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公开(公告)号:CN111373548A
公开(公告)日:2020-07-03
申请号:CN201880075372.7
申请日:2018-08-24
Applicant: AGC株式会社
IPC: H01L29/786 , H01L21/336
Abstract: 一种薄膜晶体管,其为顶栅共面型的薄膜晶体管,具有源极、漏极、栅极、及半导体层;前述半导体层具有前述源极用的第1低电阻区域、和前述漏极用的第2低电阻区域;前述源极及前述漏极借助前述第1低电阻区域、前述半导体层、及前述第2低电阻区域进行电连接,前述半导体层由包含镓(Ga)、锌(Zn)、及锡(Sn)的氧化物系的半导体构成。
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公开(公告)号:CN111406324A
公开(公告)日:2020-07-10
申请号:CN201880076573.9
申请日:2018-10-30
Applicant: AGC株式会社 , 国立大学法人东京工业大学
IPC: H01L29/786 , H01L21/363 , H01L31/0248 , H01L51/50
Abstract: 一种氧化物系的半导体化合物,其为包含金属阳离子及氧的氧化物系的半导体化合物,与前述金属阳离子键合的氢负离子H-被氟离子F-置换,所述半导体化合物具有1个~3个与金属阳离子键合的氟离子F-。
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