公开(公告)号：CN105849159B

公开(公告)日：2019-06-18

申请号：CN201480071118.1

申请日：2014-12-19

Applicant: AGC株式会社

Inventor： 杉山徳英 ,  山崎龙二郎 ,  斋藤贡 ,  浅川昭彦 ,  大仓雅博 ,  和田真治

IPC: C08J3/28 ,  C08F14/18

CPC classification number: C08J3/24 ,  C08F214/18 ,  C08F214/184 ,  C08J3/28 ,  C08J2327/12 ,  H01L33/56

Abstract: 本发明提供HF的产生量少、稳定性优异的含氟交联体的制造方法。一种含氟交联体的制造方法，其中，对具有下式(1)所示的单元的含氟聚合物照射波长150～300nm的活性能量射线。(式(1)中，X1及X2各自独立地为氢原子或氟原子，Rf1为氟亚烷基、或在碳‑碳原子间具有醚性氧原子的碳数2以上的氟亚烷基，Q1为单键或醚性氧原子，Z1为OH、OR1或NR2R3，R1为烷基，R2及R3各自独立地为氢原子或烷基。)