公开(公告)号：CN107924146B

公开(公告)日：2020-11-13

申请号：CN201680050090.2

申请日：2016-08-22

Applicant: ASML荷兰有限公司

Inventor： S·G·J·马斯杰森 ,  A·J·登博夫 ,  N·潘迪 ,  P·A·J·廷尼曼斯 ,  S·M·怀特 ,  K·S·E·埃克玛

IPC: G03F9/00

Abstract: 一种光刻设备，包括：被构造为保持衬底的衬底台；以及被配置为感测设置到由衬底台保持的衬底上的对准标记的位置的传感器。传感器包括被配置为用辐射束照射对准标记的辐射源、被配置为检测已经与对准标记相互作用的辐射束作为离焦光学图案的检测器、以及数据处理系统。数据处理系统被配置为接收表示离焦光学图案的图像数据，并且处理图像数据以用于确定对准信息，包括向离焦光学图案应用无透镜成像算法。

公开(公告)号：CN107924146A

公开(公告)日：2018-04-17

申请号：CN201680050090.2

申请日：2016-08-22

Applicant: ASML荷兰有限公司

Inventor： S·G·J·马斯杰森 ,  A·J·登博夫 ,  N·潘迪 ,  P·A·J·廷尼曼斯 ,  S·M·怀特 ,  K·S·E·埃克玛

IPC: G03F9/00

Abstract: 一种光刻设备，包括：被构造为保持衬底的衬底台；以及被配置为感测设置到由衬底台保持的衬底上的对准标记的位置的传感器。传感器包括被配置为用辐射束照射对准标记的辐射源、被配置为检测已经与对准标记相互作用的辐射束作为离焦光学图案的检测器、以及数据处理系统。数据处理系统被配置为接收表示离焦光学图案的图像数据，并且处理图像数据以用于确定对准信息，包括向离焦光学图案应用无透镜成像算法。