公开(公告)号：CN104603078B

公开(公告)日：2018-03-23

申请号：CN201380046452.7

申请日：2013-03-12

Applicant: 利拉茨有限公司

Inventor： V·利索特申克

IPC: C03C23/00 ,  H01J37/06 ,  H01J37/147 ,  H01J37/15 ,  H01J37/305

CPC classification number: H01J29/70 ,  H01J3/30 ,  H01J29/04 ,  H01J29/48 ,  H01J31/00 ,  H01J37/06 ,  H01J37/147 ,  H01J37/15 ,  H01J37/305 ,  H01J2237/0213 ,  H01J2237/061 ,  H01J2237/06308

Abstract: 本发明涉及一种用于产生电子束(4)的装置(20)，其包括热阴极(1)、阴极电极(2)、具有开口(6)的阳极电极(3)，由所述装置产生的电子束(4)可以穿过该开口，其中，在装置(20)运行时，在阴极电极(2)和阳极电极(3)之间施加有用于加速从热阴极(1)射出的电子的电压，所述装置还包括偏转机构，该偏转机构可以偏转穿过阳极电极(3)的开口的电子束(4)，其中，偏转机构包括至少一个偏转电极(8、12)，在所述偏转电极上电子束(4)可以被反射和/或所述偏转电极具有相对于电子束(4)的传播方向倾斜的偏转面(9)并且所述至少一个偏转电极(8、12)处于与阴极电极(2)相同的电势上。

公开(公告)号：CN107039226A

公开(公告)日：2017-08-11

申请号：CN201710020518.5

申请日：2017-01-12

Applicant: 株式会社爱德万测试

Inventor： 滨口新一 ,  田中仁 ,  得能敦 ,  小岛信一 ,  山田章夫

IPC: H01J37/06 ,  H01J37/12 ,  H01J37/147 ,  H01J37/22 ,  G03F7/20

CPC classification number: H01J37/3177 ,  H01J37/045 ,  H01J37/065 ,  H01J37/09 ,  H01J37/10 ,  H01J2237/0435 ,  H01J2237/0453 ,  H01J2237/06308 ,  H01J2237/0835 ,  H01J2237/31754 ,  H01J37/226 ,  G03F7/70808 ,  H01J37/06 ,  H01J37/12 ,  H01J37/1478 ,  H01J2237/063 ,  H01J2237/12

Abstract: 本发明提供一种曝光装置。一种曝光装置(100)，其具有形成试样上的照射位置不同的多个带电粒子束的形成部(122)，形成部(122)具有：粒子源(20)，其从在长边方向和与该长边方向垂直的短边方向上具有不同宽度的放射区域(21)放射带电粒子束；孔径阵列元件(60)，其在长边方向和与该长边方向垂直的短边方向上具有不同宽度的被照明区域(61)上配置有多个开口(62)；照明透镜(30、50)，其设置于粒子源(20)与孔径阵列元件(60)之间；以及束截面变形元件(40)，其设置于粒子源(20)与孔径阵列元件(60)之间，通过磁场或电场的作用使带电粒子束的截面形状变形成各向异性的形状。

公开(公告)号：CN101414125B

公开(公告)日：2012-02-22

申请号：CN200810166460.6

申请日：2003-10-30

Applicant: 迈普尔平版印刷IP有限公司

Inventor： 马尔科·扬-哈科·威兰 ,  波特·扬·卡姆弗彼科 ,  亚历山大·哈德瑞克·文森特·范费恩 ,  彼得·克瑞特

IPC: G03F7/20 ,  H01J37/317

CPC classification number: H01J3/02 ,  B82Y10/00 ,  B82Y40/00 ,  H01J37/06 ,  H01J37/3177 ,  H01J2237/0435 ,  H01J2237/06308 ,  H01J2237/06375 ,  H01J2237/3045

Abstract: 本发明涉及一种用于将图案转移到目标的表面上的电子束曝光设备，包括：用于产生多个电子小射束(5a、5b)的小射束发生器；用于接收所述多个电子小射束的调制阵列，包括用于调制电子小射束的强度的多个调制器；控制器，可操作地连接于所述调制阵列，用于单独地控制所述调制器；调节器，可操作地连接于每个调制器，用于单独地调节每个调制器的控制信号；包括静电透镜的阵列(7)的聚焦电子光学系统，其中每个透镜将由所述调制阵列传输的相应的单个小射束聚焦于小于300nm的横截面，以及用于以使得图案将被转移到其上的其曝光表面处于聚焦电子光学系统的第一焦平面中的方式固定所述目标的目标固定器。

