公开(公告)号：CN112204472B

公开(公告)日：2024-10-11

申请号：CN201980035923.1

申请日：2019-04-19

Applicant: ASML荷兰有限公司

Inventor： M·A·G·默凯科斯 ,  A·P·F·A·M·古森斯 ,  S·范德格拉费 ,  D·W·J·范德威尔

IPC: G03F7/20 ,  G02B27/00

Abstract: 一种用于向EUV光刻设备提供氧气(O2)的气体流量控制系统，该气体流量控制系统包括：被配置为连接到第一气体源的第一入口，第一气体包括氧气(O2)；被配置为连接到第二气体源的第二入口，第二气体不包含任何(O2)气体；气体流量控制系统被配置为混合第一气体和第二气体以获得包括稀释的氧气(O2)的混合气体；气体流量控制系统还包括：被配置为将第一量的混合气体输出到EUV光刻设备的内部的第一出口；以及被配置为将第二量的混合气体输出到EUV光刻设备外部的收集容器的第二出口。

公开(公告)号：CN112204472A

公开(公告)日：2021-01-08

申请号：CN201980035923.1

申请日：2019-04-19

Applicant: ASML荷兰有限公司

Inventor： M·A·G·默凯科斯 ,  A·P·F·A·M·古森斯 ,  S·范德格拉费 ,  D·W·J·范德威尔

IPC: G03F7/20 ,  G02B27/00

Abstract: 一种用于向EUV光刻设备提供氧气(O2)的气体流量控制系统，该气体流量控制系统包括：被配置为连接到第一气体源的第一入口，第一气体包括氧气(O2)；被配置为连接到第二气体源的第二入口，第二气体不包含任何(O2)气体；气体流量控制系统被配置为混合第一气体和第二气体以获得包括稀释的氧气(O2)的混合气体；气体流量控制系统还包括：被配置为将第一量的混合气体输出到EUV光刻设备的内部的第一出口；以及被配置为将第二量的混合气体输出到EUV光刻设备外部的收集容器的第二出口。