半导体结构及其制备方法、存储系统、电子设备

    公开(公告)号:CN119497385A

    公开(公告)日:2025-02-21

    申请号:CN202311038003.X

    申请日:2023-08-16

    Abstract: 本申请实施例提供了一种半导体结构及其制备方法、存储系统、电子设备,涉及半导体芯片技术领域,旨在减小半导体结构的厚度。半导体结构的半导体层层叠的设置在堆叠结构上,沟道结构包括半导体柱,半导体柱贯穿对堆叠结构,且半导体柱伸入到半导体层内;沟道结构为多个,多个沟道结构的半导体柱伸入到半导体层内的长度相同。各沟道结构伸入到半导体层内的长度相同,与各沟道结构的长度不等,为了适应长度较大的沟道结构,而将半导体层的厚度设置的较大相比,本申请实施例提供的半导体结构可以减小半导体层的厚度,进而减小半导体结构的厚度。上述半导体结构应用于三维存储器中,以实现数据的读取和写入操作。

    芯片堆叠结构及其制备方法、封装结构、电子设备

    公开(公告)号:CN119480853A

    公开(公告)日:2025-02-18

    申请号:CN202311015329.0

    申请日:2023-08-11

    Abstract: 本公开提供了一种芯片堆叠结构及其制备方法、封装结构、电子设备,涉及半导体封装技术领域,旨在改善传统半导体封装方式占用面积大的问题。芯片堆叠结构包括层叠设置的第一器件和第二器件和柔性中介层。其中,第一器件的第一表面和第二器件的第一表面相对设置且相连接,第一器件的第二表面和第二器件的第二表面相背设置。柔性中介层包括第一子部、第一连接子部和第二子部,第一连接子部连接于第一子部和第二子部之间,第一子部位于第一器件背离第二器件的一侧,第二子部位于第二器件背离第一器件的一侧。通过上述设置,有利于减小第一器件和第二器件在封装基板上占用的面积,从而减小了封装结构的面积,有利于电子设备向小型化发展。

    三维存储器及其制备方法、存储系统、电子设备

    公开(公告)号:CN119907231A

    公开(公告)日:2025-04-29

    申请号:CN202311423177.8

    申请日:2023-10-27

    Abstract: 本发明实施例提供了一种三维存储器及其制备方法、存储系统、电子设备,涉及半导体芯片技术领域,旨在增加三维存储器的容量。本发明实施例中提供的三维存储器,中间层具有在厚度方向上的第一侧和第二侧,第一器件层位于中间层的第一侧,第一存储阵列层位于第一器件层背离中间层的一侧,第二器件层位于中间层的第二侧,第二存储阵列层位于第二器件层背离中间层的一侧,从而在中间层的厚度方向上形成层叠设置的第一存储阵列层、第一器件层、中间层、第二器件层、第二存储阵列层的五层结构,在单位面积上具有用于存储的第一存储阵列层和第二存储阵列层,增加了三维存储器的容量。

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