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公开(公告)号：CN102388344A
公开(公告)日：2012-03-21
申请号：CN201080016150.1
申请日：2010-02-16
Applicant: ASML荷兰有限公司
CPC classification number: G03F7/70858 , G03F7/706 , G03F7/70808 , G03F7/7085
Abstract: 描述了一种检测器模块(20)，其包括：至少一个检测器(30)，用于感测光子辐射；电子电路(40)，耦接至所述至少一个检测器(30)；和具有第一和第二主体(60，70)的壳体(50)，每一主体具有底部部分(62，72)和从所述底部部分(62，72)延伸的至少部分筒形部分(64，74)，其中所述第一主体(60)的至少部分筒形部分(64)与所述第二主体(70)的至少部分筒形部分(74)热耦接，其中所述第一主体(60)的至少部分筒形部分(64)朝向所述第二主体(70)的底部部分(72)延伸，且其中所述电子电路(40)布置在所述壳体(50)的内部。还描述了包括检测器模块(20)的光刻设备。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN104321702A
公开(公告)日：2015-01-28
申请号：CN201380026160.7
申请日：2013-03-19
Applicant: ASML荷兰有限公司
Inventor： T·劳伦特 , J·H·W·雅各布斯 , H·考克 , Y·范德维基维尔 , J·范德瓦尔 , B·克拿伦 , R·J·伍德 , J·S·C·维斯特尔拉肯 , H·范德里基德特 , E·库伊克尔 , W·M·J·赫肯斯-墨腾斯 , Y·B·Y·特莱特
IPC: G03F7/20
CPC classification number: G03F7/7085 , G03F7/70341 , G03F7/70666 , G03F7/70858 , G03F7/70891
Abstract: 一种用于浸没类型的光刻设备中的传感器(100)，其在使用时接触浸没液体(11)，布置成使得从传感器的变换器(104)至温度调节装置(107)的第一热流路径的热阻小于从变换器至浸没液体的第二热流路径的热阻。因此，热流更倾向于流向温度调节装置而不是浸没液体，使得能够减小或最小化浸没液体中的温度引发的扰动。
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公开(公告)号：CN106873312A
公开(公告)日：2017-06-20
申请号：CN201610987008.0
申请日：2013-03-19
Applicant: ASML荷兰有限公司
Inventor： T·劳伦特 , J·H·W·雅各布斯 , H·考克 , Y·范德维基维尔 , J·范德瓦尔 , B·克拿伦 , R·J·伍德 , J·S·C·维斯特尔拉肯 , H·范德里基德特 , E·库伊克尔 , W·M·J·赫肯斯-墨腾斯 , Y·B·Y·特莱特
IPC: G03F7/20
Abstract: 本发明提供了一种用于浸没光刻设备中的传感器、光刻设备和使用浸没光刻设备的器件制造方法。所述传感器包括构件，在传感器的使用过程中所述构件接触供给至与投影系统的最终元件相邻的空间的浸没液体；变换器，配置成将刺激转换为电信号；温度调节装置，配置成使用由冷却剂供给装置所供给的热传递介质进行所述变换器的温度调节；和控制器，配置成控制所述温度调节装置以主动地控制所述变换器的温度。
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公开(公告)号：CN102388344B
公开(公告)日：2014-05-14
申请号：CN201080016150.1
申请日：2010-02-16
Applicant: ASML荷兰有限公司
CPC classification number: G03F7/70858 , G03F7/706 , G03F7/70808 , G03F7/7085
Abstract: 本发明描述了一种检测器模块(20)，其包括：至少一个检测器(30)，用于感测光子辐射；电子电路(40)，耦接至所述至少一个检测器(30)；和具有第一和第二主体(60，70)的壳体(50)，每一主体具有底部部分(62，72)和从所述底部部分(62，72)延伸的至少部分筒形部分(64，74)，其中所述第一主体(60)的至少部分筒形部分(64)与所述第二主体(70)的至少部分筒形部分(74)热耦接，其中所述第一主体(60)的至少部分筒形部分(64)朝向所述第二主体(70)的底部部分(72)延伸，且其中所述电子电路(40)布置在所述壳体(50)的内部。还描述了包括检测器模块(20)的光刻设备。
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公开(公告)号：CN106873312B
公开(公告)日：2019-09-06
申请号：CN201610987008.0
申请日：2013-03-19
Applicant: ASML荷兰有限公司
Inventor： T·劳伦特 , J·H·W·雅各布斯 , H·考克 , Y·范德维基维尔 , J·范德瓦尔 , B·克拿伦 , R·J·伍德 , J·S·C·维斯特尔拉肯 , H·范德里基德特 , E·库伊克尔 , W·M·J·赫肯斯-墨腾斯 , Y·B·Y·特莱特
IPC: G03F7/20
Abstract: 本发明提供了一种用于浸没光刻设备中的传感器、光刻设备和使用浸没光刻设备的器件制造方法。所述传感器包括构件，在传感器的使用过程中所述构件接触供给至与投影系统的最终元件相邻的空间的浸没液体；变换器，配置成将刺激转换为电信号；温度调节装置，配置成使用由冷却剂供给装置所供给的热传递介质进行所述变换器的温度调节；和控制器，配置成控制所述温度调节装置以主动地控制所述变换器的温度。
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公开(公告)号：CN104321702B
公开(公告)日：2016-11-23
申请号：CN201380026160.7
申请日：2013-03-19
Applicant: ASML荷兰有限公司
Inventor： T·劳伦特 , J·H·W·雅各布斯 , H·考克 , Y·范德维基维尔 , J·范德瓦尔 , B·克拿伦 , R·J·伍德 , J·S·C·维斯特尔拉肯 , H·范德里基德特 , E·库伊克尔 , W·M·J·赫肯斯-墨腾斯 , Y·B·Y·特莱特
IPC: G03F7/20
CPC classification number: G03F7/7085 , G03F7/70341 , G03F7/70666 , G03F7/70858 , G03F7/70891
Abstract: 一种用于浸没类型的光刻设备中的传感器(100)，其在使用时接触浸没液体(11)，布置成使得从传感器的变换器(104)至温度调节装置(107)的第一热流路径的热阻小于从变换器至浸没液体的第二热流路径的热阻。因此，热流更倾向于流向温度调节装置而不是浸没液体，使得能够减小或最小化浸没液体中的温度引发的扰动。
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