公开(公告)号：CN111318958B

公开(公告)日：2023-07-14

申请号：CN201911281348.1

申请日：2019-12-13

Applicant: AGC株式会社

Inventor： 柿崎干 ,  阿部重人

IPC: B24B37/30

Abstract: 本发明涉及玻璃基板的保持用膜体和玻璃基板的研磨方法。本发明提供一种玻璃基板的保持用膜体，该玻璃基板的保持用膜体的寿命长并且能够得到平坦度高的玻璃基板。一种玻璃基板的保持用膜体，其具备第一构件和第二构件，所述第一构件具有：在第一表面上吸附并保持玻璃基板的第一自吸附型片、设置在第一自吸附型片的第二表面上的第一粘合层、第一片状基材和第二粘合层；所述第二构件具有：在第一表面上吸附并保持玻璃基板的第二自吸附型片、设置在第二自吸附型片的第二表面上的第三粘合层、第二片状基材和第四粘合层；并且第一自吸附型片的第一表面与第二自吸附型片的第一表面连接。

公开(公告)号：CN114800277A

公开(公告)日：2022-07-29

申请号：CN202210029990.6

申请日：2022-01-12

Applicant: AGC株式会社

Inventor： 柿崎干 ,  阿部重人 ,  藤川祥太朗 ,  长泽昂 ,  久保和也 ,  木村昭太

IPC: B24B53/017 ,  B24B53/02

Abstract: 本发明提供修整器、研磨垫的修整方法及玻璃基板的制造方法。金刚石修整器将研磨垫表面磨削除去，因此存在研磨垫的使用寿命变短这样的问题。并且，使用刷子修整器来从研磨垫的微细孔中除去堵塞物质的方法虽然研磨垫的表面难以被磨削，但是存在无法可靠地除去微细孔中积存的堵塞物质这样的问题。本发明的目的在于提供一种能够抑制破坏研磨垫的研磨面或使研磨垫的研磨面变粗糙并且能够除去处于研磨垫的研磨面上的堵塞物质，且能够均匀地修整研磨垫的研磨面的修整器以及修整方法。本发明的修整器的特征在于具有：圆柱状的主体部，具有曲面；以及修整部，形成于所述主体部的曲面，所述修整部距离所述主体部的曲面的高度为1.0mm以上且30mm以下。

公开(公告)号：CN111318958A

公开(公告)日：2020-06-23

申请号：CN201911281348.1

申请日：2019-12-13

Applicant: AGC株式会社

Inventor： 柿崎干 ,  阿部重人

IPC: B24B37/30

Abstract: 本发明涉及玻璃基板的保持用膜体和玻璃基板的研磨方法。本发明提供一种玻璃基板的保持用膜体，该玻璃基板的保持用膜体的寿命长并且能够得到平坦度高的玻璃基板。一种玻璃基板的保持用膜体，其具备第一构件和第二构件，所述第一构件具有：在第一表面上吸附并保持玻璃基板的第一自吸附型片、设置在第一自吸附型片的第二表面上的第一粘合层、第一片状基材和第二粘合层；所述第二构件具有：在第一表面上吸附并保持玻璃基板的第二自吸附型片、设置在第二自吸附型片的第二表面上的第三粘合层、第二片状基材和第四粘合层；并且第一自吸附型片的第一表面与第二自吸附型片的第一表面连接。