等离子体清洗装置和具有该装置的半导体加工器械

    公开(公告)号:CN113042461B

    公开(公告)日:2023-03-10

    申请号:CN202011556941.5

    申请日:2020-12-25

    Abstract: 本发明涉及一种等离子体清洗装置和具有该装置的半导体加工器械。一种等离子体清洗装置,包括金属室、闸门组件、电介质和高压电极。金属室连接到真空管,并且设置有第一开口,真空管连接加工室和真空泵。闸门组件包括闸门支撑件和闸门,该闸门支撑件围绕第一开口被固定到金属室并具有第二开口,该闸门联接到闸门支撑件并具有关闭第二开口的第一位置和打开第二开口的第二位置,第一位置和第二位置可彼此切换。电介质围绕第二开口联接到闸门支撑件的外部,且高压电极位于电介质的外表面上。

    具有远程等离子体装置的真空泵系统

    公开(公告)号:CN110863989A

    公开(公告)日:2020-03-06

    申请号:CN201910716516.9

    申请日:2019-08-05

    Abstract: 根据本发明的一个实施例的真空泵系统,其包含:前端泵浦和后端泵浦,其连接于真空管;以及远程等离子体装置,其设置于真空管的外侧。远程等离子体装置包含:管状接地电极,其围绕形成于真空管的第一开口,并且固定在真空管的外壁上;绝缘体,其结合在接地电极的端部上;以及高压电极,其位于绝缘体的外表面。接地电极包含:第一管状部,其与真空管交叉;以及环状限制部,其与第一管状部的绝缘体侧端部保持距离位于第一管状部的内侧,并且形成有直径小于真空管内径的第二开口。

    用于减少有害物质的等离子体反应器

    公开(公告)号:CN105013419A

    公开(公告)日:2015-11-04

    申请号:CN201510205427.X

    申请日:2015-04-27

    Abstract: 本发明涉及用于减少有害物质的等离子体反应器。提供了一种通过在真空泵的前端部分分解各种有害物质来减少有害物质的等离子体反应器。用于减少有害物质的等离子体反应器包括接地电极部件、绝缘体和驱动电极。接地电极部件包括位于真空泵的前端部分且具有管状形状的第一接地电极和连接到第一接地电极的侧面的第二接地电极,第一接地电极包括面向真空泵的第一端部部件和在其相对侧的第二端部部件,第二接地电极具有管状形状且转移处理气体。绝缘体被连接地安装到第二端部部件。驱动电极被固定到绝缘体的外表面,在被连接到电源时施加驱动电压,且由于与接地电极部件的电压差在第一接地电极的内部产生了低压等离子体。

    用于减少有害物质的等离子体反应器

    公开(公告)号:CN105013419B

    公开(公告)日:2017-05-17

    申请号:CN201510205427.X

    申请日:2015-04-27

    Abstract: 本发明涉及用于减少有害物质的等离子体反应器。提供了一种通过在真空泵的前端部分分解各种有害物质来减少有害物质的等离子体反应器。用于减少有害物质的等离子体反应器包括接地电极部件、绝缘体和驱动电极。接地电极部件包括位于真空泵的前端部分且具有管状形状的第一接地电极和连接到第一接地电极的侧面的第二接地电极,第一接地电极包括面向真空泵的第一端部部件和在其相对侧的第二端部部件,第二接地电极具有管状形状且转移处理气体。绝缘体被连接地安装到第二端部部件。驱动电极被固定到绝缘体的外表面,在被连接到电源时施加驱动电压,且由于与接地电极部件的电压差在第一接地电极的内部产生了低压等离子体。

    具有远程等离子体装置的真空泵系统

    公开(公告)号:CN110863989B

    公开(公告)日:2022-04-01

    申请号:CN201910716516.9

    申请日:2019-08-05

    Abstract: 根据本发明的一个实施例的真空泵系统,其包含:前端泵浦和后端泵浦,其连接于真空管;以及远程等离子体装置,其设置于真空管的外侧。远程等离子体装置包含:管状接地电极,其围绕形成于真空管的第一开口,并且固定在真空管的外壁上;绝缘体,其结合在接地电极的端部上;以及高压电极,其位于绝缘体的外表面。接地电极包含:第一管状部,其与真空管交叉;以及环状限制部,其与第一管状部的绝缘体侧端部保持距离位于第一管状部的内侧,并且形成有直径小于真空管内径的第二开口。

    等离子体清洗装置和具有该装置的半导体加工器械

    公开(公告)号:CN113042461A

    公开(公告)日:2021-06-29

    申请号:CN202011556941.5

    申请日:2020-12-25

    Abstract: 本发明涉及一种等离子体清洗装置和具有该装置的半导体加工器械。一种等离子体清洗装置,包括金属室、闸门组件、电介质和高压电极。金属室连接到真空管,并且设置有第一开口,真空管连接加工室和真空泵。闸门组件包括闸门支撑件和闸门,该闸门支撑件围绕第一开口被固定到金属室并具有第二开口,该闸门联接到闸门支撑件并具有关闭第二开口的第一位置和打开第二开口的第二位置,第一位置和第二位置可彼此切换。电介质围绕第二开口联接到闸门支撑件的外部,且高压电极位于电介质的外表面上。

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