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公开(公告)号：CN101881930B
公开(公告)日：2012-04-25
申请号：CN201010224595.0
申请日：2005-05-20
Applicant: ASML荷兰有限公司
Inventor： B·斯特里科克 , H·H·M·科西 , C·A·霍根达姆 , J·J·S·M·梅坦斯 , K·J·J·M·扎亚 , M·库佩鲁斯
IPC: G03F7/20
CPC classification number: G03F7/70341 , G03F7/70641 , G03F7/70783
Abstract: 本发明公开了一种光刻装置和器件制造方法。所述光刻装置包括构型成在光刻装置的投影系统和基底之间的空间内容纳液体的液体供给系统构件，以及设置成补偿该液体供给系统构件与基底台之间的相互作用的液体供给系统构件补偿器。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN100565348C
公开(公告)日：2009-12-02
申请号：CN200510137044.X
申请日：2005-12-09
Applicant: ASML荷兰有限公司
Inventor： C·A·胡根达姆 , G·J·尼梅杰 , M·库佩鲁斯 , P·A·W·C·M·范埃克
IPC: G03F7/20 , H01L21/027
CPC classification number: G03F7/70341 , G01B11/14 , G01B11/26 , G01B11/272 , G03F7/707 , G03F7/70716 , G03F7/70775 , G03F9/7011
Abstract: 一种用于确定衬底的中心与夹盘中的凹腔的中心之间的偏移的方法，包括：为凹腔提供测试衬底，其中该测试衬底的尺寸小于凹腔的尺寸；在测试衬底处于凹腔中时测量测试衬底的对准标记的位置；以及从对准标记的位置中确定衬底中心与凹腔中心之间的偏移。
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公开(公告)号：CN101881930A
公开(公告)日：2010-11-10
申请号：CN201010224595.0
申请日：2005-05-20
Applicant: ASML荷兰有限公司
Inventor： B·斯特里科克 , H·H·M·科西 , C·A·霍根达姆 , J·J·S·M·梅坦斯 , K·J·J·M·扎亚 , M·库佩鲁斯
IPC: G03F7/20
CPC classification number: G03F7/70341 , G03F7/70641 , G03F7/70783
Abstract: 本发明公开了一种光刻装置和器件制造方法。所述光刻装置包括构型成在光刻装置的投影系统和基底之间的空间内容纳液体的液体供给系统构件，以及设置成补偿该液体供给系统构件与基底台之间的相互作用的液体供给系统构件补偿器。
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公开(公告)号：CN1702559B
公开(公告)日：2010-09-01
申请号：CN200510081730.X
申请日：2005-05-20
Applicant: ASML荷兰有限公司
Inventor： B·斯特里科克 , H·H·M·科西 , C·A·霍根达姆 , J·J·S·M·梅坦斯 , K·J·J·M·扎亚 , M·库佩鲁斯
IPC: G03F7/20
CPC classification number: G03F7/70341 , G03F7/70641 , G03F7/70783
Abstract: 一种湿浸式光刻装置，包括构型成在光刻装置的投影系统和基底之间的空间内容纳液体的液体供给系统构件，以及设置成补偿该液体供给系统构件与基底台之间的相互作用的液体供给系统构件补偿器。
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公开(公告)号：CN1786833A
公开(公告)日：2006-06-14
申请号：CN200510137044.X
申请日：2005-12-09
Applicant: ASML荷兰有限公司
Inventor： C·A·胡根达姆 , G·J·尼梅杰 , M·库佩鲁斯 , P·A·W·C·M·范埃克
IPC: G03F7/20 , H01L21/027
CPC classification number: G03F7/70341 , G01B11/14 , G01B11/26 , G01B11/272 , G03F7/707 , G03F7/70716 , G03F7/70775 , G03F9/7011
Abstract: 一种用于确定衬底的中心与夹盘中的凹腔的中心之间的偏移的方法，包括：为凹腔提供测试衬底，其中该测试衬底的尺寸小于凹腔的尺寸；在测试衬底处于凹腔中时测量测试衬底的对准标记的位置；以及从对准标记的位置中确定衬底中心与凹腔中心之间的偏移。
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公开(公告)号：CN1702559A
公开(公告)日：2005-11-30
申请号：CN200510081730.X
申请日：2005-05-20
Applicant: ASML荷兰有限公司
Inventor： B·斯特里科克 , H·H·M·科西 , C·A·霍根达姆 , J·J·S·M·梅坦斯 , K·J·J·M·扎亚 , M·库佩鲁斯
IPC: G03F7/20
CPC classification number: G03F7/70341 , G03F7/70641 , G03F7/70783
Abstract: 一种湿浸式光刻装置，包括构型成在光刻装置的投影系统和基底之间的空间内容纳液体的液体供给系统构件，以及设置成补偿该液体供给系统构件与基底台之间的相互作用的液体供给系统构件补偿器。
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