带覆膜的基材和其制造方法

    公开(公告)号:CN115088126A

    公开(公告)日:2022-09-20

    申请号:CN202180013927.7

    申请日:2021-02-19

    Inventor: 神谷亮介

    Abstract: 提供:涂覆于多孔体的表面时、能形成维持多孔体的孔、且不易产生落粉的多孔膜层的颗粒状的带覆膜的基材。一种带覆膜的基材,其具有:基材、和覆盖前述基材的表面的氟树脂的覆膜,所述基材为颗粒,前述氟树脂的熔体流动速率为0.01~100g/10分钟。

Patent Agency Ranking