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公开(公告)号：CN110446978A
公开(公告)日：2019-11-12
申请号：CN201880017655.6
申请日：2018-02-15
Applicant: ASML荷兰有限公司
Inventor： M·H·基曼 , H·巴特勒 , O·M·J·费希尔 , C·A·霍根达姆 , T·M·J·M·休伊辛加 , J·M·M·罗弗斯 , E·P-Y·文纳特 , M·W·J·E·维杰克曼斯
Abstract: 本发明涉及一种承载装置，被布置成相对于设备的第二部分在竖直方向上支撑设备的第一部分，承载装置包括磁性重力补偿器。磁性重力补偿器包括：第一永磁体组件，被安装到第一部分和第二部分中的一个部分并且包括永磁体的至少第一列，第一列在竖直方向上延伸，其中永磁体具有在第一水平方向上或在与第一水平方向相反的第二水平方向上的极化方向，其中竖直相邻的永磁体具有相反的极化方向；第二永磁体组件，安装到第一部分和第二部分中的另一个部分，并且包括永磁体的至少另一列，至少另一列在竖直方向上延伸，其中至少另一列的竖直相邻的永磁体在第一水平方向或第二水平方向上具有相反的极化方向，其中第一永磁体组件至少部分地包围第二永磁体组件。
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公开(公告)号：CN109804313A
公开(公告)日：2019-05-24
申请号：CN201780060159.4
申请日：2017-08-11
Applicant: ASML荷兰有限公司
Inventor： F·范德梅尤伦 , E·J·阿勒马克 , H·H·M·考克斯 , M·A·W·丘珀斯 , J·德胡戈 , G·C·德维雷斯 , P·C·H·德威特 , S·C·R·德克斯 , R·C·G·吉杰曾 , D·V·P·赫姆舒特 , C·A·霍根达姆 , A·H·凯沃特斯 , R·W·L·拉法雷 , A·L·C·勒鲁克斯 , P·W·P·里姆彭斯 , J·V·奥弗坎普 , C·L·瓦伦丁 , K·范伯克尔 , S·H·范德莫伦 , J·C·G·范德桑登 , H·K·范德舒特 , D·F·弗勒斯 , E·A·R·威斯特豪斯
IPC: G03F7/20
Abstract: 一种光刻设备，包括被配置为投射图案化辐射束以在被保持在衬底台上的衬底上形成曝光区域的投影系统，光刻设备进一步包括用于冷却衬底的冷却设备，其中冷却设备包括位于衬底台上方并且邻近于曝光区域的冷却元件，冷却元件被配置为从衬底去除热量。
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公开(公告)号：CN1702559B
公开(公告)日：2010-09-01
申请号：CN200510081730.X
申请日：2005-05-20
Applicant: ASML荷兰有限公司
Inventor： B·斯特里科克 , H·H·M·科西 , C·A·霍根达姆 , J·J·S·M·梅坦斯 , K·J·J·M·扎亚 , M·库佩鲁斯
IPC: G03F7/20
CPC classification number: G03F7/70341 , G03F7/70641 , G03F7/70783
Abstract: 一种湿浸式光刻装置，包括构型成在光刻装置的投影系统和基底之间的空间内容纳液体的液体供给系统构件，以及设置成补偿该液体供给系统构件与基底台之间的相互作用的液体供给系统构件补偿器。
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公开(公告)号：CN1782886B
公开(公告)日：2010-08-25
申请号：CN200510128823.3
申请日：2005-12-01
Applicant: ASML荷兰有限公司
Inventor： J·J·M·巴塞曼斯 , S·N·L·多德斯 , C·A·霍根达姆 , J·J·S·M·梅坦斯 , J·C·H·穆肯斯 , B·斯特里克
IPC: G03F7/20 , H01L21/027
CPC classification number: G03F7/70341
Abstract: 光刻装置以及器件制造方法公开了一种包括液体供给系统的浸入式光刻装置，该液体供给系统具有设置成可将液体供给到光刻装置的投影系统与衬底之间的空间中的入口，以及设置成可去除至少部分液体的出口，该液体供给系统设置成可使入口、出口或这两者围绕基本上垂直于衬底的曝光面的轴线旋转。
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公开(公告)号：CN1702559A
公开(公告)日：2005-11-30
申请号：CN200510081730.X
申请日：2005-05-20
Applicant: ASML荷兰有限公司
Inventor： B·斯特里科克 , H·H·M·科西 , C·A·霍根达姆 , J·J·S·M·梅坦斯 , K·J·J·M·扎亚 , M·库佩鲁斯
IPC: G03F7/20
CPC classification number: G03F7/70341 , G03F7/70641 , G03F7/70783
Abstract: 一种湿浸式光刻装置，包括构型成在光刻装置的投影系统和基底之间的空间内容纳液体的液体供给系统构件，以及设置成补偿该液体供给系统构件与基底台之间的相互作用的液体供给系统构件补偿器。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN107367907B
公开(公告)日：2019-05-03
申请号：CN201710708172.8
申请日：2013-05-17
Applicant: ASML荷兰有限公司
Inventor： S·N·L·唐德斯 , M·菲恩 , C·A·霍根达姆 , M·霍本 , J·H·W·雅各布斯 , A·H·凯沃特斯 , R·W·L·拉法雷 , J·V·奥弗卡姆普 , N·坦凯特 , J·S·C·韦斯特拉肯 , A·F·J·德格罗特 , M·范贝杰纳姆
