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公开(公告)号：CN112987484B
公开(公告)日：2024-09-10
申请号：CN202110223505.4
申请日：2016-06-15
Applicant: HOYA株式会社
Inventor： 小林周平
IPC: G03F1/26
Abstract: 本发明提供在图案的转印时能够形成有利形状的抗蚀剂图案且显示出优异的转印性的光掩模、光掩模的制造方法、光掩模的设计方法、光掩模坯料和显示装置的制造方法。光掩模在透明基板上具备包含经图案化的相移膜的转印用图案。上述转印用图案包含在上述透明基板上形成有相移膜的相移部、和上述透明基板露出的透光部。设上述相移膜具有的、对于g线的相移量(度)为#imgabs0#对于h线的相移量(度)为#imgabs1#对于i线的相移量(度)为#imgabs2#时，则满足#imgabs3#且这些#imgabs4#中，最接近180度的值为#imgabs5#
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公开(公告)号：CN111077727B
公开(公告)日：2024-06-11
申请号：CN201910992027.6
申请日：2019-10-18
Applicant: HOYA株式会社
Inventor： 小林周平
Abstract: 本发明提供光掩模、光掩模的制造方法和电子器件的制造方法，课题在于提供一种能够使用接近式曝光装置进行高分辨率的光刻的光掩模。光掩模(10)为一种接近式曝光用的光掩模，其具备对形成在透明基板(21)上的透射控制膜进行图案化而成的转印用图案，其中，上述转印用图案包含：透射控制部(36)，其为宽度10μm以下的线状，是在上述透明基板(21)上形成透射控制膜而成的；以及透光部(37)，上述透明基板(21)在透光部(37)露出，并且该透光部(37)与上述透射控制部(36)相邻。上述透射控制部(36)相对于对上述光掩模(10)进行曝光的曝光光具有大于180度的相移量。
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公开(公告)号：CN111077727A
公开(公告)日：2020-04-28
申请号：CN201910992027.6
申请日：2019-10-18
Applicant: HOYA株式会社
Inventor： 小林周平
Abstract: 本发明提供光掩模、光掩模的制造方法和电子器件的制造方法，课题在于提供一种能够使用接近式曝光装置进行高分辨率的光刻的光掩模。光掩模(10)为一种接近式曝光用的光掩模，其具备对形成在透明基板(21)上的透射控制膜进行图案化而成的转印用图案，其中，上述转印用图案包含：透射控制部(36)，其为宽度10μm以下的线状，是在上述透明基板(21)上形成透射控制膜而成的；以及透光部(37)，上述透明基板(21)在透光部(37)露出，并且该透光部(37)与上述透射控制部(36)相邻。上述透射控制部(36)相对于对上述光掩模(10)进行曝光的曝光光具有大于180度的相移量。
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公开(公告)号：CN111077725B
公开(公告)日：2023-10-27
申请号：CN201910993158.6
申请日：2019-10-18
Applicant: HOYA株式会社
Inventor： 小林周平
IPC: G03F1/32
Abstract: 提供光掩模、光掩模的制造方法以及电子设备的制造方法，能够使用接近曝光装置来进行保真度高的图案转印。光掩模(10)是一种接近曝光用的光掩模，其具有对形成在透明基板上的透射控制膜进行图案形成而构成的转印用图案，其中，所述转印用图案具有：透射控制部，其是在所述透明基板上形成透射控制膜而构成的；以及透光部，在该透光部中所述透明基板露出。所述透射控制部对于对所述光掩模进行曝光的曝光光具有超过180度的相移量。
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公开(公告)号：CN110262182B
公开(公告)日：2023-05-26
申请号：CN201910485133.5
申请日：2016-06-15
Applicant: HOYA株式会社
Inventor： 小林周平
IPC: G03F1/26
Abstract: 本发明提供在图案的转印时能够形成有利形状的抗蚀剂图案且显示出优异的转印性的光掩模、光掩模的制造方法、光掩模的设计方法、光掩模坯料和显示装置的制造方法。光掩模在透明基板上具备包含经图案化的相移膜的转印用图案。上述转印用图案包含在上述透明基板上形成有相移膜的相移部、和上述透明基板露出的透光部。设上述相移膜具有的、对于g线的相移量(度)为对于h线的相移量(度)为对于i线的相移量(度)为时，则满足且这些中，最接近180度的值为
