产生多个电子小射束(5a、5b)的小射束发生器；用于接收所述多个电子小射束的调制阵列，包括用于调制电子小射束的强度的多个调制器；控制器，可操作地连接于所述调制阵列，用于单独地控制所述调制器；调节器，可操作地连接于每个调制器，用于单独地调节每个调制器的控制信号；包括静电透镜的阵列(7)的聚焦电子光学系统，其中每个透镜将由所述调制阵列传输的相应的单个小射束聚焦于小于300nm的横截面，以及用于以使得图案将被转移到其上的其曝光表面处于聚焦电子光学系统的第一焦平面中的方式固定所述目标的目标固定器。

公开(公告)号：CN100437882C

公开(公告)日：2008-11-26

申请号：CN200380102559.5

申请日：2003-10-30

Applicant: 迈普尔平版印刷IP有限公司

Inventor： 马尔科·扬-哈科·威兰 ,  波特·扬·卡姆弗彼科 ,  亚历山大·哈德瑞克·文森特·范费恩 ,  彼得·克瑞特

IPC: H01J37/302 ,  H01J37/317 ,  H01J37/304 ,  G03F7/20

CPC classification number: H01J3/02 ,  B82Y10/00 ,  B82Y40/00 ,  H01J37/06 ,  H01J37/3177 ,  H01J2237/0435 ,  H01J2237/06308 ,  H01J2237/06375 ,  H01J2237/3045

Abstract: 本发明涉及一种用于将图案转移到目标的表面上的电子束曝光设备，包括：用于产生多个电子小射束(5a、5b)的小射束发生器；用于接收所述多个电子小射束的调制阵列，包括用于调制电子小射束的强度的多个调制器；控制器，可操作地连接于所述调制阵列，用于单独地控制所述调制器；调节器，可操作地连接于每个调制器，用于单独地调节每个调制器的控制信号；包括静电透镜的阵列(7)的聚焦电子光学系统，其中每个透镜将由所述调制阵列传输的相应的单个小射束聚焦于小于300nm的横截面，以及用于以使得图案将被转移到其上的其曝光表面处于聚焦电子光学系统的第一焦平面中的方式固定所述目标的目标固定器。

公开(公告)号：CN101414128B

公开(公告)日：2012-04-04

申请号：CN200810166464.4

申请日：2003-10-30

Applicant: 迈普尔平版印刷IP有限公司

Inventor： 马尔科·扬-哈科·威兰 ,  波特·扬·卡姆弗彼科 ,  亚历山大·哈德瑞克·文森特·范费恩 ,  彼得·克瑞特

IPC: G03F7/20 ,  H01J37/317

CPC classification number: H01J3/02 ,  B82Y10/00 ,  B82Y40/00 ,  H01J37/06 ,  H01J37/3177 ,  H01J2237/0435 ,  H01J2237/06308 ,  H01J2237/06375 ,  H01J2237/3045

Abstract: 本发明涉及一种用于将图案转移到目标的表面上的电子束曝光设备，包括：用于产生多个电子小射束(5a、5b)的小射束发生器；用于接收所述多个电子小射束的调制阵列，包括用于调制电子小射束的强度的多个调制器；控制器，可操作地连接于所述调制阵列，用于单独地控制所述调制器；调节器，可操作地连接于每个调制器，用于单独地调节每个调制器的控制信号；包括静电透镜的阵列(7)的聚焦电子光学系统，其中每个透镜将由所述调制阵列传输的相应的单个小射束聚焦于小于300nm的横截面，以及用于以使得图案将被转移到其上的其曝光表面处于聚焦电子光学系统的第一焦平面中的方式固定所述目标的目标固定器。