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公开(公告)号：CN102156390B
公开(公告)日：2017-03-01
申请号：CN201110086003.8
申请日：2008-09-27
Applicant: ASML荷兰有限公司
Inventor： B·斯蒂夫克尔克 , R·F·德格拉夫 , J·C·H·马尔肯斯 , M·贝克尔斯 , P·P·J·伯克文斯 , D·L·安斯陶特兹
IPC: G03F7/20
CPC classification number: G03F7/70916 , G03F7/70341
Abstract: 本发明涉及浸没光刻技术的方法和浸没光刻设备，并且公开了一种浸没光刻设备的流体限制系统的操作方法。流体限制系统的性能通过几种不同的方法测量。基于性能的测量结果，产生一个例如指示需要实施修复措施的信号。
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公开(公告)号：CN102156390A
公开(公告)日：2011-08-17
申请号：CN201110086003.8
申请日：2008-09-27
Applicant: ASML荷兰有限公司
Inventor： B·斯蒂夫克尔克 , R·F·德格拉夫 , J·C·H·马尔肯斯 , M·贝克尔斯 , P·P·J·伯克文斯 , D·L·安斯陶特兹
IPC: G03F7/20
CPC classification number: G03F7/70916 , G03F7/70341
Abstract: 本发明涉及浸没光刻技术的方法和浸没光刻设备，并且公开了一种浸没光刻设备的流体限制系统的操作方法。流体限制系统的性能通过几种不同的方法测量。基于性能的测量结果，产生一个例如指示需要实施修复措施的信号。
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公开(公告)号：CN102033435A
公开(公告)日：2011-04-27
申请号：CN201010501461.9
申请日：2010-09-30
Applicant: ASML荷兰有限公司
Inventor： K·T·霍尔柯德 , R·F·德格拉夫 , H·詹森 , M·H·A·里德尔斯 , A·J·范德奈特 , P·J·克拉莫尔 , A·昆吉皮尔 , A·H·J·A·马坦斯 , S·范德格拉夫 , A·V·帕迪瑞
IPC: G03F7/20
CPC classification number: G03F7/70925 , G03F7/70341
Abstract: 本发明公开了一种光刻设备和操作光刻设备的方法以及一种清洁液体供给系统。清洁液体供给系统可以供给乳化的清洁液体，以清洁浸没式光刻设备。
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公开(公告)号：CN101794084B
公开(公告)日：2013-03-27
申请号：CN201010150870.9
申请日：2006-05-08
Applicant: ASML荷兰有限公司
Inventor： B·斯特利夫科克 , S·N·L·董德斯 , R·F·德格拉夫 , C·A·霍根大姆 , M·H·A·李恩德斯 , J·J·S·M·马坦斯 , M·里庞
IPC: G03F7/20
CPC classification number: G03F7/70341
Abstract: 光刻装置和器件制造方法，一种浸没式光刻装置适用于通过防止气泡从间隙逸出到光束路径和/或排出在间隙中形成的气泡，从而防止或减小在基底台中一个或多个间隙中形成的气泡。
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公开(公告)号：CN101576719B
公开(公告)日：2011-04-06
申请号：CN200910149213.X
申请日：2005-10-18
Applicant: ASML荷兰有限公司
Inventor： J·J·S·M·梅坦斯 , S·N·L·多德斯 , R·F·德格拉夫 , C·A·胡根达姆 , A·J·范德内特 , F·J·H·M·特尼斯森 , P·A·J·廷内曼斯 , M·C·M·维哈根 , J·J·L·H·维斯帕 , E·A·M·范戈佩
CPC classification number: G03F7/70716 , G03F7/70341
Abstract: 公开了一种光刻装置，其包括配置成使用液体至少部分填充投影系统和基底之间的空间的液体供给系统，配置成去除液体和气体混合物的出口，所述液体和气体混合物流过液体供给系统的液体限制结构和基底之间的间隙，配置成通过所述出口排出混合物的排空系统，该排空系统包括布置成把混合物中的液体和气体分开的分离罐和分离罐压力控制器，该分离罐压力控制与分离罐的非液体填充区相连，并配置成使非液体填充区保持稳定的压力。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN101281377B
公开(公告)日：2011-02-09
申请号：CN200810095615.1
申请日：2006-05-08
Applicant: ASML荷兰有限公司