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公开(公告)号：CN111077725A
公开(公告)日：2020-04-28
申请号：CN201910993158.6
申请日：2019-10-18
Applicant: HOYA株式会社
Inventor： 小林周平
IPC: G03F1/32
Abstract: 提供光掩模、光掩模的制造方法以及电子设备的制造方法，能够使用接近曝光装置来进行保真度高的图案转印。光掩模(10)是一种接近曝光用的光掩模，其具有对形成在透明基板上的透射控制膜进行图案形成而构成的转印用图案，其中，所述转印用图案具有：透射控制部，其是在所述透明基板上形成透射控制膜而构成的；以及透光部，在该透光部中所述透明基板露出。所述透射控制部对于对所述光掩模进行曝光的曝光光具有超过180度的相移量。
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公开(公告)号：CN103676468A
公开(公告)日：2014-03-26
申请号：CN201310439264.2
申请日：2013-09-24
Applicant: HOYA株式会社
IPC: G03F1/80
Abstract: 光掩模及其制造方法、转印方法及平板显示器的制造方法。其中多色调光掩模包含透光部、遮光部、第1半透光部和第2半透光部，第1半透光部是在透明基板上形成第1半透光膜而成，第2半透光部是在透明基板上形成第2半透光膜而成，所述制造方法具有：在透明基板上层叠第1半透光膜、遮光膜和第1抗蚀剂膜；对第1抗蚀剂膜实施第1描绘来形成第1抗蚀剂图案；蚀刻遮光膜和第1半透光膜；形成第2半透光膜和第2抗蚀剂膜；对第2抗蚀剂膜实施第2描绘来形成第2抗蚀剂图案；蚀刻第2半透光膜，以在第1半透光部与第2半透光部的边界处，第1半透光膜和第2半透光膜的周缘部具有预定范围的重叠量的重叠的方式形成第1描绘或第2描绘的描绘数据。
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公开(公告)号：CN113406857A
公开(公告)日：2021-09-17
申请号：CN202110274446.3
申请日：2021-03-15
Applicant: HOYA株式会社
Inventor： 小林周平
IPC: G03F1/26
Abstract: 本发明提供光掩模以及显示装置的制造方法，具有通过使用中紫外曝光用光进行曝光，从而在被转印体上转印微细的孔图案的优异的转印性能。一种光掩模，光掩模是显示装置制造用的光掩模，光掩模用于在被转印体上使用中紫外曝光用光形成尺寸为Dp且Dp≤3μm的孔图案，在透明基板上具有包含孔图案的转印用图案，转印用图案中的孔图案由被半调区域包围的透光部构成，对于用于对光掩模进行曝光的中紫外曝光用光中包含的基准波长的光，透光部与半调区域的相位差θ大致为180度，并且半调区域对于基准波长的光的透射率T为10％≤T≤35％。
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公开(公告)号：CN108073033B
公开(公告)日：2021-08-06
申请号：CN201711075875.8
申请日：2017-11-06
Applicant: HOYA株式会社
Inventor： 小林周平
IPC: G03F1/38
Abstract: 提供光掩模、其制造方法以及显示装置的制造方法。抑制在对光掩模的转印用图案进行了细微化、高密度化时容易产生的转印像的角部的变圆。本发明的接近曝光用的光掩模在透明基板上具有用于转印到被转印体上的转印用图案。转印用图案包含：主图案；辅助图案，其与主图案隔开地配置在主图案具有的角部的附近。主图案在透明基板上形成有第1透光控制膜，辅助图案在透明基板上形成有第2透光控制膜，并且具有无法通过曝光而析像到被转印体上的尺寸。
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公开(公告)号：CN108073033A
公开(公告)日：2018-05-25
申请号：CN201711075875.8
申请日：2017-11-06
Applicant: HOYA株式会社
Inventor： 小林周平
IPC: G03F1/38
CPC classification number: G03F1/38
Abstract: 提供光掩模、其制造方法以及显示装置的制造方法。抑制在对光掩模的转印用图案进行了细微化、高密度化时容易产生的转印像的角部的变圆。本发明的接近曝光用的光掩模在透明基板上具有用于转印到被转印体上的转印用图案。转印用图案包含：主图案；辅助图案，其与主图案隔开地配置在主图案具有的角部的附近。主图案在透明基板上形成有第1透光控制膜，辅助图案在透明基板上形成有第2透光控制膜，并且具有无法通过曝光而析像到被转印体上的尺寸。
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