公开(公告)号：CN101414536A

公开(公告)日：2009-04-22

申请号：CN200810166463.X

申请日：2003-10-30

Applicant: 迈普尔平版印刷IP有限公司

Inventor： 马尔科·扬-哈科·威兰 ,  波特·扬·卡姆弗彼科 ,  亚历山大·哈德瑞克·文森特·范费恩 ,  彼得·克瑞特

IPC: H01J37/317 ,  G03F7/20

CPC classification number: H01J3/02 ,  B82Y10/00 ,  B82Y40/00 ,  H01J37/06 ,  H01J37/3177 ,  H01J2237/0435 ,  H01J2237/06308 ,  H01J2237/06375 ,  H01J2237/3045

Abstract: 本发明涉及一种用于将图案转移到目标的表面上的电子束曝光设备，包括：用于产生多个电子小射束(5a、5b)的小射束发生器；用于接收所述多个电子小射束的调制阵列，包括用于调制电子小射束的强度的多个调制器；控制器，可操作地连接于所述调制阵列，用于单独地控制所述调制器；调节器，可操作地连接于每个调制器，用于单独地调节每个调制器的控制信号；包括静电透镜的阵列(7)的聚焦电子光学系统，其中每个透镜将由所述调制阵列传输的相应的单个小射束聚焦于小于300nm的横截面，以及用于以使得图案将被转移到其上的其曝光表面处于聚焦电子光学系统的第一焦平面中的方式固定所述目标的目标固定器。

公开(公告)号：CN102099889A

公开(公告)日：2011-06-15

申请号：CN200980128329.3

申请日：2009-05-20

Applicant: 先进电子束公司

Inventor： S·R·沃尔特 ,  M·L·布法诺 ,  G·M·弗里德曼

IPC: H01J37/06

CPC classification number: H01J37/063 ,  H01J2237/06308 ,  H01J2237/06375

Abstract: 电子束发射机包括用来产生电子的电子发生器。电子发生器可以有容纳至少一个产生电子的电子来源的壳体。至少一个电子来源有某种宽度。电子发生器壳体可能有与至少一个电子来源隔开的允许从电子发生器壳体中提取电子的电子透射区域。电子透射区域可能包括一系列在电子发生器壳体是形成的超过至少一个电子来源的宽度横向延伸的狭窄的长狭缝和肋。电子透射区域可能是相对于至少一个电子来源配置和放置的以便横向散布至少一个电子来源产生的电子。

公开(公告)号：CN101414127A

公开(公告)日：2009-04-22

申请号：CN200810166462.5

申请日：2003-10-30

Applicant: 迈普尔平版印刷IP有限公司

Inventor： 马尔科·扬-哈科·威兰 ,  波特·扬·卡姆弗彼科 ,  亚历山大·哈德瑞克·文森特·范费恩 ,  彼得·克瑞特

IPC: G03F7/20 ,  H01J37/317 ,  H01J37/04

CPC classification number: H01J3/02 ,  B82Y10/00 ,  B82Y40/00 ,  H01J37/06 ,  H01J37/3177 ,  H01J2237/0435 ,  H01J2237/06308 ,  H01J2237/06375 ,  H01J2237/3045

Abstract: 本发明涉及一种用于将图案转移到目标的表面上的电子束曝光设备，包括：用于产生多个电子小射束(5a、5b)的小射束发生器；用于接收所述多个电子小射束的调制阵列，包括用于调制电子小射束的强度的多个调制器；控制器，可操作地连接于所述调制阵列，用于单独地控制所述调制器；调节器，可操作地连接于每个调制器，用于单独地调节每个调制器的控制信号；包括静电透镜的阵列(7)的聚焦电子光学系统，其中每个透镜将由所述调制阵列传输的相应的单个小射束聚焦于小于300nm的横截面，以及用于以使得图案将被转移到其上的其曝光表面处于聚焦电子光学系统的第一焦平面中的方式固定所述目标的目标固定器。

公开(公告)号：CN101414125A

公开(公告)日：2009-04-22

申请号：CN200810166460.6

申请日：2003-10-30

Applicant: 迈普尔平版印刷IP有限公司

Inventor： 马尔科·扬-哈科·威兰 ,  波特·扬·卡姆弗彼科 ,  亚历山大·哈德瑞克·文森特·范费恩 ,  彼得·克瑞特

IPC: G03F7/20 ,  H01J37/317

CPC classification number: H01J3/02 ,  B82Y10/00 ,  B82Y40/00 ,  H01J37/06 ,  H01J37/3177 ,  H01J2237/0435 ,  H01J2237/06308 ,  H01J2237/06375 ,  H01J2237/3045

