公开(公告)号：CN118541640A

公开(公告)日：2024-08-23

申请号：CN202280071002.2

申请日：2022-10-07

Applicant: ASML荷兰有限公司

Inventor： G·C·德弗里斯 ,  S·N·L·多纳斯 ,  弗朗西斯克斯·约翰内斯·约瑟芬·詹森 ,  E·库尔干诺娃 ,  A·J·沃尔夫 ,  T·J·W·巴克 ,  V·D·希尔德布兰德 ,  保罗·亚历山大·维梅伦 ,  M·安格尔 ,  B·A·J·卢蒂克惠斯 ,  R·范德含 ,  J·P·J·范勒比锡格

IPC: G03F1/62 ,  G03F7/20

Abstract: 一种光刻设备，包括：照射系统；支撑结构；衬底台；投影系统以及加热系统。所述照射系统被配置成调节辐射束。所述支撑结构被构造成支撑掩模版和表膜组件，所述掩模版和表膜组件用于接收由所述照射系统调节的所述辐射束。所述衬底台被构造成支撑衬底。所述投影系统被配置成接收来自所述掩模版‑表膜组件的所述辐射束并将所述辐射束投影至所述衬底上。所述加热系统可操作以加热由所述支撑结构支撑的所述掩模版‑表膜组件的表膜。一种用于使用掩模版‑表膜组件的方法，包括：用辐射束照射所述掩模版‑表膜组件，以便在衬底上形成经图案化的图像；和使用单独的热源来加热所述掩模版‑表膜组件的所述表膜。