-
公开(公告)号：CN101517490A
公开(公告)日：2009-08-26
申请号：CN200780035123.7
申请日：2007-09-17
Applicant: ASML荷兰有限公司
Inventor： 约翰内斯·克里斯蒂安·里昂纳多斯·弗兰肯 , 瓦蒂姆·耶乌金耶维奇·班尼恩 , 阿诺德·康纳立斯·瓦森克
CPC classification number: G03F7/70916 , B82Y10/00 , F16C32/0603 , F16C32/0685 , F16C33/02 , F16C33/72 , F16C2300/62 , G03F7/70033 , G03F7/70941
Abstract: 本发明提供一种污染物陷阱设备(10)，其配置在辐射束的路径(R)上以捕获从构造用于产生所述辐射束的辐射源(50)发射的污染物。污染物陷阱设备(10)包括：具有多个限定通道(ch)的通道形成元件(11)的转子(10)，所述通道形成元件配置成基本上平行于所述辐射束的传播方向，所述转子(10)包括可充电材料并且配置成由于所述辐射源(50)的运行而会被充电；和构造成相对于转子承载结构(30)可旋转地保持所述转子(10)的轴承(20)，其中所述设备构造成(i)控制所述转子(10)的放电(ED)或改变所述转子(10)的放电(ED)方向，或(ii)抑制所述转子(10)的放电(ED)，或(iii)包括(i)和(ii)两者。
-
公开(公告)号：CN116018557A
公开(公告)日：2023-04-25
申请号：CN202180052634.X
申请日：2021-07-29
Applicant: ASML荷兰有限公司
Inventor： 瓦蒂姆·耶乌金耶维奇·班尼恩 , 保罗·亚历山大·维梅伦 , C·A·德迈耶雷 , J·H·J·莫尔斯 , A·尼基帕罗夫 , G·萨尔玛索 , M·A·范德柯克霍夫 , P·耶格霍比
IPC: G03F1/62
Abstract: 一种用于还原部分氧化的掩模版和表膜组件的设备，包括：支撑件；氢气供应装置；以及电子源。所述支撑件用于支撑掩模版和表膜组件。所述氢气供应装置可操作以在掩模版和表膜组件由所述支撑件支撑时将氢气供应到掩模版和表膜组件的表膜附近。所述电子源可操作以在掩模版和表膜组件由所述支撑件支撑时引导电子入射到掩模版和表膜组件的表膜上。
-
公开(公告)号：CN102402136A
公开(公告)日：2012-04-04
申请号：CN201110433243.0
申请日：2007-09-17
Applicant: ASML荷兰有限公司
Inventor： 约翰内斯·克里斯蒂安·里昂纳多斯·弗兰肯 , 瓦蒂姆·耶乌金耶维奇·班尼恩 , 阿诺德·康纳立斯·瓦森克
CPC classification number: G03F7/70916 , B82Y10/00 , F16C32/0603 , F16C32/0685 , F16C33/02 , F16C33/72 , F16C2300/62 , G03F7/70033 , G03F7/70941
Abstract: 本发明涉及一种包括可旋转污染物陷阱的设备和方法，其配置在辐射束的路径上以捕获从构造用于产生所述辐射束的辐射源发射的污染物。污染物陷阱设备包括：具有多个限定通道的通道形成元件的转子，所述通道形成元件配置成基本上平行于所述辐射束的传播方向，所述转子包括可充电材料并且配置成由于所述辐射源的运行而会被充电；和构造成相对于转子承载结构可旋转地保持所述转子的轴承，其中所述设备构造成(i)控制所述转子的放电或改变所述转子的放电方向，或(ii)抑制所述转子的放电，或(iii)包括(i)和(ii)两者。
-
公开(公告)号：CN101517490B
公开(公告)日：2011-12-28
申请号：CN200780035123.7
申请日：2007-09-17
Applicant: ASML荷兰有限公司
Inventor： 约翰内斯·克里斯蒂安·里昂纳多斯·弗兰肯 , 瓦蒂姆·耶乌金耶维奇·班尼恩 , 阿诺德·康纳立斯·瓦森克
CPC classification number: G03F7/70916 , B82Y10/00 , F16C32/0603 , F16C32/0685 , F16C33/02 , F16C33/72 , F16C2300/62 , G03F7/70033 , G03F7/70941
Abstract: 本发明提供一种污染物陷阱设备(10)，其配置在辐射束的路径(R)上以捕获从构造用于产生所述辐射束的辐射源(50)发射的污染物。污染物陷阱设备(10)包括：具有多个限定通道(ch)的通道形成元件(11)的转子(10)，所述通道形成元件配置成基本上平行于所述辐射束的传播方向，所述转子(10)包括可充电材料并且配置成由于所述辐射源(50)的运行而会被充电；和构造成相对于转子承载结构(30)可旋转地保持所述转子(10)的轴承(20)，其中所述设备构造成(i)控制所述转子(10)的放电(ED)或改变所述转子(10)的放电(ED)方向，或(ii)抑制所述转子(10)的放电(ED)，或(iii)包括(i)和(ii)两者。
-
-
-
Search Results
4
records
(took 0.027 seconds)