Abstract: 本发明涉及一种用于将图案转移到目标的表面上的电子束曝光设备，包括：用于产生多个电子小射束(5a、5b)的小射束发生器；用于接收所述多个电子小射束的调制阵列，包括用于调制电子小射束的强度的多个调制器；控制器，可操作地连接于所述调制阵列，用于单独地控制所述调制器；调节器，可操作地连接于每个调制器，用于单独地调节每个调制器的控制信号；包括静电透镜的阵列(7)的聚焦电子光学系统，其中每个透镜将由所述调制阵列传输的相应的单个小射束聚焦于小于300nm的横截面，以及用于以使得图案将被转移到其上的其曝光表面处于聚焦电子光学系统的第一焦平面中的方式固定所述目标的目标固定器。

公开(公告)号：CN1708826A

公开(公告)日：2005-12-14

申请号：CN200380102559.5

申请日：2003-10-30

Applicant: 迈普尔平版印刷IP有限公司

Inventor： 马尔科·扬-哈科·威兰 ,  波特·扬·卡姆弗彼科 ,  亚历山大·哈德瑞克·文森特·范费恩 ,  彼得·克瑞特

IPC: H01J37/302 ,  H01J37/317 ,  H01J37/304 ,  G03F7/20

CPC classification number: H01J3/02 ,  B82Y10/00 ,  B82Y40/00 ,  H01J37/06 ,  H01J37/3177 ,  H01J2237/0435 ,  H01J2237/06308 ,  H01J2237/06375 ,  H01J2237/3045

Abstract: 本发明涉及一种用于将图案转移到目标的表面上的电子束曝光设备，包括：用于产生多个电子小射束(5a、5b)的小射束发生器；用于接收所述多个电子小射束的调制阵列，包括用于调制电子小射束的强度的多个调制器；控制器，可操作地连接于所述调制阵列，用于单独地控制所述调制器；调节器，可操作地连接于每个调制器，用于单独地调节每个调制器的控制信号；包括静电透镜的阵列(7)的聚焦电子光学系统，其中每个透镜将由所述调制阵列传输的相应的单个小射束聚焦于小于300nm的横截面，以及用于以使得图案将被转移到其上的其曝光表面处于聚焦电子光学系统的第一焦平面中的方式固定所述目标的目标固定器。

公开(公告)号：CN102484024B

公开(公告)日：2015-08-12

申请号：CN201080041421.9

申请日：2010-09-15

Applicant: 株式会社爱发科

Inventor： 渡边将也 ,  楠本淑郎

IPC: H01J37/063 ,  C23C14/30 ,  H01J29/48 ,  H01J37/065

CPC classification number: C23C14/30 ,  H01J37/063 ,  H01J2237/0213 ,  H01J2237/06308 ,  H01J2237/3132

Abstract: 本发明的电子枪的特征在于，在比阳极电极（23）靠近发射口（13）侧具备被施加了相对于阳极电极（23）为正电压的推斥电极（24），所述推斥电极（24）将通过电子束与残留气体的碰撞而产生的沿着中心轴线（28）向阴极电极（21）方向行进的正离子向真空槽（18）侧推回。由于所述推斥电极（24）是圆筒形形状，所以不使电子束的轨道弯曲。此外，由于在所述推斥电极（24）形成有许多细孔，所以推斥电极（24）内的气体通过所述细孔而被真空排气。由此，能够提供防止正离子入射到阴极电极（21）的长寿命的电子枪。

公开(公告)号：CN101414129B

公开(公告)日：2012-11-28

申请号：CN200810166465.9

申请日：2003-10-30

Applicant: 迈普尔平版印刷IP有限公司

Inventor： 马尔科·扬-哈科·威兰 ,  波特·扬·卡姆弗彼科 ,  亚历山大·哈德瑞克·文森特·范费恩 ,  彼得·克瑞特

IPC: G03F7/20 ,  H01J37/317

CPC classification number: H01J3/02 ,  B82Y10/00 ,  B82Y40/00 ,  H01J37/06 ,  H01J37/3177 ,  H01J2237/0435 ,  H01J2237/06308 ,  H01J2237/06375 ,  H01J2237/3045

Abstract: 本发明涉及一种用于将图案转移到目标的表面上的电子束曝光设备，包括：用于产生多个电子小射束(5a、5b)的小射束发生器；用于接收所述多个电子小射束的调制阵列，包括用于调制电子小射束的强度的多个调制器；控制器，可操作地连接于所述调制阵列，用于单独地控制所述调制器；调节器，可操作地连接于每个调制器，用于单独地调节每个调制器的控制信号；包括静电透镜的阵列(7)的聚焦电子光学系统，其中每个透镜将由所述调制阵列传输的相应的单个小射束聚焦于小于300nm的横截面，以及用于以使得图案将被转移到其上的其曝光表面处于聚焦电子光学系统的第一焦平面中的方式固定所述目标的目标固定器。