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公开(公告)号：CN101045990A
公开(公告)日：2007-10-03
申请号：CN200610172997.4
申请日：2006-11-30
Applicant: 通用电气公司
Abstract: 本发明涉及用于晶片处理组件的抗蚀刻加热器，其具有良好的至少20℃/每分钟的上升速率，在整个表面，至少是一个电极上具有最大温度差(例如在300mm最大温度差＞100℃)。该加热器涂有保护性外涂层，使加热器在提高加热器温度＞1500℃下辐射效率高于70％，并且在NF3中600℃下具有小于100A/分钟的蚀刻率。
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