公开(公告)号：CN106462085B

公开(公告)日：2019-05-17

申请号：CN201580033893.2

申请日：2015-05-13

Applicant: ASML荷兰有限公司

Inventor： J·J·M·巴塞曼斯 ,  H·巴特勒 ,  C·A·霍根达姆 ,  S·科斯迈科斯 ,  B·斯密兹 ,  R·N·J·范巴勒格杰 ,  H·P·L·H·布塞尔

IPC: G03F7/20

Abstract: 一种修改光刻设备的方法，光刻设备包括用于提供辐射束的照射系统，用于支撑图案化装置以在其截面中赋予辐射束图案的支撑结构，用于在图案化装置处投影辐射束的具有第一放大倍率的第一透镜，用于保持衬底的衬底工作台，以及用于在衬底的目标部分处投影图案化辐射束的具有第二放大倍率的第一投影系统。第一透镜和第一投影系统一起提供了第三放大倍率。方法包括以第一因子减小第一放大倍率以提供用于投影辐射束的具有第四放大倍率的第二透镜；以及以第一因子增大第二放大倍率以提供用于在衬底的目标部分处投影图案化辐射束的具有第五放大倍率的第二投影系统。

公开(公告)号：CN106462085A

公开(公告)日：2017-02-22

申请号：CN201580033893.2

申请日：2015-05-13

Applicant: ASML荷兰有限公司

Inventor： J·J·M·巴塞曼斯 ,  H·巴特勒 ,  C·A·霍根达姆 ,  S·科斯迈科斯 ,  B·斯密兹 ,  R·N·J·范巴勒格杰 ,  H·P·L·H·布塞尔

IPC: G03F7/20

CPC classification number: G03F7/70258 ,  G03F7/70066 ,  G03F7/70141 ,  G03F7/70641

Abstract: 一种修改光刻设备的方法，光刻设备包括用于提供辐射束的照射系统，用于支撑图案化装置以在其截面中赋予辐射束图案的支撑结构，用于在图案化装置处投影辐射束的具有第一放大倍率的第一透镜，用于保持衬底的衬底工作台，以及用于在衬底的目标部分处投影图案化辐射束的具有第二放大倍率的第一投影系统。第一透镜和第一投影系统一起提供了第三放大倍率。方法包括以第一因子减小第一放大倍率以提供用于投影辐射束的具有第四放大倍率的第二透镜；以及以第一因子增大第二放大倍率以提供用于在衬底的目标部分处投影图案化辐射束的具有第五放大倍率的第二投影系统。