低共振合成喷射器结构
    1.
    发明授权

    公开(公告)号:CN105026049B

    公开(公告)日:2017-10-17

    申请号:CN201480015263.8

    申请日:2014-03-12

    CPC classification number: F04F7/00 Y10T29/494

    Abstract: 公开了一种用于在合成喷射器装置中实现较低的声学输出和增加的流输出的系统和方法。合成喷射器子组件包括安装支架、第一柔性基底、第二柔性基底、第一板和第二板,安装支架包括顶面和底面,第一柔性基底跨过由安装支架限定的开口定位并附接至安装支架的顶面,第二柔性基底跨过由安装支架限定的开口定位并附接至安装支架的底面,第一板附连至第一柔性基底的面向外侧的表面,第二板附连至第二柔性基底的面向外侧的表面。

    合成射流悬挂结构
    2.
    发明公开

    公开(公告)号:CN105188949A

    公开(公告)日:2015-12-23

    申请号:CN201480027372.1

    申请日:2014-03-12

    Abstract: 公开了用于提供合成射流与固定安装支架之间的振动阻尼的系统和方法。合成射流组件包括合成射流,其具有:第一板;与第一板间隔开的第二板;间隔物元件,其定位在第一板与第二板之间以将第一板和第二板维持在间隔开的关系下,间隔物元件包括形成于其中的孔;以及致动器元件,其联接至第一板和第二板中的至少一个以选择性地促使它的偏移,使得流体流被生成并从孔喷射出。合成射流组件还包括:安装支架,其定位在合成射流的附近以支撑合成射流;以及多个悬挂片,其以悬挂布置将合成射流联接至安装支架。

    低共振合成喷射器结构
    4.
    发明公开

    公开(公告)号:CN105026049A

    公开(公告)日:2015-11-04

    申请号:CN201480015263.8

    申请日:2014-03-12

    CPC classification number: F04F7/00 Y10T29/494

    Abstract: 公开了一种用于在合成喷射器装置中实现较低的声学输出和增加的流输出的系统和方法。合成喷射器子组件包括安装支架、第一柔性基底、第二柔性基底、第一板和第二板,安装支架包括顶面和底面,第一柔性基底跨过由安装支架限定的开口定位并附接至安装支架的顶面,第二柔性基底跨过由安装支架限定的开口定位并附接至安装支架的底面,第一板附连至第一柔性基底的面向外侧的表面,第二板附连至第二柔性基底的面向外侧的表面。

    合成射流悬挂结构
    7.
    发明授权

    公开(公告)号:CN105188949B

    公开(公告)日:2018-10-02

    申请号:CN201480027372.1

    申请日:2014-03-12

    Abstract: 公开了用于提供合成射流与固定安装支架之间的振动阻尼的系统和方法。合成射流组件包括合成射流,其具有:第一板;与第一板间隔开的第二板;间隔物元件,其定位在第一板与第二板之间以将第一板和第二板维持在间隔开的关系下,间隔物元件包括形成于其中的孔;以及致动器元件,其联接至第一板和第二板中的至少一个以选择性地促使它的偏移,使得流体流被生成并从孔喷射出。合成射流组件还包括:安装支架,其定位在合成射流的附近以支撑合成射流;以及多个悬挂片,其以悬挂布置将合成射流联接至安装支架。

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