公开(公告)号：CN102375347B

公开(公告)日：2014-12-10

申请号：CN201110234447.1

申请日：2011-08-16

Applicant: ASML荷兰有限公司

Inventor： J·S·C·维斯特尔拉肯 ,  E·A·F·范德帕斯奇 ,  P·P·斯汀贾尔特 ,  F·范德马斯特 ,  G·A·H·F·詹森

IPC: G03F7/20

CPC classification number: G03F7/70916 ,  G03F7/70341 ,  G03F7/70608 ,  G03F7/70683 ,  G03F7/70775 ,  G03F7/7085 ,  G03F7/70908

Abstract: 本发明公开了一种光刻设备以及一种器件制造方法。所述光刻设备具有：第一出口，其用于将具有第一流动特性的被热调节的流体提供至传感器束路径的至少一部分；和第二出口，其与第一出口相关联，并且用以在来自第一出口的被热调节的流体附近提供具有第二流动特性的被热调节的流体，第二流动特性与第一流动特性不同。

公开(公告)号：CN102375347A

公开(公告)日：2012-03-14

申请号：CN201110234447.1

申请日：2011-08-16

Applicant: ASML荷兰有限公司

Inventor： J·S·C·维斯特尔拉肯 ,  E·A·F·范德帕斯奇 ,  P·P·斯汀贾尔特 ,  F·范德马斯特 ,  G·A·H·F·詹森

IPC: G03F7/20

CPC classification number: G03F7/70916 ,  G03F7/70341 ,  G03F7/70608 ,  G03F7/70683 ,  G03F7/70775 ,  G03F7/7085 ,  G03F7/70908

Abstract: 本发明公开了一种光刻设备以及一种器件制造方法。所述光刻设备具有：第一出口，其用于将具有第一流动特性的被热调节的流体提供至传感器束路径的至少一部分；和第二出口，其与第一出口相关联，并且用以在来自第一出口的被热调节的流体附近提供具有第二流动特性的被热调节的流体，第二流动特性与第一流动特性不同。

公开(公告)号：CN101571677B

公开(公告)日：2012-11-21

申请号：CN200910134770.4

申请日：2009-04-22

Applicant: ASML荷兰有限公司

Inventor： R·D·沃森 ,  Y·J·L·M·凡达麦乐恩 ,  J·H·W·雅各布斯 ,  H·詹森 ,  M·H·A·里恩德尔斯 ,  J·J·S·M·梅坦斯 ,  P·P·斯汀贾尔特 ,  A·M·C·P·德琼 ,  J·M·W·范德温克尔 ,  J·P·达派兹赛纳 ,  M·M·J·范德李 ,  H·M·D·范里尔 ,  G·塔纳撒

IPC: G03F7/20 ,  H01L21/02

CPC classification number: G03F7/70341 ,  G03F7/70925

Abstract: 本发明公开了一种光刻设备和运行光刻设备的方法，还公开了一种光刻投影设备，其包括清洁站。本发明公开了几个清洁站的实施例。在实施例中，采取了措施避免清洁流体与投影系统的最终元件接触。在实施例中，采取了措施避免清洁流体的起泡。本发明还公开了热隔离岛的使用以及其最佳位置。

公开(公告)号：CN101571677A

公开(公告)日：2009-11-04

申请号：CN200910134770.4

申请日：2009-04-22

Applicant: ASML荷兰有限公司

Inventor： R·D·沃森 ,  Y·J·L·M·凡达麦乐恩 ,  J·H·W·雅各布斯 ,  H·詹森 ,  M·H·A·里恩德尔斯 ,  J·J·S·M·梅坦斯 ,  P·P·斯汀贾尔特 ,  A·M·C·P·德琼 ,  J·M·W·范德温克尔 ,  J·P·达派兹赛纳 ,  M·M·J·范德李 ,  H·M·D·范里尔 ,  G·塔纳撒

IPC: G03F7/20 ,  H01L21/02

CPC classification number: G03F7/70341 ,  G03F7/70925

Abstract: 本发明公开了一种光刻设备和运行光刻设备的方法，还公开了一种光刻投影设备，其包括清洁站。本发明公开了几个清洁站的实施例。在实施例中，采取了措施避免清洁流体与投影系统的最终元件接触。在实施例中，采取了措施避免清洁流体的起泡。本发明还公开了热隔离岛的使用以及其最佳位置。