公开(公告)号：CN1591192B

公开(公告)日：2010-10-06

申请号：CN200410068266.6

申请日：2004-08-27

Applicant: ASML荷兰有限公司

Inventor： M·M·T·M·迪里奇斯 ,  S·N·L·当德斯 ,  J·H·W·贾科布斯 ,  H·詹森 ,  E·R·鲁普斯特拉 ,  J·J·S·M·梅坦斯 ,  M·K·斯塔文加 ,  B·斯特里克 ,  M·C·M·维哈根 ,  L·塞恩蒂恩斯-格鲁达

IPC: G03F7/20 ,  H01L21/00

CPC classification number: G03F7/70866 ,  B01D19/0031 ,  B01D61/025 ,  B01D61/24 ,  C02F1/04 ,  C02F1/20 ,  C02F1/28 ,  C02F1/283 ,  C02F1/32 ,  C02F1/42 ,  C02F1/441 ,  C02F2103/40 ,  G03F7/2041 ,  G03F7/70341

Abstract: 本发明提供一种光刻投射装置，包括：用于提供辐射投射光束的辐射系统；用于支撑构图装置的支撑结构，所述构图装置用于根据所需的图案对投射光束进行构图；用于保持基底的基底台；用于将带图案的光束投射到基底的目标部分上的投射系统；用于以浸液至少部分填充所述投射系统的最后元件和所述基底之间的空间的液体供给系，其中所述液体供给系统包括在浸液进入所述空间前照射所述浸液的紫外线光源；而且所述液体供给系统在所述投射系统的投射镜头周围形成无接触密封，从而所述浸液被限定为填充与所述投射系统面对的基底的主要表面和所述投射系统的最后元件之间的空间。

公开(公告)号：CN101872130B

公开(公告)日：2012-10-03

申请号：CN201010114018.6

申请日：2004-08-27

Applicant: ASML荷兰有限公司

Inventor： M·M·T·M·迪里奇斯 ,  S·N·L·当德斯 ,  J·H·W·贾科布斯 ,  H·詹森 ,  E·R·鲁普斯特拉 ,  J·J·S·M·梅坦斯 ,  M·K·斯塔文加 ,  B·斯特里克 ,  M·C·M·维哈根 ,  L·塞恩蒂恩斯-格鲁达

IPC: G03F7/20

CPC classification number: G03F7/70866 ,  B01D19/0031 ,  B01D61/025 ,  B01D61/24 ,  C02F1/04 ,  C02F1/20 ,  C02F1/28 ,  C02F1/283 ,  C02F1/32 ,  C02F1/42 ,  C02F1/441 ,  C02F2103/40 ,  G03F7/2041 ,  G03F7/70341

Abstract: 一种光刻投射装置，包括：用于提供辐射投射光束的辐射系统；用于支撑构图装置的支撑结构，所述构图装置用于根据所需的图案对投射光束进行构图；用于保持基底的基底台；用于将带图案的辐射光束投射到基底的目标部分上的投射系统；用于以浸液至少部分填充所述投射系统的最后元件和所述基底之间的空间的液体供给系统，所述液体供给系统包括用于净化所述浸液的液体净化器，其中所述液体净化器包括位于所述空间的上游并不与所述空间接触的脱气单元；而且所述液体供给系统在所述投射系统的投射镜头周围形成无接触密封，从而所述浸液被限定为填充与所述投射系统面对的基底的主要表面和所述投射系统的最后元件之间的空间。

公开(公告)号：CN101872130A

公开(公告)日：2010-10-27

申请号：CN201010114018.6

申请日：2004-08-27

Applicant: ASML荷兰有限公司

Inventor： M·M·T·M·迪里奇斯 ,  S·N·L·当德斯 ,  J·H·W·贾科布斯 ,  H·詹森 ,  E·R·鲁普斯特拉 ,  J·J·S·M·梅坦斯 ,  M·K·斯塔文加 ,  B·斯特里克 ,  M·C·M·维哈根 ,  L·塞恩蒂恩斯-格鲁达

IPC: G03F7/20

CPC classification number: G03F7/70866 ,  B01D19/0031 ,  B01D61/025 ,  B01D61/24 ,  C02F1/04 ,  C02F1/20 ,  C02F1/28 ,  C02F1/283 ,  C02F1/32 ,  C02F1/42 ,  C02F1/441 ,  C02F2103/40 ,  G03F7/2041 ,  G03F7/70341

Abstract: 一种光刻投射装置，包括：用于提供辐射投射光束的辐射系统；用于支撑构图装置的支撑结构，所述构图装置用于根据所需的图案对投射光束进行构图；用于保持基底的基底台；用于将带图案的辐射光束投射到基底的目标部分上的投射系统；用于以浸液至少部分填充所述投射系统的最后元件和所述基底之间的空间的液体供给系统，所述液体供给系统包括用于净化所述浸液的液体净化器，其中所述液体净化器包括位于所述空间的上游并不与所述空间接触的脱气单元。

公开(公告)号：CN1591192A

公开(公告)日：2005-03-09

申请号：CN200410068266.6

申请日：2004-08-27

Applicant: ASML荷兰有限公司

Inventor： M·M·T·M·迪里奇斯 ,  S·N·L·当德斯 ,  J·H·W·贾科布斯 ,  H·詹森 ,  E·R·鲁普斯特拉 ,  J·J·S·M·梅坦斯 ,  M·K·斯塔文加 ,  B·斯特里克 ,  M·C·M·维哈根 ,  L·塞恩蒂恩斯-格鲁达

IPC: G03F7/20 ,  H01L21/00

CPC classification number: G03F7/70866 ,  B01D19/0031 ,  B01D61/025 ,  B01D61/24 ,  C02F1/04 ,  C02F1/20 ,  C02F1/28 ,  C02F1/283 ,  C02F1/32 ,  C02F1/42 ,  C02F1/441 ,  C02F2103/40 ,  G03F7/2041 ,  G03F7/70341

Abstract: 在一种光刻投射装置中，液体供给系统在投射系统的最后元件和带有液体封闭系统的基底之间的空间保持液体。该液体供给系统还包括用于净化浸液的脱矿物质单元、蒸馏单元和UV照射源。为了抑制生命体生长，化学药品可以加到浸液中，并且液体供给系统的部件可以由对可见光非透明的材料制造，从而减少生命体的生长。