公开(公告)号：CN112204472B

公开(公告)日：2024-10-11

申请号：CN201980035923.1

申请日：2019-04-19

Applicant: ASML荷兰有限公司

Inventor： M·A·G·默凯科斯 ,  A·P·F·A·M·古森斯 ,  S·范德格拉费 ,  D·W·J·范德威尔

IPC: G03F7/20 ,  G02B27/00

Abstract: 一种用于向EUV光刻设备提供氧气(O2)的气体流量控制系统，该气体流量控制系统包括：被配置为连接到第一气体源的第一入口，第一气体包括氧气(O2)；被配置为连接到第二气体源的第二入口，第二气体不包含任何(O2)气体；气体流量控制系统被配置为混合第一气体和第二气体以获得包括稀释的氧气(O2)的混合气体；气体流量控制系统还包括：被配置为将第一量的混合气体输出到EUV光刻设备的内部的第一出口；以及被配置为将第二量的混合气体输出到EUV光刻设备外部的收集容器的第二出口。

公开(公告)号：CN112204472A

公开(公告)日：2021-01-08

申请号：CN201980035923.1

申请日：2019-04-19

Applicant: ASML荷兰有限公司

Inventor： M·A·G·默凯科斯 ,  A·P·F·A·M·古森斯 ,  S·范德格拉费 ,  D·W·J·范德威尔

IPC: G03F7/20 ,  G02B27/00

Abstract: 一种用于向EUV光刻设备提供氧气(O2)的气体流量控制系统，该气体流量控制系统包括：被配置为连接到第一气体源的第一入口，第一气体包括氧气(O2)；被配置为连接到第二气体源的第二入口，第二气体不包含任何(O2)气体；气体流量控制系统被配置为混合第一气体和第二气体以获得包括稀释的氧气(O2)的混合气体；气体流量控制系统还包括：被配置为将第一量的混合气体输出到EUV光刻设备的内部的第一出口；以及被配置为将第二量的混合气体输出到EUV光刻设备外部的收集容器的第二出口。

公开(公告)号：CN118435124A

公开(公告)日：2024-08-02

申请号：CN202280084206.X

申请日：2022-12-07

Applicant: ASML荷兰有限公司

Inventor： S·范德格拉费 ,  K·T·苏加萨 ,  K·F·佛斯特拉 ,  M·A·G·默凯科斯 ,  A·J·范德内特

IPC: G03F7/20

Abstract: 一种用于生成包括氢气和氧气的吹扫气体的气体供应设备，该设备包括：氢气入口，被配置为接收氢气气流；混合气体入口，被配置为接收包括氮气和氧气的混合气流；质量流量控制器，与混合气体入口流体连通并且被配置为提供具有受控质量流率的受控气流；浓缩器，被配置为生成浓缩气流，该浓缩气流的氮氧比例低于第一气流；以及混合器，被配置为将氢气气流与包含混合气体的流混合。