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公开(公告)号：CN101916050A
公开(公告)日：2010-12-15
申请号：CN201010249792.8
申请日：2005-06-23
Applicant: ASML荷兰有限公司
IPC: G03F7/20
CPC classification number: G03F7/70933 , G03F7/70341 , G03F7/70808
Abstract: 本发明公开了一种光刻投影装置。该装置包括一配置成调节辐射光束的照射系统和一配置成支撑构图部件的支撑结构。该构图部件用于在辐射光束的横截面将图案赋予给辐射光束。该装置还包括一配置成保持基底的基底台，一配置成将带图案的光束投影到基底的靶部上的投影系统，以及一配置成将流体提供给一个容积的流体供给系统。该容积包括至少一部分投影系统和/或至少一部分照射系统。该装置还包括一配置成将流体供给系统连接到基底台、基底、支撑结构、构图部件、或其任何组合的连接部件。
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公开(公告)号：CN1770010A
公开(公告)日：2006-05-10
申请号：CN200510118032.2
申请日：2005-10-24
Applicant: ASML荷兰有限公司
Inventor： N·A·拉勒曼特 , M·贝克斯 , W·F·G·M·赫托格 , D·T·W·范德普拉斯 , S·科伊林克 , R·詹森
CPC classification number: G03F7/70933
Abstract: 一种光刻设备包括用于提供辐射束的辐射系统，以及用于支撑构图装置的第一支撑件。该构图装置用于构图辐射束。该设备包括用于支撑基底的第二支撑件，用于将带图案的束投射到基底的靶部分上的投影系统，以及用于在投影系统下面延伸的气体的伸长的体积中提供沿着轴线延伸的干涉测量束的干涉仪测量系统。该设备还包括用于在该体积中提供调节的气体流的气体调节结构。该气体调节结构包括设置在该结构的出口处的多个气体导向叶片，用于将气体流导向到该体积。该气体导向叶片连续成形，且定向为离开该体积的轴线发散。
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公开(公告)号：CN106462080B
公开(公告)日：2020-03-13
申请号：CN201580030265.9
申请日：2015-04-24
Applicant: ASML荷兰有限公司
Inventor： C·W·J·贝伦德森 , M·贝克斯 , H·J·卡斯特里杰恩斯 , H·A·格瑞斯 , A·H·凯沃特斯 , L·M·勒瓦希尔 , P·沙普 , B·斯特瑞夫科尔克 , S·A·特罗普
IPC: G03F7/20
Abstract: 一种用于补偿光刻设备的曝光过程中的曝光误差的方法，光刻设备包括衬底台，该方法包括：获得剂量测量，剂量测量指示到达衬底水平面的IR辐射的剂量，其中剂量测量能够用来计算曝光过程期间由光刻设备中的物体吸收的IR辐射的量；以及使用剂量测量来控制曝光过程以便补偿与曝光过程期间由物体吸收的IR辐射相关联的曝光误差。
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公开(公告)号：CN1770010B
公开(公告)日：2010-09-29
申请号：CN200510118032.2
申请日：2005-10-24
Applicant: ASML荷兰有限公司
Inventor： N·A·拉勒曼特 , M·贝克斯 , W·F·G·M·赫托格 , D·T·W·范德普拉斯 , S·科伊林克 , R·詹森
IPC: G03F7/20
CPC classification number: G03F7/70933
Abstract: 一种光刻设备包括用于提供辐射束的辐射系统，以及用于支撑构图装置的第一支撑件。该构图装置用于构图辐射束。该设备包括用于支撑基底的第二支撑件，用于将带图案的束投射到基底的靶部分上的投影系统，以及用于在投影系统下面延伸的气体的伸长的体积中提供沿着轴线延伸的干涉测量束的干涉仪测量系统。该设备还包括用于在该体积中提供调节的气体流的气体调节结构。该气体调节结构包括设置在该结构的出口处的多个气体导向叶片，用于将气体流导向到该体积。该气体导向叶片连续成形，且定向为离开该体积的轴线发散。
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公开(公告)号：CN106462080A
公开(公告)日：2017-02-22
申请号：CN201580030265.9
申请日：2015-04-24
Applicant: ASML荷兰有限公司
Inventor： C·W·J·贝伦德森 , M·贝克斯 , H·J·卡斯特里杰恩斯 , H·A·格瑞斯 , A·H·凯沃特斯 , L·M·勒瓦希尔 , P·沙普 , B·斯特瑞夫科尔克 , S·A·特罗普
IPC: G03F7/20
Abstract: 一种用于补偿光刻设备的曝光过程中的曝光误差的方法，光刻设备包括衬底台，该方法包括：获得剂量测量，剂量测量指示到达衬底水平面的IR辐射的剂量，其中剂量测量能够用来计算曝光过程期间由光刻设备中的物体吸收的IR辐射的量；以及使用剂量测量来控制曝光过程以便补偿与曝光过程期间由物体吸收的IR辐射相关联的曝光误差。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN1987657A
公开(公告)日：2007-06-27
申请号：CN200610169059.9