Inventor： B·斯特里夫科克 , S·N·L·唐德斯 , R·F·德格拉夫 , C·A·霍根达姆 , H·詹森 , M·H·A·李德斯 , P·M·M·烈布雷格特斯 , J·J·S·M·马坦斯 , J-G·C·范德图恩 , M·里庞
IPC: G03F7/20
CPC classification number: G03F7/2041 , G03F7/3085 , G03F7/70058 , G03F7/70341 , G03F7/70825 , G03F7/70875 , G03F7/70916 , G03F2007/2067 , H01L21/0274 , H01L21/67098
Abstract: 公开了一种光刻装置和器件制造方法，所述光刻装置设有至少部分地限定用于容纳位于投影系统和基底之间的液体的空间的液体限制结构。为了减小基底边缘在成像时的交叉，在基本平行于基底的平面内所述空间的截面面积应制成尽可能小。最小的理论尺寸是投影系统成像的目标部分的尺寸。在一个实施例中，投影系统的最后元件的形状还变成在基本平行于基底的平面内具有与目标部分相似的尺寸和/或形状。所述器件制造方法包括：使用投影系统将带图案的辐射束投影到基底的目标部分上，其中紧靠基底的投影系统的元件在基本平行于基底的平面内具有直线形的截面形状。
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公开(公告)号：CN101576719A
公开(公告)日：2009-11-11
申请号：CN200910149213.X
申请日：2005-10-18
Applicant: ASML荷兰有限公司
Inventor： J·J·S·M·梅坦斯 , S·N·L·多德斯 , R·F·德格拉夫 , C·A·胡根达姆 , A·J·范德内特 , F·J·H·M·特尼斯森 , P·A·J·廷内曼斯 , M·C·M·维哈根 , J·J·L·H·维斯帕 , E·A·M·范戈佩
CPC classification number: G03F7/70716 , G03F7/70341
Abstract: 公开了一种光刻装置，其包括配置成使用液体至少部分填充投影系统和基底之间的空间的液体供给系统，配置成去除液体和气体混合物的出口，所述液体和气体混合物流过液体供给系统的液体限制结构和基底之间的间隙，配置成通过所述出口排出混合物的排空系统，该排空系统包括布置成把混合物中的液体和气体分开的分离槽和分离槽压力控制器，该分离槽压力控制与分离槽的非液体填充区相连，并配置成使非液体填充区保持稳定的压力。
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公开(公告)号：CN101408733B
公开(公告)日：2013-02-27
申请号：CN200810168934.0
申请日：2008-09-27
Applicant: ASML荷兰有限公司
Inventor： B·斯蒂夫克尔克 , R·F·德格拉夫 , J·C·H·马尔肯斯 , M·贝克尔斯 , P·P·J·伯克文斯 , D·L·安斯陶特兹
IPC: G03F7/20
CPC classification number: G03F7/70916 , G03F7/70341
Abstract: 本发明涉及浸没光刻技术的方法和浸没光刻设备，并且公开了一种浸没光刻设备的流体限制系统的操作方法。流体限制系统的性能通过几种不同的方法测量。基于性能的测量结果，产生一个例如指示需要实施修复措施的信号。
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公开(公告)号：CN101794084A
公开(公告)日：2010-08-04
申请号：CN201010150870.9
申请日：2006-05-08
Applicant: ASML荷兰有限公司
Inventor： B·斯特利夫科克 , S·N·L·董德斯 , R·F·德格拉夫 , C·A·霍根大姆 , M·H·A·李恩德斯 , J·J·S·M·马坦斯 , M·里庞
IPC: G03F7/20
CPC classification number: G03F7/70341
Abstract: 光刻装置和器件制造方法，一种浸没式光刻装置适用于通过防止气泡从间隙逸出到光束路径和/或排出在间隙中形成的气泡，从而防止或减小在基底台中一个或多个间隙中形成的气泡。
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公开(公告)号：CN101794083A
公开(公告)日：2010-08-04
申请号：CN201010150862.4
申请日：2006-05-08
Applicant: ASML荷兰有限公司
Inventor： B·斯特利夫科克 , S·N·L·董德斯 , R·F·德格拉夫 , C·A·霍根大姆 , M·H·A·李恩德斯 , J·J·S·M·马坦斯 , M·里庞
IPC: G03F7/20
CPC classification number: G03F7/70341
Abstract: 光刻装置和器件制造方法，一种浸没式光刻装置适用于通过防止气泡从间隙逸出到光束路径和/或排出在间隙中形成的气泡，从而防止或减小在基底台中一个或多个间隙中形成的气泡。
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