公开(公告)号：CN101916041A

公开(公告)日：2010-12-15

申请号：CN201010233655.5

申请日：2005-12-07

Applicant: ASML荷兰有限公司

Inventor： P·R·M·亨努斯 ,  J·J·S·M·梅坦斯 ,  P·J·C·H·斯穆德斯 ,  P·斯米特斯

IPC: G03F7/20

CPC classification number: G03F7/70341 ,  G03F7/707 ,  G03F7/70808 ,  G03F7/7085 ,  G03F7/709

Abstract: 一种湿浸式光刻法的光刻装置，其中在基底台的不同部件之间的密封可以布置成减小不同部件之间的力的传递。

公开(公告)号：CN1786832A

公开(公告)日：2006-06-14

申请号：CN200510131051.9

申请日：2005-12-07

Applicant: ASML荷兰有限公司

Inventor： P·R·M·亨努斯 ,  J·J·S·M·梅坦斯 ,  P·J·C·H·斯穆德斯 ,  P·斯米特斯

IPC: G03F7/20 ,  H01L21/027

CPC classification number: G03F7/70341 ,  G03F7/707 ,  G03F7/70808 ,  G03F7/7085 ,  G03F7/709

Abstract: 一种湿浸式光刻法的光刻装置，其中在基底台的不同部件之间的密封可以布置成减小不同部件之间的力的传递。

公开(公告)号：CN101900951B

公开(公告)日：2013-07-10

申请号：CN201010233642.8

申请日：2005-12-07

Applicant: ASML荷兰有限公司

Inventor： P·R·M·亨努斯 ,  J·J·S·M·梅坦斯 ,  P·J·C·H·斯穆德斯 ,  P·斯米特斯

IPC: G03F7/20

CPC classification number: G03F7/70341 ,  G03F7/707 ,  G03F7/70808 ,  G03F7/7085 ,  G03F7/709

Abstract: 光刻装置和器件制造方法，一种湿浸式光刻法的光刻装置，其中在基底台的不同部件之间的密封可以布置成减小不同部件之间的力的传递。

公开(公告)号：CN101900951A

公开(公告)日：2010-12-01

申请号：CN201010233642.8

申请日：2005-12-07

Applicant: ASML荷兰有限公司

Inventor： P·R·M·亨努斯 ,  J·J·S·M·梅坦斯 ,  P·J·C·H·斯穆德斯 ,  P·斯米特斯

IPC: G03F7/20

CPC classification number: G03F7/70341 ,  G03F7/707 ,  G03F7/70808 ,  G03F7/7085 ,  G03F7/709

Abstract: 光刻装置和器件制造方法。一种湿浸式光刻法的光刻装置，其中在基底台的不同部件之间的密封可以布置成减小不同部件之间的力的传递。

公开(公告)号：CN1786832B

公开(公告)日：2010-08-11

申请号：CN200510131051.9

申请日：2005-12-07

Applicant: ASML荷兰有限公司

Inventor： P·R·M·亨努斯 ,  J·J·S·M·梅坦斯 ,  P·J·C·H·斯穆德斯 ,  P·斯米特斯

IPC: G03F7/20 ,  H01L21/027

CPC classification number: G03F7/70341 ,  G03F7/707 ,  G03F7/70808 ,  G03F7/7085 ,  G03F7/709

Abstract: 一种湿浸式光刻法的光刻装置，其中在基底台的不同部件之间的密封可以布置成减小不同部件之间的力的传递。