一种放射成像方法及其系统

    公开(公告)号:CN108065950B

    公开(公告)日:2021-05-11

    申请号:CN201611001451.2

    申请日:2016-11-14

    Abstract: 本发明公开了一种放射成像方法,包括以下步骤,通过辐射源发射波束到物体上;通过探测器检测穿过所述物体的所述波束,并输出投影数据;确定所述物体沿着所述波束的位置;基于所述物体的所述位置确定卷积核;根据所述卷积核估算散射分布;基于所述散射分布校正所述的投影数据;及使用所述经校正的投影数据生成图像。所述散射分布能够更准确地估算并生能生成更清晰的图像。

    放射成像方法及其系统

    公开(公告)号:CN108078580A

    公开(公告)日:2018-05-29

    申请号:CN201611020809.6

    申请日:2016-11-21

    Abstract: 本发明公开了一种放射成像方法,包括以下步骤,通过辐射源放射波束到物体上;通过探测器检测穿过所述物体的所述波束,并输出投射数据;获得无物体时的散射强度;获得有物体时的散射透射率;基于无物体时的所述散射强度和有物体时的所述散射透射率,计算有物体时的所述散射强度;基于有物体时的所述散射强度校正所述投射数据;及使用所述经校正的投射数据生成图像。

    光谱计算机断层扫描(CT)的光谱校准

    公开(公告)号:CN109788926B

    公开(公告)日:2023-07-28

    申请号:CN201780058188.7

    申请日:2017-09-12

    Abstract: 本文阐述了一种方法,该方法包括利用CT成像系统的X射线检测器阵列执行一个或多个校准扫描,其中,一个或多个校准扫描包括针对X射线检测器阵列的第一个至第N个元件中的每一个元件获取一个或多个校准测量;并且使用该一个或多个校准测量来更新第一个至第N个元件中的每一个元件的光谱响应模型。在另一个方面中,CT成像系统可使用用于X射线检测器阵列的元件的经更新的光谱响应模型来执行成像,例如包括材料分解(MD)成像。可使用校准过程来更新光谱响应模型,使得X射线检测器阵列的不同元件具有不同的光谱响应模型。

Patent Agency Ranking