申请日：2006-12-20
Applicant: ASML荷兰有限公司
Inventor： T·F·森杰斯 , N·A·A·J·范阿斯坦 , W·J·伯西 , T·A·R·范恩佩尔 , L·M·勒瓦斯尔 , E·R·卢普斯特拉 , M·J·E·H·穆特杰斯 , L·奥维汉德 , L·J·M·范登舒尔 , M·贝克斯 , R·詹森 , E·范洛恩侯特
IPC: G03F7/20 , H01L21/027
CPC classification number: G03F7/70883 , G03F7/7075 , G03F7/70858 , G03F9/7011 , G03F9/7034
Abstract: 公开了一种光刻设备。该设备包括保持衬底的衬底台。衬底台是可移动的，以便在衬底测量位置和衬底处理位置之间传送衬底。该设备还包括测量系统，用于在衬底台将衬底保持在测量位置中时测量衬底的至少一个方面或特性。测量系统用于将至少一个测量束和/或测量场向衬底的表面引导。投影系统用于在衬底台将衬底保持在衬底处理位置中时将已构图的辐射束投射到衬底的目标部分上，并且调节系统用于将调节流体提供到测量系统的测量束和/或测量场路径的至少一部分，以调节该部分路径。
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公开(公告)号：CN111176079B
公开(公告)日：2023-02-14
申请号：CN202010106860.9
申请日：2015-04-24
Applicant: ASML荷兰有限公司
Inventor： C·W·J·贝伦德森 , M·贝克斯 , H·J·卡斯特里杰恩斯 , H·A·格瑞斯 , A·H·凯沃特斯 , L·M·勒瓦希尔 , P·沙普 , B·斯特瑞夫科尔克 , S·A·特罗普
IPC: G03F7/20
Abstract: 一种用于补偿光刻设备的曝光过程中的曝光误差的方法，光刻设备包括衬底台，该方法包括：获得剂量测量，剂量测量指示到达衬底水平面的IR辐射的剂量，其中剂量测量能够用来计算曝光过程期间由光刻设备中的物体吸收的IR辐射的量；以及使用剂量测量来控制曝光过程以便补偿与曝光过程期间由物体吸收的IR辐射相关联的曝光误差。
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公开(公告)号：CN1713075B
公开(公告)日：2010-08-04
申请号：CN200510079476.X
申请日：2005-06-23
Applicant: ASML荷兰有限公司
IPC: G03F7/20 , H01L21/027
CPC classification number: G03F7/70933 , G03F7/70341 , G03F7/70808
Abstract: 本发明公开了一种光刻投影装置。该装置包括一配置成调节辐射光束的照射系统和一配置成支撑构图部件的支撑结构。该构图部件用于在辐射光束的横截面将图案赋予给辐射光束。该装置还包括一配置成保持基底的基底台，一配置成将带图案的光束投影到基底的靶部上的投影系统，以及一配置成将流体提供给一个容积的流体供给系统。该容积包括至少一部分投影系统和/或至少一部分照射系统。该装置还包括一配置成将流体供给系统连接到基底台、基底、支撑结构、构图部件、或其任何组合的连接部件。
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公开(公告)号：CN1725110A
公开(公告)日：2006-01-25
申请号：CN200510081753.0
申请日：2005-05-24
Applicant: ASML荷兰有限公司
IPC: G03F7/20
CPC classification number: G03F7/70933 , G03F7/70908
Abstract: 公开了一种光刻设备。该设备包括照明系统以提供辐射束，和用于支撑构图装置的支撑结构。构图装置用于在其剖面中给予辐射束图案。该设备还包括气体冲洗装置，用于将大量的层流气体冲过辐射束和/或沿着光学元件的表面冲过。气体冲洗装置包括单个排气口，在排气口的下游端具有内缘。内缘限定了总排气口面积。排气口提供有具有有效面积的层合器，在使用时，大量的层流气体流出有效面积。层合器有效面积包括具有层合器开口的材料，且至少与总排气口面积一样大。
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公开(公告)号：CN1702558A
公开(公告)日：2005-11-30
申请号：CN200510075891.8
申请日：2005-05-16
Applicant: ASML荷兰有限公司
Inventor： N·A·拉勒曼特 , M·C·M·维哈根 , M·贝克斯 , R·斯图蒂恩斯 , P·A·斯米特斯 , W·F·G·M·赫托格 , D·T·W·范德普拉斯 , S·科伊林克 , H·克雷斯
IPC: G03F7/20 , H01L21/027
Abstract: 一种光刻装置，包括：用于提供辐射投影光束的辐射系统；用于支撑图案成形装置的第一支撑结构，该图案成形装置用于使投影光束根据所需的图案来形成图案；用于支撑衬底的第二支撑结构；以及投影系统，其用于将已形成图案的光束投影到衬底的目标部分上；至少一个气体发生结构，其用于在投影系统和衬底的目标之间延伸的体积中产生经调节的气流。所述气体发生结构设置成可产生气流，其被引向大致位于投影系统下表面之上的上方体积。该结构还包括导向件，其用于将所述气流引导到大致定位在所述投影系统下表面之下的下方体积中。
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