公开(公告)号：CN106462080B

公开(公告)日：2020-03-13

申请号：CN201580030265.9

申请日：2015-04-24

Applicant: ASML荷兰有限公司

Inventor： C·W·J·贝伦德森 ,  M·贝克斯 ,  H·J·卡斯特里杰恩斯 ,  H·A·格瑞斯 ,  A·H·凯沃特斯 ,  L·M·勒瓦希尔 ,  P·沙普 ,  B·斯特瑞夫科尔克 ,  S·A·特罗普

IPC: G03F7/20

Abstract: 一种用于补偿光刻设备的曝光过程中的曝光误差的方法，光刻设备包括衬底台，该方法包括：获得剂量测量，剂量测量指示到达衬底水平面的IR辐射的剂量，其中剂量测量能够用来计算曝光过程期间由光刻设备中的物体吸收的IR辐射的量；以及使用剂量测量来控制曝光过程以便补偿与曝光过程期间由物体吸收的IR辐射相关联的曝光误差。

公开(公告)号：CN111176079B

公开(公告)日：2023-02-14

申请号：CN202010106860.9

申请日：2015-04-24

Applicant: ASML荷兰有限公司

Inventor： C·W·J·贝伦德森 ,  M·贝克斯 ,  H·J·卡斯特里杰恩斯 ,  H·A·格瑞斯 ,  A·H·凯沃特斯 ,  L·M·勒瓦希尔 ,  P·沙普 ,  B·斯特瑞夫科尔克 ,  S·A·特罗普

IPC: G03F7/20

Abstract: 一种用于补偿光刻设备的曝光过程中的曝光误差的方法，光刻设备包括衬底台，该方法包括：获得剂量测量，剂量测量指示到达衬底水平面的IR辐射的剂量，其中剂量测量能够用来计算曝光过程期间由光刻设备中的物体吸收的IR辐射的量；以及使用剂量测量来控制曝光过程以便补偿与曝光过程期间由物体吸收的IR辐射相关联的曝光误差。

公开(公告)号：CN111176079A

公开(公告)日：2020-05-19

申请号：CN202010106860.9

申请日：2015-04-24

Applicant: ASML荷兰有限公司

Inventor： C·W·J·贝伦德森 ,  M·贝克斯 ,  H·J·卡斯特里杰恩斯 ,  H·A·格瑞斯 ,  A·H·凯沃特斯 ,  L·M·勒瓦希尔 ,  P·沙普 ,  B·斯特瑞夫科尔克 ,  S·A·特罗普

IPC: G03F7/20

Abstract: 一种用于补偿光刻设备的曝光过程中的曝光误差的方法，光刻设备包括衬底台，该方法包括：获得剂量测量，剂量测量指示到达衬底水平面的IR辐射的剂量，其中剂量测量能够用来计算曝光过程期间由光刻设备中的物体吸收的IR辐射的量；以及使用剂量测量来控制曝光过程以便补偿与曝光过程期间由物体吸收的IR辐射相关联的曝光误差。

公开(公告)号：CN106462080A

公开(公告)日：2017-02-22

申请号：CN201580030265.9

申请日：2015-04-24

Applicant: ASML荷兰有限公司

Inventor： C·W·J·贝伦德森 ,  M·贝克斯 ,  H·J·卡斯特里杰恩斯 ,  H·A·格瑞斯 ,  A·H·凯沃特斯 ,  L·M·勒瓦希尔 ,  P·沙普 ,  B·斯特瑞夫科尔克 ,  S·A·特罗普

IPC: G03F7/20

Abstract: 一种用于补偿光刻设备的曝光过程中的曝光误差的方法，光刻设备包括衬底台，该方法包括：获得剂量测量，剂量测量指示到达衬底水平面的IR辐射的剂量，其中剂量测量能够用来计算曝光过程期间由光刻设备中的物体吸收的IR辐射的量；以及使用剂量测量来控制曝光过程以便补偿与曝光过程期间由物体吸收的IR辐射相关联的曝光误差。