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公开(公告)号:CN110398851B
公开(公告)日:2024-08-16
申请号:CN201910326948.9
申请日:2019-04-23
Applicant: 长濑化成株式会社
IPC: G02F1/1333 , H05K9/00 , C09D183/02 , C09D185/00 , C09D5/24
Abstract: 本发明的课题是提供一种具有透明导电膜的光学层积体和能够形成该透明导电膜的涂布组合物,该透明导电膜在兼顾噪声截止性能和高频信号透过性的同时、生产率和耐候性也优异。本发明的解决手段是一种光学层积体,其为在玻璃基板上具有透明导电膜的用于内嵌型触控面板的光学层积体,透明导电膜含有(a)碳纳米材料和(b)无机系热固性树脂,表面电阻率为0.05GΩ/□~60GΩ/□,550nm波长下的折射率为1.40~1.65。
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公开(公告)号:CN110797139A
公开(公告)日:2020-02-14
申请号:CN201910692566.8
申请日:2019-07-30
Applicant: 长濑化成株式会社
Abstract: [课题]本发明提供一种具有高的导电性和透明性的透明导电层积体和导电层积体的制造方法。[解决手段]一种透明导电层积体,其为在基材上具有包含碳材料且表面电阻率为1×102Ω/sq~1×1011Ω/sq的导电层的透明导电层积体,其特征在于,长径为10μm以上且短径为2μm以上的碳材料的含量为10个/cm2以下。
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公开(公告)号:CN106575053A
公开(公告)日:2017-04-19
申请号:CN201580042371.9
申请日:2015-08-06
Applicant: 长濑化成株式会社
IPC: G02F1/1333 , G02F1/1335 , H01B1/20 , H01B5/14
CPC classification number: G02F1/1333 , G02F1/1335 , H01B1/20 , H01B5/14
Abstract: 本发明的目的在于提供一种透明导电体,其可以容易地以均匀的厚度形成导电层,并且在生产率及制造成本的方面优异。本发明的透明导电体是在经研磨处理的玻璃基材的至少一个面依次层积有粘合层、偏振层和导电层的透明导电体,导电层使用包含导电性高分子的涂布组合物来形成,表面电阻率为102Ω/□~105Ω/□。
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公开(公告)号:CN104916350B
公开(公告)日:2020-08-18
申请号:CN201510109016.0
申请日:2015-03-12
Applicant: 长濑化成株式会社
IPC: H01B5/14
Abstract: 本发明提供透明导电膜的修复和再生方法及透明导电层积体,提供在透明导电膜中存在一定范围的全长的膜缺陷时将膜缺陷部不可见化而将透明导电膜修复和再生的方法。还提供具备通过该方法进行了修复和再生的透明导电膜的透明导电层积体。本发明涉及透明导电膜的修复和再生方法,该方法的特征在于,包括在透明导电膜上的凹部层积透明树脂层的工序,透明导电膜通过涂布含有导电材料的透明导电膜形成用组合物而形成,其配置于基材的至少一个面上,凹部为选自由起因于基材形状的凹陷、存在于透明导电膜的损伤或缺损、将存在于透明导电膜的异物除去而形成的凹陷、以及对存在于透明导电膜的缺损加压而形成的凹陷组成的组中的至少一种,凹部的全长为10~300μm。
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公开(公告)号:CN110398851A
公开(公告)日:2019-11-01
申请号:CN201910326948.9
申请日:2019-04-23
Applicant: 长濑化成株式会社
IPC: G02F1/1333 , H05K9/00 , C09D183/02 , C09D185/00 , C09D5/24
Abstract: 本发明的课题是提供一种具有透明导电膜的光学层积体和能够形成该透明导电膜的涂布组合物,该透明导电膜在兼顾噪声截止性能和高频信号透过性的同时、生产率和耐候性也优异。本发明的解决手段是一种光学层积体,其为在玻璃基板上具有透明导电膜的用于内嵌型触控面板的光学层积体,透明导电膜含有(a)碳纳米材料和(b)无机系热固性树脂,表面电阻率为0.05GΩ/□~60GΩ/□,550nm波长下的折射率为1.40~1.65。
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公开(公告)号:CN104916350A
公开(公告)日:2015-09-16
申请号:CN201510109016.0
申请日:2015-03-12
Applicant: 长濑化成株式会社
IPC: H01B5/14
Abstract: 本发明提供透明导电膜的修复和再生方法及透明导电层积体,提供在透明导电膜中存在一定范围的全长的膜缺陷时将膜缺陷部不可见化而将透明导电膜修复和再生的方法。还提供具备通过该方法进行了修复和再生的透明导电膜的透明导电层积体。本发明涉及透明导电膜的修复和再生方法,该方法的特征在于,包括在透明导电膜上的凹部层积透明树脂层的工序,透明导电膜通过涂布含有导电材料的透明导电膜形成用组合物而形成,其配置于基材的至少一个面上,凹部为选自由起因于基材形状的凹陷、存在于透明导电膜的损伤或缺损、将存在于透明导电膜的异物除去而形成的凹陷、以及对存在于透明导电膜的缺损加压而形成的凹陷组成的组中的至少一种,凹部的全长为10~300μm。
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