IPC: G03F7/20
Abstract: 一种用于光刻装置的支撑装置(60)，具有物体保持件(61)和在物体保持件径向外侧的提取主体(65)。物体保持件被配置为支撑物体(W)。提取主体包括被配置为从支撑装置的顶面提取流体的提取开口(66)。提取主体与物体保持件间隔开，使得提取主体与物体保持件基本解耦。提取主体包括突起(30)，所述突起被配置为使得其围绕物体保持件，并且使得在使用中液体(32)的层保留在突起上且接触支撑在物体保持件上的物体。
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公开(公告)号：CN104412164B
公开(公告)日：2017-09-12
申请号：CN201380028677.X
申请日：2013-05-17
Applicant: ASML荷兰有限公司
Inventor： S·N·L·唐德斯 , M·菲恩 , C·A·霍根达姆 , M·霍本 , J·H·W·雅各布斯 , A·H·凯沃特斯 , R·W·L·拉法雷 , J·V·奥弗卡姆普 , N·坦凯特 , J·S·C·韦斯特拉肯 , A·F·J·德格罗特 , M·范贝杰纳姆
IPC: G03F7/20
CPC classification number: G03F7/70716 , G03F7/70341 , G03F7/707 , G03F7/70733
Abstract: 一种用于光刻装置的支撑装置(60)，具有物体保持件(61)和在物体保持件径向外侧的提取主体(65)。物体保持件被配置为支撑物体(W)。提取主体包括被配置为从支撑装置的顶面提取流体的提取开口(66)。提取主体与物体保持件间隔开，使得提取主体与物体保持件基本解耦。提取主体包括突起(30)，所述突起被配置为使得其围绕物体保持件，并且使得在使用中液体(32)的层保留在突起上且接触支撑在物体保持件上的物体。
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公开(公告)号：CN106462085A
公开(公告)日：2017-02-22
申请号：CN201580033893.2
申请日：2015-05-13
Applicant: ASML荷兰有限公司
Inventor： J·J·M·巴塞曼斯 , H·巴特勒 , C·A·霍根达姆 , S·科斯迈科斯 , B·斯密兹 , R·N·J·范巴勒格杰 , H·P·L·H·布塞尔
IPC: G03F7/20
CPC classification number: G03F7/70258 , G03F7/70066 , G03F7/70141 , G03F7/70641
Abstract: 一种修改光刻设备的方法，光刻设备包括用于提供辐射束的照射系统，用于支撑图案化装置以在其截面中赋予辐射束图案的支撑结构，用于在图案化装置处投影辐射束的具有第一放大倍率的第一透镜，用于保持衬底的衬底工作台，以及用于在衬底的目标部分处投影图案化辐射束的具有第二放大倍率的第一投影系统。第一透镜和第一投影系统一起提供了第三放大倍率。方法包括以第一因子减小第一放大倍率以提供用于投影辐射束的具有第四放大倍率的第二透镜；以及以第一因子增大第二放大倍率以提供用于在衬底的目标部分处投影图案化辐射束的具有第五放大倍率的第二投影系统。
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公开(公告)号：CN101881930A
公开(公告)日：2010-11-10
申请号：CN201010224595.0
申请日：2005-05-20
Applicant: ASML荷兰有限公司
Inventor： B·斯特里科克 , H·H·M·科西 , C·A·霍根达姆 , J·J·S·M·梅坦斯 , K·J·J·M·扎亚 , M·库佩鲁斯
IPC: G03F7/20
CPC classification number: G03F7/70341 , G03F7/70641 , G03F7/70783
Abstract: 本发明公开了一种光刻装置和器件制造方法。所述光刻装置包括构型成在光刻装置的投影系统和基底之间的空间内容纳液体的液体供给系统构件，以及设置成补偿该液体供给系统构件与基底台之间的相互作用的液体供给系统构件补偿器。
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公开(公告)号：CN1858657A
公开(公告)日：2006-11-08
申请号：CN200610077849.4
申请日：2006-05-08
Applicant: ASML荷兰有限公司
Inventor： B·斯特里夫科克 , S·N·L·唐德斯 , R·F·德格拉夫 , C·A·霍根达姆 , H·詹森 , M·H·A·李德斯 , P·M·M·烈布雷格特斯 , J·J·S·M·马坦斯 , J·-G·C·范德图恩 , M·里庞
IPC: G03F7/20 , H01L21/027
CPC classification number: G03F7/2041 , G03F7/3085 , G03F7/70058 , G03F7/70341 , G03F7/70825 , G03F7/70875 , G03F7/70916 , G03F2007/2067 , H01L21/0274 , H01L21/67098
Abstract: 一种浸没式光刻装置，设有至少部分地限定用于容纳位于投影系统和基底之间的液体的空间的液体限制结构。为了减小基底边缘在成像时的交叉，在基本平行于基底的平面内所述空间的截面面积应制成尽可能小。最小的理论尺寸是投影系统成像的目标部分的尺寸。在一个实施例中，投影系统的最后元件的形状还变成在基本平行于基底的平面内具有与目标部分相似的尺寸和/或形状。
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